【課題】 これまでの洗浄液では、十分な洗浄を行うことができなかったＡｒＦ仕様のレジストに対して一様に良好な洗浄性を示し、処理後の乾燥性がよく、しかも洗浄によりレジストの特性がそこなわれることのない洗浄液を提供する。
【解決手段】 （Ａ）低級アルキルケトン５〜１００質量％及び（Ｂ）γ‐ブチロラクトン９５〜０質量％からなるリソグラフィー用洗浄液とする。 （もっと読む）

【課題】金属のマスキングによって多段のエッチングを施し、高アスペクト比を持つ金属パターン、或いは回路基板を形成する。
【解決手段】銅板１０の両面又は片面にレジスト１２を塗布し、このレジスト１２をパターニングしてレジストパターン１２ａを形成し、このレジストパターン１２ａを利用してスズめっき層１４を形成し、このスズめっき層１４をマスキングとして銅板１０を選択ハーフエッチングし、ポジ型レジスト１８の塗布、露光・現像して、スズめっき層１４の下部のサイドエッチング部をポジ型レジスト１８ｂで保護し、スズめっき層１４及び保護レジスト層１８ｂをマスキングとして再度ハーフエッチングを施す。この工程を繰り返し、最終的にマスキングとして使用したレジスト１８ｂ及びスズめっき層１４を除去して金属パターンを得る。 （もっと読む）

【課題】帯状プラスチックフィルム支持体上にフィラー含有塗布液を塗布する際擦り傷の発生やフィラーの沈殿もなく、長時間の連続塗布が可能な塗布装置を用いた塗布方法により、親水性層、画像形成層を順次設ける平版印刷用原版の製造方法の提供。
【解決手段】塗布液供給部４ｅは、塗布液調製タンク４ｅ１と、塗布液循環４ｅ２と、フィラー沈降防止タンク４ｅ３と、送液ポンプ４ｅ４と、フィルター４ｅ５と、塗布液調製タンク４ｅ１と塗布液循環タンク４ｅ２とを繋ぐ送液管４ｅ６ａと、噴霧装置４ｂ１と塗布液循環タンク４ｅ２と、フィラー沈降防止タンク４ｅ３とを繋ぐ送液管４ｅ６ｂと、噴霧装置４ｂ１と塗布液循環タンク４ｅ２とを繋ぐ送液管４ｅ６ｃとを有する。フィラー沈降防止タンク４ｅ３は、沈降防止手段である回転ローターを有する分散機５ａを有する。塗布液循環タンク４ｅ２は沈降防止手段である回転ローターを有する分散機５ｂを有する。 （もっと読む）

【課題】液浸露光流体とレンズの汚染を減少し、ウェハ上の欠陥を減少する液浸リソグラフィ処理を提供する。
【解決手段】半導体ウェハ上に液浸リソグラフィを実施する方法を提供する。この方法は、半導体ウェハの表面にレジスト層を提供する工程を有する。次に、エッジビード除去処理により、毎分1000回転よりも速い速度でウェハを回転し、このウェハの回転中にノズルを通して溶剤を供給する。次に、液浸リソグラフィ装置を使用して、レジスト層を露光する。 （もっと読む）

【課題】グローバル・アライメント・マークをエッチングする必要なしにデバイス作製プロセス中に基板上の表面マークの挙動を分析する方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、基板の表面上に複数の表面マークを作製するデバイス作製方法に関し、これらのマークは、露光時に基板を局所的に整合させるために使用される。いくつかの加工ステップの後、表面マークの位置を測定し、それらの元の位置と比較する。次いで、表面マークの測定された位置の変化、すなわちそれらの挙動を分析することができる。これらの元の位置及び実際の位置は、基板の裏面に位置するグローバル・アライメント・マークを用いて定義される公称グリッドに対して定義される。グローバル・アライメント・マークは裏面に位置するので、いかなる加工ステップの影響も受けない。 （もっと読む）

【課題】記録層の耐キズ性、耐薬品性が良好であり、且つ、現像ラチチュードが広く、微細画像の再現性に優れる赤外線レーザ感光型平版印刷版原版の製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、下記一般式（１）で表される置換基によって置換されたフェニル基を有するモノマー単位を含むアルカリ可溶性樹脂と、赤外線吸収剤と、を含有する記録層を備えた平版印刷版原版の製造方法であって、前記支持体上に前記記録層を塗布、乾燥した後、前記支持体上に前記記録層を塗布、乾燥した後、温度６０℃以上１００℃以下、湿度６０％以上９５％以下の環境下で５時間以上エージング処理する。


一般式（１） （もっと読む）

【課題】 本発明では、ブラックマトリックスパターンやカラーフィルターを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として少量で高い洗浄効果を発揮する洗浄剤を提供する。
【解決手段】 半導体基板または液晶パネル用基板に固着した感光性樹脂組成物を溶解させて除去可能な少なくとも一種の溶剤と、その感光性樹脂組成物中に含有される無機顔料をその基板の表面から剥離させることを促進させる芳香族化合物とを有することにより、上記課題の解決を図る。 （もっと読む）

【課題】 本発明では、ブラックマトリックスパターンやカラーフィルターを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として少量で高い洗浄効果を発揮する洗浄剤を提供する。
【解決手段】 顔料分散型の感光性樹脂組成物を除去するための洗浄剤は、アルキルベンゼンを含有する芳香族系化合物を有することにより、上記課題の解決を図る。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、現像後水洗部の水洗水を循環させ長期にわたって使用しても、感光性平版印刷版材料や現像処理液組成物や各種添加剤等からの蓄積物が該現像後水洗部の水洗水へ混入蓄積するのを防止して、洗浄不十分、スラッジの付着等がなく、安定した現像処理ができる感光性平版印刷版材料の自動現像処理装置、および該自動現像処理装置を用いた平版印刷版を提供をすることにある。
【解決手段】 感光性平版印刷版材料を現像処理後に版面に付着した現像液を水洗水で洗い流す後水洗部を有する自動現像処理装置において、該後水洗部の水洗水を以下の手段で処理することを特徴とする自動現像処理装置。
Ａ）水洗水の水質を監視する手段
Ｂ）水質劣化を表示する手段 （もっと読む）

【課題】基板との密着性に優れ、所望の領域に種々の機能性材料を付与することで、安価な装置を用いて簡易に機能性パターンを形成しうるグラフトパターンの形成方法、及び、基板との密着性と導電性に優れた導電性パターンを安価な装置を用いて簡易に形成しうる導電性パターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光によりラジカルを発生しうる基材表面上に、ラジカル重合可能な不飽和化合物を接触させ、３６０ｎｍ〜７００ｎｍの波長のレーザにより像様露光して、該基材表面上に基材と直接結合したグラフトポリマーをパターン状に生成させることを特徴とするグラフトパターン形成方法である。ここで形成されたグラフトポリマー生成領域に導電性を付与することで導電性パターンを形成しうる。 （もっと読む）

【課題】 現像後のレジストパターンの整形を精巧に行って、かつレジストの残渣を除去し、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能とし、しかも、レジストの架橋部（硬化膜）に欠けや剥離、膨潤などを生じることなく、高い解像度と基体と感光層との密着性とを高度に両立したパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に感光層を少なくとも有するパターン形成材料における該感光層を、被処理基体上に積層し、該感光層を露光し、現像してレジストパターンを形成した後、該レジストパターンに対してドライプロセスによりレジストパターン整形工程が行われるパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】印刷または転写に使用する版が、種々の理由で摩耗したり、キズがついたりした場合、再生が容易な版を提供する。
【解決手段】印刷用インクの印刷または転写用インクの転写に使用する版１であって、少なくとも裏面露光光透過性の支持基板２の上に、印刷または転写すべきパターンのポジパターンまたはネガパターンにして裏面露光光遮光性の遮光性膜３を設け、遮光性膜３を覆うようにして前記支持基板２の上に裏面露光光透過性層４を積層し、裏面露光光透過性層４の上に位置する版面５に、遮光性膜３をフォトマスクとして裏面露光法・現像法によって形成してなる版パターン部１０を設けた。 （もっと読む）

【課題】 露光された無機レジストを長時間現像する際に、現像工程を自動化し、現像液を再使用し、精密な制御を可能にする。
【解決手段】 被処理原盤２１がスピンテーブル２２に取り付けられてからプリリンス工程Ｓ１がなされる。次に、現像工程Ｓ２において第１段階の現像がなされる。現像が終了すると、リンス工程Ｓ３がなされる。そして、スピン乾燥工程Ｓ４がなされる。スピン乾燥工程Ｓ４が終了した段階で、モニタリング工程Ｓ５において、現像の進行度合いが測定される。モニタリング工程Ｓ５の測定結果から追加現像が必要か否かが判定工程Ｓ６で判定される。この判定結果に基づいて、工程Ｓ１（プリリンス）から再び追加現像処理がなされる。追加現像後に、現像が設定した段階となると、現像終了と判定される。その場合には、ポストリンス工程Ｓ７がなされる。 （もっと読む）

【課題】ベースフィルムに感光性樹脂シート片を点在状に配設することにより、感光性樹脂および現像液の使用量を大幅に削減した印刷用樹脂凸版の製造方法において、作業の簡易化および高効率化を図る。
【解決手段】前記所望の印刷イメージを配置デジタル情報として取得し、この配置デジタル情報に基づき、前記印刷凸部を形成するに必要な複数の最適領域を前記印刷イメージの各ブロックとして算定し、前記感光性樹脂シートから各ブロックの最適領域に対応する感光性樹脂シート片を裁断し、前記各ブロックの最適領域の位置情報に基づき、前記各感光性樹脂シート片の前記ベースフィルム表面への設置位置を該ベースフィルム表面にマーキングし、各配置位置マーク上に該各配置位置マークに対応する前記各感光性樹脂シート片を配設する。 （もっと読む）

【課題】 高精度な厚みと印刷に好適な表面平滑性による印刷適正が高く且つ完全に継ぎ目のないスリーブ印刷原版を製造することができ、従来のネガフィルム作製工程や溶液現像液工程を不要とすることによる作業性の向上、省資源化及び環境保全を図ること。
【解決手段】 感光性樹脂を押出機２２００に注入し、ブリッジシリンダ２００と一体化した印刷用スリーブ１００をリングダイ２３００の内部を走行させながら印刷用スリーブ１００の外周面に液状感光性樹脂をシームレス態様で均一な厚みにコーティングした後に、ワーク５００を回転させながら高強度な紫外線で露光して光硬化させた感光性樹脂硬化層を形成する。 （もっと読む）

【課題】塗布膜中に短時間で高効率に酸素を導入することができる。
【解決手段】塗布膜中の酸素量を調整する方法において、オゾン発生器４２から水タンク４０の水にオゾンを供給することにより、酸素ガスを飽和状態に溶解した酸素溶解水をミスト発生装置３２からミストを塗布膜１４ａに向けて噴霧して付与することにより、水をキャリアとして塗布膜１４ａ中に酸素を導入する。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成された当初の有機膜パターンが、少なくとも２段階以上の膜厚に形成された有機膜パターンであり、前記有機膜パターンに対する２回目の現像処理により前記有機膜パターンを新たなパターン形状に加工する処理をスムーズに行うことを可能とする基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成された当初の有機膜パターンが、少なくとも２段階以上の膜厚に形成された有機膜パターンであり、前記有機膜パターンに対し、前記有機膜パターンの表面に形成されたダメージ層を除去する前処理Ｓ１１と、前記有機膜パターンの少なくとも一部を縮小するか又は前記有機膜パターンの一部を除去する現像処理（２回目）Ｓ１２と、をこの順に行う。前処理Ｓ１１によりダメージ層を除去した後で現像処理Ｓ１２を行うので、２回目の現像処理Ｓ１２をスムーズに均一性良く行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 良好に現像残渣を分離除去するウェット処理装置を提供する。
【解決手段】 露光処理したワークに現像液を噴出して現像処理した後の処理現像液を、膜分離装置３２２で、現像残渣を除去した現像処理液と、現像残渣を含む現像濃縮液とに膜分離する。処理現像液は、現像処理で利用する現像液に未使用の現像液を補充する量と略同量で現像濃縮液を排出する条件で膜分離する。現像再生液は、現像液として再利用する。現像濃縮液は、遠心分離装置３２３Ｂにてスラリと現像廃液とに分離して別途処理する。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で良好に現像残渣を分離除去するウェット処理装置を提供する。
【解決手段】 露光処理したワークに現像液を噴出して現像処理した後の処理現像液を、沈殿分離槽３２２Ａに流入させ、現像残渣を除去した現像処理液と、現像残渣を含む現像濃縮液とに沈殿分離する。処理現像液は、現像処理で利用する現像液に未使用の現像液を補充する量と略同量で沈殿分離槽３２２Ａから排出する現像濃縮液の最大沈殿量に対応する水深位置Ｘの直上近傍で周方向に内周面に沿って流入させる。上澄み分を現像処理液として回収し、現像濃縮液は、遠心分離装置３２３Ａにてスラリと分離液とに分離する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、半導体ウェハ加工工程において、残渣物を洗浄するための組成物及び洗浄方法に関する。
【解決手段】前記組成物は、（ａ）ホウ素化合物、（ｂ）少なくとも１種の有機溶媒、（ｃ）少なくとも１種の無機酸または有機酸、（ｄ） 少なくとも１種の塩基性化合物、及び（ｅ）水を含有する。また、この組成物に任意成分として、（ｆ）少なくとも１種のメルカプト基を有する防食剤を加えてもよい。 （もっと読む）