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Fターム[2H096LA30]の内容

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Fターム[2H096LA30]に分類される特許

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【課題】 煩雑な工程で形成されるレジストパターンを用いずに微細なパターンを形成し得る方法を提供する。
【解決手段】 基材の被エッチング層表面に重合開始剤を含む下地活性層を選択的に形成する工程と、有機モノマーをリビングラジカル重合させて前記下地活性層に重合体層を形成する工程と、前記重合体層をマスクとして前記被エッチング層を選択的にエッチングする工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 カール量の測定をより正確に行うことの可能な平版印刷版のカール量測定方法と、このカール量測定方法を適用してカール矯正をより確実に行うことの可能な平版印刷版のカール矯正方法及びカール矯正装置を得る。
【解決手段】 カール量測定具56を使用し、平版印刷版30全体を鉛直下方へと吊り下げて、保持辺(上端辺)と対向辺(下端辺)の距離Aを測定し、吊るしカール量(A−B)を得る。平版印刷版30を水平な平台においてカール量を測定しないので、正確且つ0mm付近での高感度の測定が可能となる。この吊るしカール量の値に基づいてカール矯正装置13をフィードバック制御するので、より確実にカール矯正できる。 (もっと読む)


【課題】半導体製造の微細なパターン形成に用いられるレジスト膜として好適な、保存中のパーティクルの析出が僅かであるために現像欠陥が極めて少ない半導体レジスト用共重合体を得ることのできる半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法を提供する。
【解決手段】本発明は、極性基を有する繰り返し単位と脂環構造を有する繰り返し単位とを有する半導体レジスト用共重合体を含み、且つ、イオン性添加剤を含まない半導体レジスト用共重合体溶液を、アミノ基及び/又はアミド結合を有する樹脂を含むフィルターに通過させることを特徴とする半導体レジスト用共重合体におけるパーティクルの増加防止方法である。 (もっと読む)


【課題】 カラーフィルターやブラックマトリックスパターンを形成するための顔料分散型感光性樹脂組成物の洗浄用として特に優れた洗浄除去用溶剤を提供する。
【解決手段】 洗浄除去溶剤として、ハンセン(Hansen)溶解パラメータにおける水素結合力パラメータ(δ)が5〜10の溶剤を用いる。 (もっと読む)


【課題】基板の周縁のフォトレジストを完全に除去するとともに、フォトレジストの外周部の盛り上がりを低減したフォトレジスト塗布方法を提供すること。
【解決手段】基板21を回転させてフォトレジスト31をスピンコートするフォトレジスト塗布工程と、基板21を回転させながら基板21の周縁21Aに溶剤41を供給し、基板21の周縁21Aからフォトレジスト31を除去する周縁洗浄工程と、基板21を回転させながらフォトレジスト31の表面を乾燥させるフォトレジスト乾燥工程とで構成し、周縁洗浄工程とフォトレジスト乾燥工程とを複数回繰り返して、基板周縁のフォトレジスト31の残渣を除去するとともに、フォトレジスト31の外周部の盛り上がりを低減するようにした。 (もっと読む)


【課題】 レーザ転写用ドナー基板の製造装置とその製造方法及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 レーザ転写用ドナー基板の製造装置は、真空チャンバ、該真空チャンバ内部をインライン(in−line)で移動しながら通過するドナー基板、及び該真空チャンバ内に形成され、該ドナー基板上に転写層を形成させる蒸着装置を含むことを特徴とする。前記レーザ転写用ドナー基板の製造方法及びそれを用いた有機電界発光素子の製造方法は、真空チャンバ内部をドナー基板がインラインに移動しながら通過し、前記真空チャンバ内に形成された蒸着装置が前記ドナー基板上に転写層を形成することを特徴とする。高真空を維持する真空チャンバ内で転写層、特に低分子有機発光層を連続して形成することができ、また該転写層で形成されたレーザ転写用ドナー基板を大量生産することができると言うメリットがある。また、これを用いた大面積の有機電界発光素子が製造できるメリットを提供する。 (もっと読む)


【解決手段】 現像後のフォトレジストパターン上に、水溶性のチタンを含有する膜を形成し、チタンを含有する材料をフォトレジストパターン表面に付着させ、フォトレジスト膜以外のチタンを含有する材料を除くことによってフォトレジストパターンの表面だけをチタン保護することを特徴とするパターン形成方法。
【効果】 本発明によれば、ポジネガ反転を伴うことなく、またドライエッチングの回数を増やすことなく、高いアスペクトエッチングパターンを形成できる。また、本発明のレジストパターンハードマスクプロセスは、単層レジストとドライエッチングの回数は同じである。単層レジストプロセスにレジスト現像後の保護膜材料の塗布、ベーク、純水による剥離が追加されるが、特別な装置は必要なく、従来のトラックシステムをそのまま用いることができる。 (もっと読む)


【課題】 合紙の挟み込みのない状態で平版印刷版原版を積層して保存及び搬送に供する場合であっても、平版印刷版原版の支持体裏面側の最表面と、隣接する平版印刷版原版のネガ型記録層側の最表面と、の密着性を低下させることができ、ハンドリング性能に優れた平版印刷版原版を提供すること。また、この平版印刷版原版を積層してなる平版印刷版原版積層体、及びそれを用いた製版方法を提供すること。
【解決手段】 親水性を示すアルミニウム支持体表面に、少なくとも、光又は熱によりラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、放射線吸収剤と、を含有するネガ型記録層を設けた平版印刷版原版であって、
前記アルミニウム支持体裏面側の最表面におけるベック平滑度が1000秒以下であることを特徴とする平版印刷版原版、その平版印刷版原版を積層してなる平版印刷版原版積層体、及びその製版方法。 (もっと読む)


【課題】 平版印刷版原版をあいだに合紙を挟むことなく積層して搬送及び保存に供しても、オーバーコート層の表面にキズが入ることを防止し、汚れや白キズのない高品質の画像を形成することの可能な平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】 親水性表面を有するアルミニウム支持体上に、光又は熱によりラジカルを発生する化合物と、重合性化合物と、赤外線吸収剤とを含有するネガ型記録層と、水溶性樹脂からなるオーバーコート層とを順次設けてなる平版印刷版原版であって、該オーバーコート層の表面と該支持体裏面との動摩擦係数が0.2〜0.7の範囲にあることを特徴とする。このような動摩擦係数は、アルミニウム支持体の裏面側にバック層を設けることで容易に達成することができる。 (もっと読む)


【課題】 画像の欠けが防止された液晶表示装置、及びこれを製造するためのパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 仮支持体上に少なくとも一層の感光性樹脂層を有する感光性転写材料を基板に転写する工程、所望のパターンで露光する露光工程、及び、現像処理により不要部を除去する現像工程、を含み、かつこの順で実施されるパターン形成方法であって、前記転写工程と前記露光工程との間に、前記感光性転写材料を転写した基板を加熱する基板加熱工程を含むことを特徴とするパターン形成方法。また、少なくとも一層のナフトキノンジアジド誘導体を含む感光性転写材料の転写工程の基板温度が120℃以上180℃以下、又はロール温度が130℃以上160℃以下又は搬送速度が1m/分以上2m/分以下であるパターン形成方法。また、熱可塑性樹脂と中間層がある場合には、前記転写工程と前記露光工程との間に、該熱可塑性樹脂層と該中間層とを除去する工程を含むパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】 現像後の洗浄時にウェハを回転させないで高い洗浄能力を維持し,さらに洗浄液の消費量を抑える。
【解決手段】 現像処理装置30に,チャック120に保持されたウェハW上を移動する帯電棒173が設けられる。ウェハWに現像液が液盛りされ,所定時間が経過すると,帯電棒173が,現像液中の現像生成物と逆の電荷に帯電された状態で,ウェハW上の現像液中を移動する。このとき,現像液中の現像生成物が静電気により帯電棒173に捕集される。この結果,その後にウェハWに対する洗浄液の供給を非回転で,少量の洗浄液で行っても,ウェハWを十分に洗浄できる。 (もっと読む)


(a)平版用基板上に画像領域と非画像領域とを含む平版印刷版を、以下に規定する一般式(I)の少なくとも1種のホスホノ置換型シロキサンを含む溶液と接触させ、そして(b)乾燥させることを含んで成る画像形成された平版印刷版の後処理方法。

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【課題】 本発明の目的は、現像レスを実現した平版印刷版の露光部を明瞭に、かつ簡便に確認するための検版方法、およびそれに用いる検版台を提供すること。
【解決手段】 透明支持体上に感光層を設けた平版印刷用原版を白色コート紙上で測定して得られた色度及び明度を基準として、色差がΔE*ab≧100又は明度差が|ΔL*|≧50である部材の上に、露光後の平版印刷版を配置して該平版印刷版を検版することを特徴とする検版方法および透明支持体上に感光層を設けた平版印刷用原版を白色コート紙上で測定して得られる色度及び明度を基準として、色差がΔE*ab≧100又は明度差が|ΔL*|≧50である部材の上に、被験される露光後の平版印刷版を配置する構造を有することを特徴とする平版印刷版の検版台。 (もっと読む)


【課題】 レーザー露光により視認性良好な色画像が得られる画像形成材料および平版印刷版原版および平版印刷方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、下記の一般式(1)で表される熱によって無色から有色へと変化する化合物を含有する層を設けてなる画像形成材料および平版印刷版原版、並びに該平版印刷版原版を用いる機上現像を含む平版印刷方法。
【化1】
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【課題】 フローによる線幅の増加量のばらつきの管理を光学的検査装置を用いて高い測定精度、且つ高スループットに行うことができるプロセス管理方法を提供する。
【解決手段】 半導体基板上に第1ラインと第1ラインと平行に配置され、第1ラインより細い複数の第2ラインを有する検査用パターン、及び第1ラインの延伸する方向に対して直交する方向に基準パターンをそれぞれレジストにより形成するステップと、レジストを加熱して、検査用パターン及び基準パターンをそれぞれフローさせるステップと、フロー後の検査用パターンと基準パターンの中心間距離を測定するステップと、中心間距離の測定に基づいて、フロー後の検査用パターン及び基準パターンの線幅の増加量のばらつきを調べるステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】基板の反処理面に被処理物を再析出・付着させずにウェット処理が行えるウェット装置を提供することである。
【解決手段】現像装置20は、ワーク100上の未硬化レジストを除去させる第1処理液をワーク100の被処理面側に噴出し使用後の第1処理液を回収して再び第1処理液として再使用する第1処理液再使用機構23と、被処理面とは反対側の面である反処理面に対して未使用である第2処理液を噴出する第2処理液噴出機構24とを有する。ワーク100の被処理面側に噴出された第1処理液は、反処理面側に対して吹きかけられた第2処理液によってワーク100の反処理面に回りこまない。このため、ワーク100の反処理面に未硬化レジストを再析出・付着させずに現像処理が行える。
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【課題】 表面変質層が形成されたレジストパターンを容易に除去する。
【解決手段】 例えば、まず、窒化シリコンからなるオーバーコート膜13をその上に形成されたコンタクトホール15形成用のレジストパターン24をマスクとしてドライエッチングしてコンタクトホール15を形成すると、レジストパターン24の表面に表面変質層24aが形成される。次に、表面変質層24aを含むレジストパターン24をモノエタノールアミンを主成分とするレジスト剥離液を用いて剥離する。この場合、表面変質層24aは上記レジスト剥離液に溶解しないため、表面変質層24aが残渣としてある程度残る。そこで、次に、この表面変質層残渣を水素水中でメガソニック洗浄を行なって除去する。 (もっと読む)


【課題】炭酸ガスの溶解を防止するという意味では望ましいが大きなグラビアシリンダの回転部への脱着が必要なグラビア製版工程では全体の気密性の保持がむつかしく大量の不活性ガスの使用によるコストおよび酸欠等の安全面からも実用が困難であった。また、基材表面を少量の不活性ガスで被覆するのは回転しながら現像するというグラビア製版工程では適した方式ではなく、基材表面以外の空気接触を遮断することが出来ないので現像作業時間以外の炭酸ガスの溶解を防止する効果もない問題点を解決することが求められていた。
【解決手段】アルカリ現像液表面に疎水性の流体層を存在させることを特徴とする現像液劣化防止方法、とくにその疎水性の流体としてジメチルシリコーンオイルを用いる現像液劣化防止方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 表面変質層が形成されたレジストパターンを容易に除去する。
【解決手段】 例えば、まず、窒化シリコンからなるオーバーコート膜13をその上に形成されたコンタクトホール15形成用のレジストパターン24をマスクとしてドライエッチングしてコンタクトホール15を形成すると、レジストパターン24の表面に表面変質層24aが形成される。次に、表面変質層24aをオゾン水中でメガソニック洗浄を行なって除去する。次に、レジストパターン24をモノエタノールアミンを主成分とするレジスト剥離液を用いて剥離する。 (もっと読む)


【課題】 簡単且つ低コストで、十分な遮光性及び防湿性を満たしつつ平版印刷版の版束を外力から確実に保護して包装でき、しかも平版印刷版のサイズの変更にも対応可能な平版印刷版包装構造を得る。
【解決手段】 版束12に対し、その積層方向の両端面に、段ボール製の板状包装材34を接触配置する。板状包装材34は、平版印刷版よりも大サイズとされ、周縁部分34Eを接着剤38によって接着するだけで、平版印刷版包装構造が得られる。板状包装材34としては、平版印刷版10に対して周縁部分34Eが構成されれば包装可能なので、大サイズの平版印刷版に対応した板状包装材34を用意しておけば、平版印刷版10のサイズが変更されても板状包装材34で包装できる。 (もっと読む)


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