【課題】 ＵＶ露光により画像形成可能で、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐薬品性、表面硬度、耐熱性、耐湿性及び絶縁性などを発現する感光性組成物及びこれを用いた感光性フィルム、並びに、該感光性フィルムを用い、薄層化された永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、ソルダーレジストなど）であっても、実装時の熱履歴や温度サイクル試験（ＴＣＴ）における耐熱疲労性に優れ、高加速度試験（ＨＡＳＴ）におけるイオンマイグレーションの発生がなく、耐湿性に優れた高精細な永久パターン及びその効率的な形成方法を提供。
【解決手段】 アルカリ可溶性光架橋性樹脂と、重合性化合物と、光重合開始剤と、熱架橋剤と、エラストマーと、無機充填剤と、着色剤と、熱硬化促進剤と、溶剤とを含む感光性組成物であって、該感光性組成物が、イオン吸着剤でイオン吸着処理されてなることを特徴とする感光性組成物。 （もっと読む）

【課題】 印刷スクリーン用メッシュ織物に加工する際、寸法安定性が良好で、製織時や使用時の耐摩耗および耐疲労性に優れ、感光、露光工程でのハレーション防止に優れたスクリーン紗用モノフィラメントを安価に得る。
【解決手段】 単一のポリエステル成分からなるスクリーン紗用モノフィラメントにおいて、極限粘度［η］が０．７０〜０．８５であるポリエステルに、０．５〜１．０重量％の有機系顔料を混入したデラミ発生指数が１０％以上、伸度１０％時の強度が４．３ｃＮ／ｄｔｅｘ以上であるスクリーン紗用モノフィラメントを得る。 （もっと読む）

【課題】 ウェハにレジストパターンを形成するフォトリソグラフィー工程における条件設定を適正に行い，レジストパターンの線幅の基板面内の均一性を向上する。
【解決手段】 既存の処理条件の設定のフォトリソグラフィー工程において，光源の０次光のみを所定の減光率で減光させて透過させるマスクを用いて，ウェハＷ上のレジスト膜を露光し，その後加熱し，現像して，ウェハＷ上のレジスト膜を減少させる。その後，そのレジスト膜の膜厚の減少量を測定する。その後，その測定された膜厚減少量を，膜厚減少量と線幅との相関関数により，既存の処理条件時のレジストパターンの線幅に換算する。この換算された線幅に基づいて，露光後の加熱時の加熱温度の温度設定を行う。 （もっと読む）

【課題】 残膜等の品質故障を防止し、得率を向上させることができる感光性平版印刷版及びその製造方法を得る。
【解決手段】 ＰＳ版３０のエッジ部に相当する部分の塗布層７７を予め脱膜除去することで、ウェブを裁断するときの押圧力によって生じる圧力カブリ自体が発生しない。圧力カブリが生じた状態でＰＳ版３０を使用して印刷を行うと、残膜が発生するが、圧力カブリ自体が発生しないため、該残膜は生じない。このため、耳ロスを少なくすることができ、得率（塗布幅あたりの生産効率）を向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 フィニッシャ−ローラに付着する析出物（カス）が金属製円柱棒に転写しないようにして、画像欠陥の出ない平版印刷版処理装置を提供する。
【解決手段】 感光材料が塗設された平版印刷版を少なくとも現像プロセス、水洗プロセス、フィニッシャープロセスを順に設けて処理を行なう処理装置において、フィニッシャ−ローラ上に設けられて自動洗浄時の洗浄水を前記フィニッシャーローラとの間で形成される空間に堰き止めて洗浄水の拡散を前記フィニッシャ−ローラのローラ周面で均一化する均一化部材を金属製円柱棒で構成し、その両端部直径を中央部直径より大きくしてフィニッシャーローラ上に両端大径部で接触させることによってフィニッシャーローラと非接触とした。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版を処理する過程で発生した泡を、安価で極めて簡単な機構で効率的に除去、消泡し、泡やスラッジによる製版上やメンテナンス上の悪影響を解消した平版印刷版処理装置を提供すること。
【解決手段】少なくとも現像工程部と水洗工程部を有する平版印刷版処理装置であって、少なくとも平版印刷版搬送機構、水洗液吐出手段、水洗液回収手段、版面洗浄促進手段からなる水洗処理部と、処理液が貯留される貯留槽、及び前記水洗処理部から前記貯留槽への送液管を少なくとも有する水洗工程部を含む平版印刷版処理装置において、該貯留槽の液面より上部となる空間と液回収手段とを結ぶ泡誘導管を設けることを特徴とする平版印刷版処理装置によって達成された。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンのパターニング時に既存の露光装置におけるＡｒＦエキシマレーザー光等の光源をそのまま使用可能であり量産性に優れ、レジスト抜けパターンを前記光源の露光限界を超えて微細に製造可能なレジストパターンの製造方法、半導体装置の製造方法等の提供。
【解決手段】本発明のレジストパターンの製造方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うようにレジストパターン厚肉化材料を塗布することを含み、前記レジストパターン厚肉化材料が、樹脂と、架橋剤と、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、並びに、アルコキシレート系界面活性剤、脂肪酸エステル系界面活性剤、アミド系界面活性剤、アルコール系界面活性剤、及びエチレンジアミン系界面活性剤から選択される非イオン性界面活性剤から選択される少なくとも１種とを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 保存中の着色及び感度低下が抑制され、かつ露光時の良好な発色性により露光領域の可視像化に優れ、感度安定性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に少なくとも感光層を有し、未露光の前記感光層の６００ｎｍの光に対する吸光度が、６０℃の温度条件下で７２時間処理した後の吸光度をＢ、処理する前の吸光度をＡとしたとき、Ｂ−Ａ≦０．１の関係を満たすことを特徴とするパターン形成材料、該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法である。前記感光層はバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び４位に置換アミノ基を有するトリアリールメタン色素で、メタンの炭素原子に対しオルト位に少なくとも１つの置換基を有する発色剤化合物を含むことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液浸露光時に用いられる液浸溶液による問題の発生を抑制すること。
【解決手段】基板上にレジスト膜を形成する工程と、前記レジスト膜上に保護膜を形成するための塗布溶液を前記レジスト膜上に塗布すること及び必要に応じて加熱することによって前記レジスト膜上に前記保護膜を形成する工程と、液浸溶液を用いる液浸露光法によって前記レジスト膜にパターンを転写することによって、前記レジスト膜に潜像を形成する工程と、前記潜像形成後、前記保護膜を剥離する工程と、前記剥離後、前記基板上にレジストパターンを形成するために前記レジスト膜を現像する工程とを含むパターン形成方法において、前記塗布液膜形成後と前記保護膜を剥離する前との間に、前記保護膜の欠陥有無を検査するために第１の検査を行う工程と、前記検査時に前記欠陥があった場合、予め決められた所定の処理を行う工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】画像形成要素、およびこの画像形成要素を使用して記録要素を形成する方法を提供すること。
【解決手段】画像形成要素は、第１の波長の化学線に対して感受性のある組成物と、第１の波長とは異なる第２の波長の放射線に対して応答する光ルミネセンスタグとを含む。光ルミネセンスタグは、この要素の識別情報を認証し、この要素に関する情報を提供し、および／またはこの画像形成要素から記録要素を調製するのに使用される装置で１つまたは複数の条件を設定するのに使用することができる。 （もっと読む）

【課題】 液塗布処理プロセスから回収された使用済シンナーを精製し、シンナー中の不純物の濃度を適正範囲内に調節して液塗布処理プロセスに再び供給する装置であって、不純物濃度を高精度に検出でき、十分に濃度管理されたシンナーを供給し得ると共に、シンナーの回収率を高めることが出来るシンナーのリサイクル供給装置を提供する。
【解決手段】 シンナーのリサイクル供給装置は、供給すべきシンナーを貯留する供給貯槽（１）、使用済シンナーを精製して供給貯槽（１）に送液する回収液精製機構（２）、シンナー原液を供給貯槽（１）に送液する原液供給機構（３）、精製シンナー中の不純物濃度を超音波伝播速度、電磁導電率または吸光度の少なくとも１つによって検出する濃度計（５）とを備えている。そして、濃度計（５）による検出濃度に基づき、精製シンナー及びシンナー原液の各送液を制御可能に構成される。 （もっと読む）

【課題】 ラクトン環を含むレジストパターンを用いてエッチングを行なう際の被処理膜に生じるパターン不良を防止できるようにすることを目的とする。
【解決手段】 酸化シリコンからなる基板１０１の上に、ラクトン環を含むレジスト膜１０２を形成する。続いて、レジスト膜１０２に露光光１０４を選択的に照射することによりパターン露光を行ない、パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対して現像を行なうことにより、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。続いて、形成されたレジストパターン１０２ａに含まれるラクトン環をアクリル酸水溶液１０５にさらすことにより開環させる。その後、ラクトン環が開環されたレジストパターン１０２ｂをマスクとして、基板１０１に対してエッチングを行なうことにより、形状が優れた凹部１０１ａを得る。 （もっと読む）

【課題】 微細、高精度で、エッチング耐性に優れたレジストパターンを形成する。
【解決手段】 所定の光源に感光性を有するレジスト組成物をリソグラフィー技術により現像処理をして、基板１上に形成されたレジストパターン２を、架橋剤４を含む超臨界流体３’からなる超臨界処理液５’に接触させることを特徴とするレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 安価な製版機で画像を形成でき、現像や加熱等の後工程を一切必要としない無処理印刷版を提供することである。また、その版を使用して印刷物、カラーフィルター、プリント基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 架橋され水に不溶の親水性ポリマーと界面活性剤を含む画像形成層を有する直描型平版印刷原版に、市販のインクジェットプリンターを用いて画像を描画し、現像や加熱等の後工程を一切行わずに印刷機に装着し印刷する。 （もっと読む）

【課題】陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版において、印刷条件、特に給水条件の変動に対して、常に安定して高い耐刷性を有する印刷版用の仕上げ液を提供する。
【解決手段】陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版に、露光後少なくとも現像液、水洗液、及び仕上げ液の順で処理を施す製版方法において、前記仕上げ液がポリアミドエポキシ樹脂を含有することを特徴とする平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光方法を採用した場合においても、微細で精細なレジストパターンを形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に形成されたフォトレジスト膜の所定位置に、液体を媒体として光を照射する露光工程と、前記露光工程の後、前記フォトレジスト膜を加熱するポスト・エクスポージャー・ベーク（ＰＥＢ）工程と、前記ＰＥＢ工程の後、前記露光工程により光が照射された前記フォトレジスト膜を現像する現像工程とを含むレジストパターン形成方法において、前記露光工程の後で、前記ＰＥＢ工程の前に、前記フォトレジスト膜の上面、基板の側面及び裏面の少なくとも何れかの箇所に残存する液体を低減又は除去する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 本発明はＴＭＡＨ及び炭酸塩を含むレジスト現像液から炭酸塩を除去する方法、装置、及びレジスト現像液の濃度管理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明に係るレジスト現像液中の炭酸塩の除去方法は、ＴＭＡＨ及び炭酸塩を含むレジスト現像液をＮＦ膜で濾過する濾過工程を備える。 （もっと読む）

【課題】液浸型露光方式における媒体となる液体の汚染や変質を有効に防止し、基板上に高精度にフォトレジストパターンを形成することが可能なフォトレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板２上にフォトレジスト膜３と上層膜４とが配設されたフォトレジストパターン形成用基板１を得、液体を媒体として露光を行うことで、基板２上に所定のレジストパターンを形成する方法であって、フォトレジストパターン形成用基板１を得るに際し、基板２上の略全域にフォトレジストを塗布した後、少なくとも露光領域６を残すように、基板２の外周側に塗布したフォトレジストの少なくとも一部を除去してフォトレジスト膜３付き基板７を得、得られたフォトレジスト膜３付き基板７上の略全域に、上層膜成分４ａを塗布してフォトレジストパターン形成用基板１を得るフォトレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ｉ線仕様、ＫｒＦ仕様、ＡｒＦ仕様の各種レジスト、ケイ素含有レジスト、化学増幅型ポジ型レジストなど多種多様の組成のレジストに対して一様に良好な洗浄性を示し、処理後の乾燥性が良く、洗浄によりレジストの特性がそこなわれることのないリソグラフィー用洗浄液を提供する。
【解決手段】 （Ａ）酢酸又はプロピオン酸の低級アルキルエステルの中から選ばれた少なくとも１種と（Ｂ）炭素数５〜７の環状若しくは非環状ケトンの中から選ばれた少なくとも１種とを（Ａ）／（Ｂ）の質量比４／６ないし７／３の範囲で含有したリソグラフィー用洗浄液とする。 （もっと読む）

【課題】十分な色純度を有する着色層、及び十分な光遮蔽性を有するブラックマトリクスがパターン精度良く形成され、着色層及びブラックマトリクスの微細化が可能なカラーフィルタを得る。
【解決手段】加熱処理を施すことにより、その一部が解離して揮発し、その重量が加熱処理前の重量に対し、８０重量％以下に減少する樹脂を含有する樹脂組成物を用いて、着色層及びブラックマトリクスを形成し、加熱処理を施すことによって、その体積を加熱処理前の体積に対し８５体積％以下に減少させ、着色剤濃度を高くする。 （もっと読む）