パターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法
【課題】 保存中の着色及び感度低下が抑制され、かつ露光時の良好な発色性により露光領域の可視像化に優れ、感度安定性に優れたパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に少なくとも感光層を有し、未露光の前記感光層の600nmの光に対する吸光度が、60℃の温度条件下で72時間処理した後の吸光度をB、処理する前の吸光度をAとしたとき、B−A≦0.1の関係を満たすことを特徴とするパターン形成材料、該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法である。前記感光層はバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び4位に置換アミノ基を有するトリアリールメタン色素で、メタンの炭素原子に対しオルト位に少なくとも1つの置換基を有する発色剤化合物を含むことが好ましい。
【解決手段】 支持体上に少なくとも感光層を有し、未露光の前記感光層の600nmの光に対する吸光度が、60℃の温度条件下で72時間処理した後の吸光度をB、処理する前の吸光度をAとしたとき、B−A≦0.1の関係を満たすことを特徴とするパターン形成材料、該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び該パターン形成材料を用いたパターン形成方法である。前記感光層はバインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び4位に置換アミノ基を有するトリアリールメタン色素で、メタンの炭素原子に対しオルト位に少なくとも1つの置換基を有する発色剤化合物を含むことが好ましい。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
支持体上に少なくとも感光層を有し、未露光の前記感光層の600nmの光に対する吸光度が、60℃の温度条件下で72時間処理した後の吸光度をB、処理する前の吸光度をAとしたとき、B−A≦0.1の関係を満たすことを特徴とするパターン形成材料。
【請求項2】
感光層が、バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、下記構造式(I)で表される発色剤化合物とを少なくとも含む請求項1に記載のパターン形成材料。
【化1】
ただし、前記構造式(I)中、R1、R2、R3、R4、R5、及びR6は、置換基を有していてもよいアルキル基及びアリール基のいずれかを表し、
R1とR2、R3とR4、及びR5とR6のいずれかの組は、結合する窒素原子とともに飽和の5〜8員環を形成していてもよく、
R7、R8及びR9は、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アシルアミノ基、及びヒドロキシ基のいずれかを表し、かつR7、R8及びR9の少なくとも1つがアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アシルアミノ基、及びヒドロキシ基のいずれかを表す。
【請求項3】
構造式(I)中、R7、R8、及びR9のいずれか1つがアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アシルアミノ基、及びヒドロキシ基のいずれかであり、他の2つが水素原子である請求項2に記載のパターン形成材料。
【請求項4】
感光層が、構造式(I)で表される発色剤化合物を0.01〜20質量%含有する請求項2から3のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項5】
支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有する請求項1から4のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項6】
支持体上に、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、感光層とをこの順に有する請求項1から5のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項7】
支持体上に、光感度が相対的に異なる複数の感光層を有する請求項1から6のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項8】
請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項9】
請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成材料における該感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項10】
基体上にパターン形成材料を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層し、露光する請求項9に記載のパターン形成方法。
【請求項11】
露光が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われることを少なくとも含む請求項9から10のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項12】
非球面が、トーリック面である請求項11に記載のパターン形成方法。
【請求項13】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項9から12のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項14】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項9から13のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項15】
永久パターンが、配線パターンであり、該永久パターンの形成がエッチング処理及びメッキ処理の少なくともいずれかにより行われる請求項14に記載のパターン形成方法。
【請求項1】
支持体上に少なくとも感光層を有し、未露光の前記感光層の600nmの光に対する吸光度が、60℃の温度条件下で72時間処理した後の吸光度をB、処理する前の吸光度をAとしたとき、B−A≦0.1の関係を満たすことを特徴とするパターン形成材料。
【請求項2】
感光層が、バインダーと、重合性化合物と、光重合開始剤と、下記構造式(I)で表される発色剤化合物とを少なくとも含む請求項1に記載のパターン形成材料。
【化1】
ただし、前記構造式(I)中、R1、R2、R3、R4、R5、及びR6は、置換基を有していてもよいアルキル基及びアリール基のいずれかを表し、
R1とR2、R3とR4、及びR5とR6のいずれかの組は、結合する窒素原子とともに飽和の5〜8員環を形成していてもよく、
R7、R8及びR9は、水素原子、アルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アシルアミノ基、及びヒドロキシ基のいずれかを表し、かつR7、R8及びR9の少なくとも1つがアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アシルアミノ基、及びヒドロキシ基のいずれかを表す。
【請求項3】
構造式(I)中、R7、R8、及びR9のいずれか1つがアルキル基、アルキルオキシ基、アルキルチオ基、アルキルオキシカルボニル基、アシルアミノ基、及びヒドロキシ基のいずれかであり、他の2つが水素原子である請求項2に記載のパターン形成材料。
【請求項4】
感光層が、構造式(I)で表される発色剤化合物を0.01〜20質量%含有する請求項2から3のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項5】
支持体上に、クッション層と感光層とをこの順に有する請求項1から4のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項6】
支持体上に、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、感光層とをこの順に有する請求項1から5のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項7】
支持体上に、光感度が相対的に異なる複数の感光層を有する請求項1から6のいずれかに記載のパターン形成材料。
【請求項8】
請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成材料を備えており、
光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、前記パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。
【請求項9】
請求項1から7のいずれかに記載のパターン形成材料における該感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項10】
基体上にパターン形成材料を加熱及び加圧の少なくともいずれかを行いながら積層し、露光する請求項9に記載のパターン形成方法。
【請求項11】
露光が、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をn個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通して行われることを少なくとも含む請求項9から10のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項12】
非球面が、トーリック面である請求項11に記載のパターン形成方法。
【請求項13】
露光が行われた後、感光層の現像を行う請求項9から12のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項14】
現像が行われた後、永久パターンの形成を行う請求項9から13のいずれかに記載のパターン形成方法。
【請求項15】
永久パターンが、配線パターンであり、該永久パターンの形成がエッチング処理及びメッキ処理の少なくともいずれかにより行われる請求項14に記載のパターン形成方法。
【図1】
【図2】
【図3】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図13】
【図21】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27a】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図4】
【図12】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19a】
【図19b】
【図19c】
【図19d】
【図20a】
【図20b】
【図20c】
【図20d】
【図22】
【図23】
【図27b】
【図28】
【図2】
【図3】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図13】
【図21】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27a】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図37】
【図4】
【図12】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19a】
【図19b】
【図19c】
【図19d】
【図20a】
【図20b】
【図20c】
【図20d】
【図22】
【図23】
【図27b】
【図28】
【公開番号】特開2006−220863(P2006−220863A)
【公開日】平成18年8月24日(2006.8.24)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−33541(P2005−33541)
【出願日】平成17年2月9日(2005.2.9)
【出願人】(000005201)富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成18年8月24日(2006.8.24)
【国際特許分類】
【出願日】平成17年2月9日(2005.2.9)
【出願人】(000005201)富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Fターム(参考)】
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