【課題】フォトマスクの変形を補正することによって転写精度を向上させる液晶露光装置を提供する。
【解決手段】ステージ機構４２，４３と、フォトマスク７１を支持するフォトマスク支持フレームと、フォトマスク支持フレームの歪みを検出する歪み検出手段と、フォトマスク７１の変形を補正する補正手段と、フォトマスク７１の変形パターンと歪みの分布とが対応して記憶されている変形パターン記憶手段と、歪み検出手段によって検出された歪み分布と、変形パターン記憶手段から読み出した変形パターンの歪み分布とを比較して、フォトマスク７１の変形パターンを推定し、推定した変形パターン、及び、歪み検出手段によって検出された歪み量に基づいて、フォトマスク７１の変形を打ち消す補正量を算出し、当該補正量に対応する電圧を補正手段に対して出力する制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】基板位置を検出するセンサを任意の位置に設置することができ、且つスループットを向上させることができる近接露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージ１０は、基板保持部３１ａ，３１ｂに保持された基板Ｗの端部を検出する反射式センサ２０を備え、反射式センサ２０による基板Ｗの端部の検出に基づいて、リニアモータ３９、４６の移動量を管理しつつ、露光領域ＥＰとローディング領域ＷＰ間での移動速度より遅い移動速度で基板Ｗを露光位置ＯＥＰに移動させる。 （もっと読む）

【課題】マスクのパターンによるマスクの有無の誤検出を防止するとともに、マスクがマスクストッカー内のマスク受けに正常に搭載されていることを確認して、マスクの搬入又は搬出時のマスクの破損を予防する。
【解決手段】マスク２を収納するマスクストッカー４０に、マスク２の下面の縁を支持するマスク支持部４４ａと、マスク支持部４４ａより盛り上がったマスク落下防止部４４ｂとを有する複数のマスク受け４２を設ける。少なくとも１つのマスク受け４２のマスク支持部４４ａに、マスク２の下面への接触の有無によりマスク２の有無を検出するマスク検出機構５１，５２，５３，５４，５５，５６を設ける。マスク検出機構の検出結果に基づき、マスク２を載せるハンドリングアーム３１を有するマスク搬送装置３０により、マスク２を複数のマスク受け４２に搭載し、またマスク２を複数のマスク受け４２から持ち上げる。 （もっと読む）

【課題】マスクを保持する吸着力が低下した場合でも、マスクの落下を防止することができる露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】マスク保持部１１には、前記マスクＭを真空吸着するための吸着溝４１が形成されており、前記吸着溝４１と、真空圧を発生させる第２の真空圧ポンプ５２とを接続する空気圧回路６０には、第２の真空圧ポンプ５２へのエアを遮断する切替弁６１が設けられ、且つ、第２の真空圧ポンプ５２には無停電電源装置が取り付けられる。 （もっと読む）

【課題】人手による搬送作業をなるべく抑えて露光装置とマスク検査装置との間でフォトマスクを搬送することができるマスク搬送システムを提供する。
【解決手段】実施形態によれば、マスク搬送システムは、ストッカ１１〜７１と、搬送路３と、収納容器と、搬送装置２００と、制御装置８０と、を備える。収納容器はウェハ搬送用とマスク搬送用とで同一の構造を有する。制御装置８０は、露光エリア３０のストッカ３１、またはマスク検査エリア７０のストッカ７１に収納容器が入庫されると、収納容器がマスク搬送用であるかを判別し、マスク搬送用の収納容器である場合には入庫されたストッカではないストッカ７１，３１に収納容器が搬送されるように搬送装置２００を制御する搬送装置制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】マスク保護用の複数のスペーサを、簡単な構成で短時間にチャックの表面に設置する。
【解決手段】チャック１０の内部から上昇する突き上げピン１２及び突き上げピン１２を上下に移動するモータ１１を有する複数の突き上げピンユニットをチャック１０に設け、マスク２をマスク搬送装置によりチャック１０へ搬入し、複数の突き上げピン１２により、マスク２をマスク搬送装置から受け取ってマスクホルダ１０に装着する。マスク２を載せた突き上げピン１２が下降したときマスク２のパターン面の周辺部を支持する複数のスペーサ３０を、チャック１０の内部に収納し、各スペーサ３０をチャック１０の内部からチャック１０の表面に出して、マスク２を載せた突き上げピン１２が下降したときマスク２のパターン面がチャック１０の表面に接触するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、単一のブラインドシャッターを用いた小型マスク連続露光方式により、露光領域における照射量分布の局所的なムラが少ない露光を実現できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板を搬送方向に一定の速度で搬送しながら、搬送方向に所定間隔を空けて複数並べられた前記基板上の露光領域に対して露光を行う。露光装置は、点滅式光源と、基板をＹ軸正方向に搬送する搬送装置と、光源と基板との間に配置されるフォトマスクと、光源とフォトマスクとの間に位置し、光を遮光するブラインドシャッターとを備える。光源の点滅の周波数は５０Ｈｚであり、基板の搬送速度は１００〜２００ｍｍ／ｓｅｃであり、Ｙ軸方向におけるフォトマスク上の開口パターンが形成される領域の長さは、１５０〜２５０ｍｍである。これによって、ブラインドシャッター復帰時に光源が遮られることに起因する露光量減損率は３％以下となる。 （もっと読む）

【課題】装置コストを大幅に抑制することができる露光装置、露光方法及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、マスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って配置される複数のマスク保持部１１と、露光用光を照射する照射部１４と、各マスク保持部１１の下面と対向可能なマスクトレー部３３を有するマスクチェンジャー２と、を備える。マスクチェンジャー２は、マスクトレー部３３に載置されるマスクＭを、Ｘ方向及びＺ方向回りのθ方向に駆動可能な駆動機構３５Ａ、３５Ｂを備える。 （もっと読む）

【課題】露光工程のスループットを高め、基板の複数のパターン形成領域に互いに異なるパターンを露光できるようにする。
【解決手段】シート基板Ｐの露光装置であって、シート基板Ｐを走査方向Ｄ１に移動する基板駆動装置１０と、マスクＭ１〜Ｍ３を保持して上面ＭＢａに沿って移動するマスクステージＭＳ１〜ＭＳ３と、駆動対象のマスクステージＭＳ２の走査方向Ｄ２の位置情報を計測する干渉計３３ＸＡ，３３ＸＢと、この計測結果に基づいて、マスクステージＭＳ２を走査方向Ｄ２に移動する駆動装置と、マスクステージＭＳ１〜ＭＳ３の走査方向Ｄ２の位置を相互に入れ替えるステージ入れ替え装置２４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、搬送装置のメンテナンス作業を効率よく行うことができる搬送装置のメンテナンス方法を提供する。
【解決手段】 マスクケース搬送装置（２９）のメンテナンス方法は、ＣＺ軸駆動部（２６）によってケース保持部（２３）を上下方向の第１位置に配置する工程（Ｓ１０２）と、最上段、最下段および中央段に設けられた複数のＣＺ軸駆動部２６のカバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第１取り外し作業を行う工程（Ｓ１０６）と、第１取り外し作業後に取り外されていない複数の前記カバー部材のうち第１位置に配置されたケース保持部と異なる高さに位置するカバー部材を取り外す第２取り外し作業を行う工程（Ｓ１０７）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の移動方向と直角な方向に複数基の露光ヘッドが配設された露光装置にて、各フォトマスク面の照度を容易に測定し校正する、照度の測定及び校正方法、並びに露光装置を提供する。
【解決手段】マスクホルダ３０にフォトマスクＰＭ３を装着するマスク搬送トレイ４１に、照度測定ユニット７０を保持させ、照度を測定するフォトマスク面に対応した位置に照度測定ユニットを合わせ、測定した照度を標準照度と対比した校正を各フォトマスク面について行うこと。露光ヘッドＨは光源８０、マスクホルダを備え、マスク搬送トレイを、マスクホルダに移動させるトレイ搬送機構４０を備え、フォトマスク面に対応した位置に該照度測定ユニットを合わせ照度を測定し校正する露光装置。 （もっと読む）

【課題】部品の点数の大幅な増加や大型化等を防ぎつつ、マスクの交換時間を短くすること。
【解決手段】第１のマスクＭ１での露光中に、第１のハンドラ１１ａがマスク保管部６から次に使用する第２のマスクＭ２を取り出し、プリアライメントステージ５に載せてプリアライメントを行う。露光が終わると第２のハンドラ１２ａが第１のマスクＭ１をプリアライメントステージ５まで運ぶ。マスク退避機構１３の第３のハンドラ１３ａは第１のマスクＭ１を受け取りいったん保持する。第２のハンドラ１２ａは、第２のマスクＭ２を保持し、マスクステージ２へ搬送する。同時に第３のハンドラ１３ａが保持していた第１のマスクＭ１を第１のハンドラが受け取ってマスク保管部６に回収する。マスク退避機構１３を設けマスクを退避させるようにしたのでマスクの交換時間を短縮することができる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの自重による撓みを軽減して、被露光基板とフォトマスクとの近接露光時のギャップのバラツキを低減させ、形成されるパターンの線幅、膜厚バラツキの低減を図ることを可能とする基板露光装置を提供する。
【解決手段】露光ステージと、被露光基板の上方からパターン露光を行うため平面視矩形状のフォトマスク（原版）を被露光基板に対向させて被露光基板の上面に水平保持するマスクホルダとを備え、フォトマスクと被露光基板との間に所定の微小間隔をあけて、フォトマスク上方から光を照射して被露光基板にパターン露光を行う基板露光装置において、マスクホルダは、フォトマスクを真空吸着によって固定する原版支持吸着溝１と、該原版支持吸着溝１の外側においてフォトマスクの縁部を下方から真空吸引して下側に張力を発生させる原版支持吸着溝２とを備えている。 （もっと読む）

【課題】マスクホルダに保持されたマスクに位置ずれを発生させることなく、かつ洗浄後のマスクに異物を残留させることなく、マスクの落下を防止する。
【解決手段】マスク２のパターンが形成される面の外周全体に、表面を縁から平らに削った平坦部２ａと、平坦部２ａからパターンが形成される面へ向けて傾斜する傾斜部２ｂと、平坦部２ａと傾斜部２ｂとの境界になだらかな丸みを付けた境界部２ｃとを設ける。マスク２を保持するマスクホルダ２０に、マスク２の平坦部２ａを支持する支持部材２６を移動可能に取り付ける。マスク２のパターンが形成された面へ洗浄液を供給し、スピン乾燥により洗浄液を除去する。マスク２をパターンが形成された面を下にしてマスクホルダ２０に装着し、支持部材２６をマスク２の平坦部２ａと接触する位置へ移動して、マスク２の平坦部２ａを支持部材２６により支持する。 （もっと読む）

【課題】安価且つ短時間で、高精細なマスクパターンを光透過性円筒基材の外周面に形成させる露光装置を提供する。
【解決手段】光透過性円筒基材の外周面に少なくとも１層の感光層を有する感光体の露光装置であって、マスクパターンフィルムの挿入口と、前記マスクパターンフィルムを前記感光体に押し付け且つ前記感光体を支持する支持手段と、前記感光体を支持する支持手段と、前記感光体の外周面の一部を覆い、前記感光体と共に前記マスクパターンフィルムを挟持しながら搬送させるための光透過性搬送手段とを、少なくとも有する露光装置。 （もっと読む）

【課題】近接露光装置を用いた露光転写によって、４μｍレベルの線幅の精細化を達成可能な露光装置及び基板の製造方法ならびにマスクを提供する。
【解決手段】近接露光装置ＰＥで使用されるマスクＭには、ライン状の開口を有する主パターン部８１と、該主パターン部８１の側方に形成され、現像処理後に解像されない透過性でライン状の補助パターン部８３とを備えるマスクパターンが形成されている。照明光学系７０が基板Ｗに対してパターン露光用の光をマスクＭを介して照射し、基板Ｗに主パターン部８１に対応するライン状のパターン８４を露光転写する。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクとを相対移動させながら露光を行う際に、遮光部材を用いて非露光領域を適切に遮光できるスキャン露光装置を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、マスクMを保持するマスク保持部７１と、マスク保持部７１の上方に配置され、露光用光を照射する照射部８０と、照射部８０とマスク保持部７１との間に配置され、照射部８０から出射された露光用光ＥＬを遮光する遮光部材と、を備える。遮光部材は、露光用光ＥＬを遮光するＸ方向における遮光幅を可変とする一対のブラインド部材１０８，１０９を有し、一対のブラインド部材１０８，１０９は傾斜角度が可変となるように支持され、且つ、一対のブラインド部材１０８，１０９の一端部１０８ａ，１０９ａ同士は、傾斜角度に関わらず、上下方向から見て互いにオーバーラップしている。 （もっと読む）

【課題】マスク保持部材及びそのマスク保持部材に密着保持された遮光マスクを介して被照射物に光を照射する光照射装置において、マスク保持部材を平坦化する。
【解決手段】マスク保持部材２２における周縁部２２ａ以外の部分に固定された連結部３５には、吊下部としてのワイヤ４０が連結され、その連結部３５をワイヤ４０により吊り上げる。 （もっと読む）

【課題】露光装置におけるマスクの交換時間、アライメント時間を短縮し、露光処理時間を短縮することが出来るようにする。
【解決手段】露光用光学ユニット１と、マスクが固定されるマスクステージを装着しこのマスクステージが光学ユニット１に対向するように移動できるマスクチェンジャ２と、マスクステージに前記マスクを搬入・搬出するマスク搬送手段（１７）とを備えた露光装置において、マスク搬送手段は、１つのマスクを搬入中に他のマスクを搬出するように複数（１７，１７ａ）有し、マスクチェンジャ２は、マスク３〜５がそれぞれ固定される複数のマスクステージ７〜９を少なくとも一列に配置してその列方向に移動する機構を有し、複数のマスクステージ７〜９は、これらマスクステージ７〜９と前記各マスク３〜６とのアライメントを行なうアライメント手段（アライメントスコープ１４）をそれぞれ有する。 （もっと読む）

【課題】マスクを保持する吸着力が低下した場合でも、マスクの落下を防止することができる近接スキャン露光装置及びその制御方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、基板ＷをＸ方向に搬送する基板搬送機構１０と、パターンを形成した複数のマスクＭをそれぞれ保持し、Ｙ方向に沿って千鳥状に配置される複数のマスク保持部１１と、複数のマスク保持部１１の上部にそれぞれ配置され、露光用光を照射する複数の照射部１４と、を備える。マスク保持部１１は、マスクＭの外周縁部Ｍａと当接可能なマスク支承体４４と、マスク支承体４４がマスクＭの外周縁部Ｍａと接離するように、マスク支承体４４を駆動する駆動機構４５と、を備えて、マスクＭの落下を防止するマスク落下防止手段４３を有する。 （もっと読む）