【課題】各色に対するレンズに適する形式にカスタマイズすることが可能な技術を提供すること。
【解決手段】 光センサにおいて用いられるマイクロレンズの形成方法は、特定の色領域の光を感知する光検出素子配列を準備する工程と、この光検出素子配列上にマイクロレンズ材料を堆積する工程とを包含する。この構成をフォトレジストにより被覆した後、フォトレジストを、色領域の各色に対する個別の露光において、マスクし、かつ露光する。フォトレジストを現像し、マイクロ材料をエッチングすることによってマイクロレンズ配列を形成する。 （もっと読む）

【課題】 幅に対する高さのアスペクト比の高い導体パターンを、電気的接続性良く形成することが可能な導体パターン形成方法を提供する。
【解決手段】 導体パターン２の形成面２ａ上に、導体パターンの形成箇所６が露出する第一レジスト層８を形成する工程と、第一レジスト層８から露出した箇所６に、めっきにより一段目導体パターン１０を形成する工程と、一段目導体パターン１０を保護する一段目保護膜１２を形成する工程と、一段目保護膜１２の表面１２ａと一段目導体パターン１０の端面１０ａとを平坦に研磨する工程と、一段目保護膜１２の表面１２ａおよび一段目導体パターン１０の端面１０ａ上に、端面１０ａの一部が一段目導体パターン１０より幅狭に露出する第二レジスト層１６を形成する工程と、一段目導体パターン１０の端面１０ａ上の、第二レジスト層１６から露出した箇所に、めっきにより二段目導体パターン１８を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、近接露光方式で投影露光方式と同程度の解像度を達成することで、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を安価に提供するための方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
本発明は、カラーフィルタ製造における露光・現像方法に関するものであり、近接露光方式において、横方向への重合促進を抑制するために重合禁止剤などを添加した感光性樹脂組成物を用いる、露光光学系を調整することでマスクを介して照射される光の照射面におけるずれを低減する、ノズルからの現像液吐出圧が高圧である現像方式で現像を行う、現像・リンス後水洗では水素水超音波洗浄を行う、ことによってマスク開口部の７０％以下の寸法で所望のパターンを基板上に形成し、高解像度・高品質な製品を提供する。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、微細な形状の印刷が可能な凸版を製造する装置、および、その凸版を製造する方法を提供することである。
【解決手段】細な印刷形状情報を有する編集組版情報を含む製版データから透明データと遮光データを作成保持して、製版データの微細な印刷形状情報を取得して、これに隣接する透明データを、前記保持された透明データから選択して、半透明データに変更して、透明データと半透明データと遮光データとから、マスク加工データを作成するマスク加工データ作成手段と、マスク加工データを取得して、これに従ってレーザー光量を制御する光量制御情報を発行するレーザー光制御手段と、光量制御情報を受け付けて、光量を制御したレーザーを照射して、透過光制御型マスクを作成するレーザー光照射手段と、を備える透過光制御型マスク作成装置である。 （もっと読む）

【課題】深さと線幅が高精度に形成できる３次元モールド、微細加工物及び微細パターン成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】３次元モールド基体１０上にポリシロキサン系材料で構成されるレジスト層を有する被加工体の該レジスト層２０に、電子線を照射する照射工程が、後方散乱を発生させず且つ１ｋＶ乃至３ｋＶの加速電圧と、４００μＣ／ｃｍ²以下の前記ドーズ量を照射条件とする工程を含むことを特徴とし、１０ｎｍ以内の加工深さ制御と２００ｎｍ以下の線幅形成を可能にする。 （もっと読む）

【課題】高感度で、表面のタック性が少なく、保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐メッキ性、表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性フィルム、並びに該感光性フィルムを用いる永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光性組成物からなる感光層と、該感光層上に保護フィルムと、を少なくとも有してなり、前記感光性組成物が、（Ａ）エポキシアクリレート化合物中のヒドロキシ基及びカルボキシル基の少なくともいずれかに対し、イソシアネート化合物を反応させたノボラック型エポキシアクリレート化合物と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高感度で、表面のタック性が少なく、保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐メッキ性、表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性フィルム、並びに該感光性フィルムを用いることにより、半導体分野における高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光性組成物からなる感光層と、該感光層上に保護フィルムと、を少なくとも有してなり、前記感光性組成物が、（Ａ）ポリシロキサンにより変性された酸基含有エポキシアクリレート化合物を少なくとも含むバインダーと、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする感光性フィルム及び永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【課題】高感度で、表面のタック性が少なく、フィルム化した際の保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性組成物及びこの感光性組成物を用いた感光性フィルム、並びに半導体分野における高精細な永久パターン（保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンなど）を高精細に、かつ、効率よく形成可能な永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】（Ａ）分子量分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．０〜４．０であるエポキシアクリレート化合物と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする感光性組成物及び感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターンである。 （もっと読む）

【課題】 ４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能なパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び増感剤を含んでなり、該増感剤は、極大吸収波長が３４０〜５００ｎｍである増感剤を少なくとも２種含むことを特徴とするパターン形成材料である。また、該パターン形成材料を用いたパタン形成装置及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 高感度であるとともに、解像度に優れ、かつ感度の経時安定性が極めて高く、高精細なパターンを形成可能な感光性組成物、該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びにパターン形成装置、及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 バインダー、重合性化合物、光重合開始系化合物、及び重合禁止剤を少なくとも含み、前記光重合開始系化合物として、ジ置換アミノ−ベンゼンを部分構造として有する化合物を含むことを特徴とする感光性組成物である。該感光性組成物により形成された感光層を有するパターン形成材料、感光性積層体、並びに該感光性積層体を備えたパターン形成装置、及びパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 トナー画像に十分なエッチング耐性が要求されない静電潜像を利用したパターン作製方法を提供する。
【解決手段】 表面にフォトレジスト膜が形成された基板の該フォトレジスト膜上に、静電潜像を利用した電子写真法によりトナー画像を形成する。このトナー画像をマスクとして、フォトレジスト膜を露光する。露光されたフォトレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。このレジストパターンをマスクとして、基板の表面を加工する。 （もっと読む）

【課題】 露光に対し高感度でありかつ可視域レーザ等を操作することによりデジタルデータに基づき直接パターン形成が可能な応用範囲の広い導電性パターン材料及びその形成方法を提供すること。
【解決手段】 支持体上に露光により直接に親疎水性が変化する官能基又は露光により発生した熱又は酸の作用により親疎水性が変化する官能基を有するパターン形成層を備えたパターン形成材料に対し、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により前記光照射手段からの光を変調させた後、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズを配列したマイクロレンズアレイを通した光でパターン露光を行い、前記パターン形成層に親／疎水性パターンを形成し、該親／疎水性パターンを構成する親水性領域又は疎水性領域に導電性素材層を形成してなることを特徴とする導電性パターン材料及びその形成方法。 （もっと読む）

【課題】極紫外線の波長域におけるレジスト層の光透過率を向上させることが可能なレジスト材料の製造方法およびレジスト材料ならびに露光方法を提供する。
【解決手段】極紫外線波長域での線吸収係数が１．７４３３μｍ^-1以下となるように、レジスト材料にシリコン原子を含有させる。下記式（１）を満たすように、高分子材料中のシリコン原子含有比率（φ_Si）および高分子材料の密度ρを設定する。
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【課題】感光材料（レジスト材等）の変化に好適に対応可能な露光装置および露光方法を提供すること。
【解決手段】基板に設けられた露光位置の基準となるアライメントマークを読み取って、取得した基準位置のデータに基づいて前記基板が有する感光材料に対する露光位置合わせを行い、前記基板を所定の走査方向に相対移動させつつ、画像データに応じて変調された光ビームを前記感光材料表面に出射する露光手段により露光する露光装置であって、前記感光材料に依存する複数の露光装置制御情報を前記感光材料の種別ごとにまとめて保持しておき、前記露光装置制御情報に基づいて、前記露光手段の条件設定を調整する露光条件調整手段並びに感光材料の種別指定手段を有し、前記露光装置制御情報を感光材料の種別によって切り替えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 反射防止効果が大きい無反射構造を、Ｘ線リソグラフィを用いて高精度に製造するための製造方法、特にレンズ面などの曲面上にも高精度に無反射構造を形成する方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線マスクを介して、光学素子となるべき基板にＸ線を露光する第１の露光工程と、Ｘ線マスクと基板との少なくとも一方を移動させて、両者の相対的な位置関係を変更した後、Ｘ線マスクを介して露光された基板にさらにＸ線を露光する、少なくとも１回以上の第２の露光工程と、露光された基板を現像する現像工程とを備え、Ｘ線マスクは、Ｘ線透過領域の一つを基本パターンと、基板上に形成すべき無反射構造に対応する仮想的なＸ線透過領域の配置を全体パターンとしたとき、基本パターン同士が隣接しないように配列されたマスクパターンを有し、第１の露光工程および第２の露光工程を含む複数回のＸ線露光により、基板上に全体パターンに対応するパターンを露光する。 （もっと読む）

【課題】 蒸着装置やエッチング装置などの高額設備や、高額な金型を使用せず、簡単、且つ低コストなプロセス、設備にて精度の良い透過型回折素子を形成することができる製造方法を提供する。
【解決手段】 透明ウェハ２の表面上に、感光することにより屈折率が低下する感光性樹脂層５を形成する工程と、感光性樹脂層を仮硬化させる仮硬化工程と、該感光性樹脂層に光を照射することにより屈折率の異なる領域５ａ、５ｂを交互に形成する屈折率差形成工程と、から成る。 （もっと読む）

【課題】 凹凸追従性に優れ、感光層の感度低下を抑制可能であると共に、該感光層が低温でラミネート可能であり、かつ、基体の予備加熱が不要となるため短時間で転写でき、しかもエッジフュージョン現象を抑制可能なパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】 支持体上に、クッション層と感光層とを有し、該クッション層が分岐状ポリマーを含むことを特徴とするパターン形成材料である。該パターン形成材料を備え、光を照射可能な光照射手段と、該光照射手段からの光を変調し、該パターン形成材料における感光層に対して露光を行う光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置である。該感光層に対し、露光を行うことを少なくとも含むことを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 電子線リソグラフィーを用いて、良好な形状を有する数十ナノメートル径のホールパターンを形成する。
【解決手段】 下地表面上に、ポジ型の電子線レジストを含有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に電子線を照射した後、現像することにより、前記レジスト層にホールを形成する工程を有し、前記ホールの平均径をＷ（単位：nm）とし、Ｗが８０のときの最適な電子線照射量をＤ₈₀としたとき、４０≦Ｗ≦７０であるホールを形成する際に、電子線照射量Ｄ_Wが０．８５×６０／（Ｗ−２０）≦Ｄ_W／Ｄ₈₀≦１．１×６０／（Ｗ−２０）
を満足するように電子線を照射するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）