感光性フィルム、並びに永久パターン形成方法及びパターン

【課題】高感度で、表面のタック性が少なく、保護フィルムや支持体からの剥離性に優れ、現像性、保存安定性に優れ、現像後に優れた耐メッキ性、表面硬度、解像度などが得られ、高精細なパターンが形成可能な感光性フィルム、並びに該感光性フィルムを用いる永久パターン形成方法、及びパッケージ基板を含むプリント配線基板等の製造に好適なパターンを提供。
【解決手段】支持体と、該支持体上に感光性組成物からなる感光層と、該感光層上に保護フィルムと、を少なくとも有してなり、前記感光性組成物が、（Ａ）エポキシアクリレート化合物中のヒドロキシ基及びカルボキシル基の少なくともいずれかに対し、イソシアネート化合物を反応させたノボラック型エポキシアクリレート化合物と、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする。

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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体と、該支持体上に感光性組成物からなる感光層と、該感光層上に保護フィルムと、を少なくとも有してなり、前記感光性組成物が、（Ａ）エポキシアクリレート化合物中のヒドロキシ基及びカルボキシル基の少なくともいずれかに対し、イソシアネート化合物を反応させたノボラック型エポキシアクリレート化合物を少なくとも含むバインダーと、（Ｂ）重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）熱架橋剤と、を少なくとも含むことを特徴とする感光性フィルム。
【請求項２】
ノボラック型エポキシアクリレート化合物が、ｏ−又はｐ−クレゾールとホルムアルデヒド、フェノールとホルムアルデヒド、フェノールとｐ−ヒドロキシベンズアルデヒド、ナフトールとホルムアルデヒド、から選択される、少なくとも一種のノボラック樹脂骨格である請求項１に記載の感光性フィルム。
【請求項３】
イソシアネート化合物が、分子中に１つのイソシアネート基を有する化合物である請求項１から２のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項４】
（Ａ）バインダーの酸価が、３０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇである請求項１から３のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項５】
支持体を引っ張り速度１６０ｃｍ／分で引き剥がした際における感光層と支持体との剥離力が、支持体４．５ｃｍ長当たり５００ｇ以下である請求項１から４のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項６】
感光層と支持体との剥離力が、支持体４．５ｃｍ長当たり１〜３００ｇである請求項５に記載の感光性フィルム。
【請求項７】
感光層と支持体との剥離力が、支持体４．５ｃｍ長当たり１〜１０ｇである請求項６から６のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項８】
（Ｃ）光重合開始剤が、ハロゲン化炭化水素誘導体、ホスフィンオキシド、ヘキサアリールビイミダゾール、オキシム誘導体、有機過酸化物、チオ化合物、ケトン化合物、芳香族オニウム塩、及びメタロセン類から選択される少なくとも１種を含む請求項１から７のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項９】
（Ｄ）熱架橋剤が、エポキシ化合物、オキセタン化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリイソシアネート化合物にブロック剤を反応させて得られる化合物、及びメラミン誘導体から選択される少なくとも１種である請求項１から８のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項１０】
（Ｄ）熱架橋剤が、β位にアルキル基を有するエポキシ基を少なくとも含むエポキシ化合物である請求項９に記載の感光性フィルム。
【請求項１１】
感光性組成物が、増感剤を含む請求項１から１０のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項１２】
増感剤が、縮環系化合物、並びに、少なくとも２つの芳香族炭化水素環及び芳香族複素環のいずれかで置換されたアミン系化合物から選択される少なくとも１種である請求項１１に記載の感光性フィルム。
【請求項１３】
感光層に対し、露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、１００ｍＪ／ｃｍ^２以下である請求項１から１２のいずれかに記載の感光性フィルム。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれかに記載の感光性フィルムにおける感光層に対し、
光照射手段、及び前記光照射手段からの光を受光し出射するｎ個（ただし、ｎは２以上の自然数）の２次元状に配列された描素部を有し、パターン情報に応じて前記描素部を制御可能な光変調手段を備えた露光ヘッドであって、該露光ヘッドの走査方向に対し、前記描素部の列方向が所定の設定傾斜角度θをなすように配置された露光ヘッドを用い、
前記露光ヘッドについて、使用描素部指定手段により、使用可能な前記描素部のうち、Ｎ重露光（ただし、Ｎは２以上の自然数）に使用する前記描素部を指定し、
前記露光ヘッドについて、描素部制御手段により、前記使用描素部指定手段により指定された前記描素部のみが露光に関与するように、前記描素部の制御を行い、
前記感光層に対し、前記露光ヘッドを走査方向に相対的に移動させて露光し、現像することを特徴とする永久パターン形成方法。
【請求項１５】
感光層の形成が、支持体と該支持体上に感光性組成物が積層されてなる感光層とを有する感光性フィルムを、加熱及び加圧の少なくともいずれかの下において基材の表面に積層することにより行われる請求項１４に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１６】
感光層に対し、露光し現像する場合に、前記感光層の露光する部分の厚みを該露光及び現像後において変化させない前記露光に用いる光の最小エネルギーが、１００ｍＪ／ｃｍ^２以下である請求項１４から１５のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１７】
露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する請求項１４から１６のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項１８】
露光が複数の露光ヘッドにより行われ、使用描素部指定手段が、複数の前記露光ヘッドにより形成される被露光面上の重複露光領域であるヘッド間つなぎ領域以外の露光に関与する描素部のうち、前記ヘッド間つなぎ領域以外の領域におけるＮ重露光を実現するために使用する前記描素部を指定する請求項１７に記載の永久パターン形成方法。
【請求項１９】
設定傾斜角度θが、Ｎ重露光数のＮ、描素部の列方向の個数ｓ、前記描素部の列方向の間隔ｐ、及び露光ヘッドを傾斜させた状態において該露光ヘッドの走査方向と直交する方向に沿った描素部の列方向のピッチδに対し、次式、ｓｐsinθ_ideal≧Ｎδを満たすθ_idealに対し、θ≧θ_idealの関係を満たすように設定される請求項１４から１８のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２０】
使用描素部指定手段が、
描素部により生成されて被露光面上の露光領域を構成する描素単位としての光点位置を、被露光面上において検出する光点位置検出手段と、
前記光点位置検出手段による検出結果に基づき、Ｎ重露光を実現するために使用する描素部を選択する描素部選択手段と
を備える請求項１４から１９のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２１】
パターン情報が表すパターンの所定部分の寸法が、指定された使用描素部により実現できる対応部分の寸法と一致するように前記パターン情報を変換する変換手段を有する請求項１４から２０のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２２】
現像が行われた後、感光層に対して硬化処理を行う請求項１４から２１のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２３】
保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかを形成する請求項１４から２２のいずれかに記載の永久パターン形成方法。
【請求項２４】
請求項１４から２３のいずれかに記載のパターン形成方法により形成されることを特徴とするパターン。
【請求項２５】
保護膜、層間絶縁膜、及びソルダーレジストパターンの少なくともいずれかである請求項２４に記載のパターン。

【図２５】