テレセントリック光学系で構成される照明光学系により空間光変調器に平面光源を結像させ、この平面光源を投影光学系を通して感光材の露光位置に結像させて露光光学系の照明ムラをモニタ光学系で測定すると共に、測定した露光光学系の照明ムラを均一にする補正テーブルＮ（ｘ，ｙ）、モニタ光学系の照明ムラを均一にする補正テーブルＭ（ｘ，ｙ）を記憶し、感光材を除去して得られる設計値の深さと光量の関係を表す感度曲線および感光材の露光パターンのテーブルＧ（ｘ，ｙ）を入力し、このテーブルＧ（ｘ，ｙ）を感度曲線を参照して感度補正露光パターンのテーブルＲ（ｘ，ｙ）に変換すると共に、空間光変調器の画素毎に対応した制御値のテーブルＳ（ｘ，ｙ）＝Ｒ（ｘ，ｙ）×Ｎ（ｘ，ｙ）×Ｍ（ｘ，ｙ）を求め、この制御値により空間光変調器の各画素を制御し、各画素の光を投影光学系を通して露光位置にある感光材に結像させて露光する。
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【課題】 マスクと基板との相対的な移動をすることなく、三次元の微細構造体を容易に形成することが可能な微細構造体の製造方法、微細構造体を用いた樹脂成型方法および微細構造体を提供する。
【解決手段】 Ｘ線光源１から露光マスク１１を介してＸ線を照射してレジスト層３１を露光し、露光により露光領域４１，４２が形成されたレジスト層３１を用いて微細構造体を形成する微細構造体の製造方法において、Ｘ線光源１と露光マスク１１との間にフィルタ２１を挿入してレジスト層３１を露光する露光工程を有している。フィルタ２１の有無、フィルタ２１の種類等を変更することで露光光の広がりを制御することができる。このレジスト層を用いることで、三次元の微細構造体を容易に形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィーによって作製されたプローブ素子の先端を、ダイ接点との電気通信を確立するプローブ素子の能力が高まるように成形するための方法を提供すること。
【解決手段】 プローブカードにおいて使用するように構成されている、リソグラフィーによって作製されたプローブ素子の先端を、テストされる半導体デバイスの接点との電気通信が確立されるように成形する方法が提供される。この方法は、（a）複数のプローブ素子をリソグラフィーによって作製するステップと、（b）サブトラクティブ法を使用して複数のプローブ素子の先端のそれぞれから材料を除去し、先端のそれぞれを、汚染酸化層を良好に貫通するようにされている形状に形成するステップと、を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】例えばランダムピッチのマイクロレンズ・アレイを製造するのに適した、簡素な構造であって、しかも、容易に製造し得る露光用マスクを提供する。
【解決手段】関数Ｒ_i＝ｆ_i（Ｐ）にて表面の描く曲線が表現されるレジスト層を、設計上、形成するための露光用マスクであって、レジスト層における［Ｐ_{i_a}，Ｐ_{i_b}］の閉区間に相当するＸ_{i_a}とＸ_{i_b}との間のマスクパターン領域を、光透過領域と遮光領域とから構成された（２Ｎ_i＋１）個の単位マスクパターン領域に区画したとき、各単位マスクパターン領域ＵＭＰ_{i_n}（ｎ＝０，１・・・２Ｎ）を構成する｛光透過領域／（光透過領域＋遮光領域）｝の面積割合ＲＴ_{i_n}は、ｆ_i（Ｐ_{i_a}＋ｎ｛｜Ｐ_{i_b}−Ｐ_{i_a}｜／２Ｎ_i｝）の値に基づき決定され、Ｎ_iは、｜Ｐ_{i_b}−Ｐ_{i_a}｜の値によって規定される正の整数である。 （もっと読む）

【課題】 マイクロレンズアレイのマイクロレンズや、あるいはそれを形成するためのレンズパターニング用露光マスクの遮光部との位置合わせを簡単に行うことができる、遮光膜パターニング用露光マスクを得る。
【解決手段】 透明基板10上に所定サイズのマイクロレンズ10ｂが複数アレイ状に形成されてなるマイクロレンズアレイに対して、基板表面に層状に形成された遮光膜形成用フォトレジストを露光する光を、マイクロレンズ10ｂが有る部分毎に該レンズ10ｂよりも基本的に小さな開口15ｃを通して照射させる遮光膜パターニング用露光マスク15において、前記開口のうちの少なくとも２つの開口15ｄを、該開口15ｄとマイクロレンズ10ｂの各中心が一致する状態に露光マスク15が透明基板10と重ねられた状態下で、該開口15ｄを通してマイクロレンズの周縁10ｄの少なくとも一部が見える形状とする。 （もっと読む）

【課題】 任意角度をもった所定の細線パターンについて、そのパターン領域内を高精細に露光することのできる可変矩形型電子ビーム露光装置を得る。
【解決手段】 複数の矩形アパーチャ（１１、１２）をそれぞれ異なる角度で配置した第１スリット部材（１０）と、第１スリット部材の各矩形アパーチャとそれぞれ対応する平行な位置関係の複数の矩形アパーチャ（２１、２２）を配置したで第２スリット部材（２０）と、第１スリット部材の一方のアパーチャを透過した電子ビームが第２スリット部材の対応するアパーチャを透過する際は、他のアパーチャを透過した電子ビームが遮断されるように、第１スリット部材の複数のアパーチャを透過した電子ビームを偏向させる偏向部材（４０）と、を具備し、角度の異なる矩形ビーム（３１、３２）を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＢ描画装置などの荷電粒子ビームを用いたレリーフパターンの作製方法において、解像度の高いパターン描画を行い複雑なパターンを高品質に作製する。
【解決手段】電子ビームやイオンビームなどの荷電粒子ビームを用いて、前記荷電粒子ビームに感度を有する高分子材料の表面にレリーフパターンを描画する方法において、ビーム照射源の位置および前記高分子材料の搭載されたステージ位置が固定された状態で、両者が相対的に移動しない状態を維持しながら、前記高分子材料へのビーム照射が行われる操作を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 基板上に異なる複数の光学膜を成膜するときに、相互の位置関係にずれが生じていない光学素子を製造する。
【解決手段】 最初に、基板母材ＢＭに第１のマスク部材Ｍ１を用いて、円形光学多層膜１０およびアライメント用光学多層膜マークＡＭのパターンを転写する。そして、リング状光学多層膜２０を成膜するときには、第２のマスク部材Ｍ２を用いてパターニングを行うが、このとき、基板母材ＢＭ上に形成されているアライメント用光学多層膜マークＡＭを、マーク認識用パターンＴＰを透視して高精度にアライメントすることにより、円形光学多層膜１０およびリング状光学多層膜２０の位置関係を極めて高精度なものにすることができる。また、アライメント用光学多層膜マークＡＭは、剥離用金属膜８０の剥離時に、その形状を常に鮮明なものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】透過率を変調して三次元形状を感光性材料に作製する際に、量子化後の領域境界部が解像するような条件においても領域境界部に起因する表面粗さを改善すること。
【解決手段】露光量に応じた感光性材料の現像後の膜厚分布により感光性材料の三次元光学素子形状を作製する透過率制御型の三次元光学素子形状形成マスクにおいて、透過率の階調毎に量子化したマスク上の領域の境界をずらした複数のマスクパターンを用意し、多重露光して三次元形状を形成する。 （もっと読む）

【課題】 型くずれを起こすことなく、異方的な形状を有する物体から成る複雑で微細な構造物を作製すること。
【解決手段】 光造形用の材料として、液状の光硬化性樹脂ではなく、固体である光架橋反応性のポジ型レジスト材料を用い、これにパルスレーザ光を走査しながら集光照射し、集光位置に多光子吸収による光架橋反応を生起させることにより、異方的な形状を有する物体から成る複雑で微細な構造物を作製する。このとき、光架橋反応が十分に生起するように、パルスレーザ光の強度および走査速度をそれぞれ最適値に設定する。
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【課題】 精細なパターンを形成することを可能にし、磁気記録媒体の記録密度を向上および信号強度を高めることを可能にする。
【解決手段】 レジストが塗布された基板が載置されるステージを１水平方向に移動させる移動機構と、ステージを回転させる回転機構とを備えた電子線描画装置を用いてレジストに電子線を照射して描画する電子線描画方法であって、１回転毎にレジストに同心円を描くように電子線の偏向量を次第に変化させて露光する場合に、１度露光した場所を、次回転以降に少なくとも１回以上電子線の偏向量を変化させて露光する。 （もっと読む）

【課題】要求される薄さの支持されていない構造を形成することができない、及び／又は、要求される薄さでコーティングすることができない、低い分解能の材料を用いて、高分解能目的物を作成する。
【解決手段】これらの形状の固化に、効果的に使用される最小キュア深さに等しいか、又は越える構成材料の深さに、目的物の下面が位置することを可能にするように、より上の層が形成されるまで、少なくとも、幾つかのクロスセクションの少なくとも１部分の上の材料の固化を遅らせるための、露光を制御するために使用された、層比較に基づいたデータ処理技術。前に固化された材料の上に、存在する最小の信頼できるコーティング厚さを確保するために、次の層が固化される以前に、同様なデータ処理が使用される。また、目的物の形成に使用する質の高いクロスセクションデータを提供するために、水平比較技術が使用される。 （もっと読む）

【課題】 簡便且つ安価な方法であって、高精度で信頼性の高いマイクロレンズを製造可能な方法を提供する。
【解決手段】 本発明のマイクロレンズの製造方法は、基材７上の金属膜８に対して光照射を行い所定パターンの開口部１２を形成する工程と、開口部１２を備えた金属膜８を介して基材７に対してエッチングを行い、当該基材７に凹曲面２６を形成する工程と、金属膜８を除去する工程と、基材７を型として凸曲面のマイクロレンズ２６１を形成する工程とを含み、開口部形成工程において、光照射は光源と基材７とを相対移動させながら金属膜８の単位領域毎に単位照射を順々に行うものであって、各単位照射はそれぞれ光照射の条件を異ならせて行うことを特徴とする。 （もっと読む）

ホログラフィック回折パターンを生成する方法およびホログラフィックリソグラフィシステムが開示され、この方法は少なくとも１つの幾何学的形状を定義するステップと、少なくとも１つの幾何学的形状を表すために少なくとも１つの線セグメントを生成するステップと、線幅の制御項および線長の制御項を有する少なくとも１つの線セグメントを表すインパルスに対するフレネル回折式の計算を含め、ホログラム面上の線回折パターンを計算するステップと、２つ以上の線セグメントがある場合にホログラフィック回折パターンを形成するために線回折パターンをベクトル的に加算するステップとを含む。この方法およびシステムによって、記録すべき物理的物体を生成することなくホログラフィックマスクを生成することができる。 （もっと読む）

【課題】
回折光学素子を製造するための新規の方法を提供する。
【解決手段】
回折光学素子の製造方法が、基板１０４の一部分を露出させて第１のマスク１０２を形成するステップと、基板上１０４に第１の膜１１０を堆積させるステップと、第１のマスク１０２を除去して基板１０４上に第１の光学素子１１０Ａを形成するステップと、第１の光学素子１１０Ａの一部分を露出させて第２のマスク１１２を形成するステップと、基板１０４上に第２の膜１２０を堆積させるステップと、第２のマスク１１２を除去して第２の光学素子１２０Ａを形成するステップとを含む。 （もっと読む）

本発明は、最初に、フォトレジストの電子バンドギャップより大きいエネルギーで露光されると相変化を示す無機フォトレジストを提供するフォトニック結晶の製造方法に関する。このフォトレジストを、エネルギーがフォトレジストの電子バンドギャップ未満であるが焦点における強度がそこで非線形作用を生ずる大きさのレーザービームで露光させることにより、このフォトレジスト内で相変化が生ずる。次いで、この露光されたフォトレジストを、好ましくはこのフォトレジストの１相を溶解させるエッチング溶液に曝し、最後にこれから現像されたフォトレジストをフォトニック結晶の形で取り出す。本発明にかかる方法により製造された無機フォトニック結晶は、完全光学装置、回路及び光学通信又はコンピュータシステムに好適である。
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【課題】 微細パターンを高精細に形成することが可能であり、パターン形成における生産性を向上することが可能であり、かつ、高解像度で感光性組成物に所定パターンを形成することが可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 感光性組成物を用いて基材の表面に感光層を形成する感光層形成工程と、光照射手段からの光を受光し出射する描素部をｎ個有する光変調手段により、前記光照射手段からの光を変調させた後に、前記描素部における出射面の歪みによる収差を補正可能な非球面を有するマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイを通過させた光によって、不活性ガス雰囲気下で、前記感光層を、露光する露光工程と、該露光工程により露光された感光層を現像する現像工程とを備えたパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 繋ぎが確実に行え、所望パターンを露光できる荷電粒子線露光方法を提供する。
【解決手段】 複数の荷電粒子線を基板上の互いに異なる位置に入射させ、前記複数の荷電粒子線を偏向する偏向器によって定められる各荷電粒子線の要素露光領域内で、荷電粒子線を偏向させるとともに、各荷電粒子線の照射を制御することによって、前記基板上の複数の前記要素露光領域内にパターンを露光する荷電粒子線露光方法において、前記要素露光領域同士が隣接する部分では要素露光領域を重複させて露光する多重露光領域を設定する段階と、前記多重露光領域において、どちらか一方の前記要素露光領域にのみ存在するパターンは、多重露光しない段階とを有する。 （もっと読む）

【課題】 開口部１ａを適切に配置したフォトマスク１を用いることによって、マイクロレンズ２を高充填率で配置する。
【解決手段】 フォトマスク１として、形成するマイクロレンズ２の形状に対応する多角形状の開口部１ａが、マイクロレンズ２の最密配置パターンに対応するパターンで配置されたものを用いる。より具体的には、フォトマスク１として、最密配置される多角形状（例えば正六角形状）のマイクロレンズ２を所定角度（中心角３０度）だけ個々に回転させた形状で開口部１ａが並ぶものを用いる。そして、そのフォトマスク１との間にギャップを設けてガラス基板上の光硬化性樹脂に光を照射する。これにより、そのフォトマスク１を用いて光硬化性樹脂に光を照射したときに、開口部１ａの形状が所定角度（中心角−３０度）だけ回転した形状のマイクロレンズ２がガラス基板上に形成される。 （もっと読む）

【課題】 露光波長と動波長帯域のモニター光を用いた場合でも回折効率の低下しない回折格子が得られる構成を備えた干渉露光装置を提供する。
【解決手段】 可干渉性を有する第１の光源１２１の出射光を２つ以上の光束に分離して、各光束を重ね合わせて干渉縞を発生させ、前記干渉縞に記録材料１２６を配置させて回折格子を作製する干渉露光装置において、露光時に記録材料１２６から発生する回折光のうちで０次光と＋１次光を除いたものの光強度を測定し、光強度が所定値を超えた際に制御部１２８からの信号により光を遮断することによりモニター感度を低下させない状態で露光を行うことを特徴とする。 （もっと読む）