【課題】分布屈折率レンズアレイを用いた投影露光において、照射範囲や光強度分布の不均一性を低減し、パターンの線幅の均一化や側壁がスムーズなパターンの形成を可能とし、より微細なパターンをも形成可能にする。
【解決手段】分布屈折率レンズアレイを走査方向と直交する方向に移動させるか、分布屈折率レンズアレイを複数設けるかして露光領域を全体的に重畳するか、分布屈折率レンズアレイの光伝播不均一性を補う明暗の濃度分布をもつ光学フィルターを設置するか、均一な部分だけを限定利用する開口制御板を設ける。同時に上記のうち二つ以上の手段を講じてもよい。また、微小透過シャッターアレイ、微小反射シャッターアレイ、微小発光素子アレイのうちいずれかをマスクまたは照明装置とマスクの代わりに使用する。 （もっと読む）

【課題】光学的性能が良く、両面のレンズ面の光軸ずれが小さい有機ＥＬラインヘッド等に用いるマイクロレンズアレイの製造方法。
【解決手段】マイクロレンズアレイの一方のレンズ面に対応する型面９２を持つ第１の金型８２に光硬化性樹脂７６＋７６’を注入し、マイクロレンズアレイの他方のレンズ面に対応する型面９３を持つ第２の金型８３に光硬化性樹脂７６＋７６’を注入し、型面それぞれに光硬化性樹脂を注入した第１の金型８２と第２の金型８３で型面を相互に向かい合わせ、かつ、相互に位置決めして、間に長方形の透明基板７１を挟み、透明基板７１の長手方向側面７１１、７１２に光硬化性樹脂を硬化させる光７８を照射して光硬化性樹脂７６＋７６’を硬化させることにより、透明基板７１の両面上にそれそれレンズアレイを成形する。 （もっと読む）

【課題】指向性のある光源をアレイ状に並べてなる光源とマスクを相対的に回転させてマスク背後に配置したレジストを露光することでマイクロレンズ等の曲面を製造する方法の提供。
【解決手段】透明開口２を設けたマスク１の背後に配置されたフォトレジスト層３に透明開口２を通して照明光を照射し、フォトレジスト層３の露光された部分を硬化させるか分解することで、フォトレジスト層３に曲面構造を作製する曲面製造方法であり、照明光の光源５として光が照射される角度範囲が制限される指向性のある光源をアレイ状に配置してなる光源アレイ６を用い、マスク１とその背後に配置されたフォトレジスト層３とからなる被加工基板４と光源アレイ６とを対向配置し、被加工基板４を光源アレイ６に対して基板面に垂直な軸の周りで相対的に回転させながら、マスク１の透明開口２を通してレジスト３を露光する曲面製造方法。 （もっと読む）

【解決手段】 大量生産、及び複雑な３次元ポリマー及びポリマー派生セラミック微細構造のカスタム化は、３次元コンピュータモデルから直接シングルステップで生産される。投射ベースの非縮退２光子は、従来の１及び２光子製造法の欠点を克服する光重合方法を含む。構造は、デュアル、同期、高いピークパワー、空間変調器と組み合わされたパルス化フェムト秒及びピコ秒レーザを含む。そのアプリケーションは、特にＭＥＭＳパッケージングの領域で様々なＭｉｃｒｏ−Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｓｙｓｔｅｍｓ （ＭＥＭＳ）装置で重要視される高解像度の迅速なプロトタイピングを含む。
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【課題】個々のレンズの頂点部より高さの高い突起部を有するマイクロレンズの製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上にポジ型レジストを塗布し、一方、図に示すようなグレースケールマスク１を製造した。図は平面図であり、その中にレンズ対応部分２と突起部対応部分３とが形成されている。レンズ対応部分２の光透過率は１５〜４７％、突起部対応部分３の光透過率は０％、レンズとレンズの間の平坦部分に対応する部分の光透過率は４７％(レンズ部分の最大透過率と一致)である。即ち、レンズ頂点部は透過率が１５％で露光され、突起部は未露光となる。このグレースケールマスクを使用して前述のレジストを露光して現像したところ、レジストに形成されたレンズ頂点高さはレジストに形成された突起部高さより約５μm低くなった。これでも、レンズ保護の面からは十分実用になるＧＡＰである。 （もっと読む）

【課題】転写パターンとの間の剥離性に優れるとともに、ターゲット基板との間の転写率を大幅に向上させることを可能とした転写基板とそれを用いた転写方法を提供する。
【解決手段】基板１１上に基板１１とは異なる熱膨張率をもつ転写パターン１２を形成する。その後、加熱又は冷却を行うことで、基板１１と転写パターン１２との熱膨張率の相違により、基板１１及び転写パターン１２間にミクロ的な剥離を部分的に発生させる。基板及１１及び転写パターン１２間の密着力を低下させることができる。 （もっと読む）

【課題】（１）０℃以下の低温下に曝露した場合にもサーマルショックに因るクラックを発生しないこと、（２）５μｍ以上の厚膜の形成が可能であること、（３）高感度であること、（４）一般的な溶剤で容易に剥離可能であること、という条件を満たす化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物。
【解決手段】（Ａ）光酸発生剤、（Ｂ）ノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、およびアクリル樹脂の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂成分、（Ｃ）アクリル樹脂およびポリビニル樹脂の中から選ばれる少なくとも一種の可塑剤、（Ｄ）架橋剤、（Ｅ）有機溶剤を含むことを特徴とする低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】部分ごとに加工量が異なる形状を一度の露光で容易に加工できる加工装置および加工方法を提供する。
【解決手段】ＳＲ光のＸ線を放射するＳＲ光源と、ＳＲ光源から放射されたＸ線を透過する所定の形状の透過部を有するＸ線マスク３２と、Ｘ線マスクと材料とを相対的に移動させ、透過口を透過したＸ線が材料に照射される領域を振動させるために、Ｘ線マスクと材料とを相対的に振動させる露光用ステージとを備える。Ｘ線マスク３２には、７つの透過口１０３Ａ〜１０３Ｇが形成されている。これらはすべて、同心円でそれぞれの境界が区切られている。Ｘ線マスク３２を振幅ｄで方向Ｘおよび方向Ｙに移動させると、単位時間当りに材料に照射されるＸ線に粗密差が生じ、一度の露光で部分的に加工量が異なる３次元の形状に加工する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、少ない工程で、滑らかな３次元構造を有するパターン形成体を得ることができるパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、目的とする３次元構造の形状を２値化することにより、ドットモジュレーションパターンを形成するドットモジュレーションパターン形成工程と、上記ドットモジュレーションパターンを用い、基板上に形成された感光性樹脂層に対して、描画装置により直接描画を行う描画工程と、上記描画後の感光性樹脂層を現像することにより、３次元構造樹脂層を形成する現像工程と、を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法であって、上記描画工程が、上記ドットモジュレーションパターンの最小ドット領域よりも大きな領域で感光性樹脂層に描画エネルギーが付与される描画エネルギー付与方式により行われることを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基板上への微細パターン形成時に、感光性樹脂が反応する部位をより微小に制御するとともに、感光性樹脂層の厚み管理をより簡易化することを可能とするパターン形成方法の実現を目的とする。
【解決手段】特に極短パルスレーザを、その焦点が基板と感光性樹脂層との界面に位置するように集光して、感光性樹脂層を反応させて微細パターンを形成する。その際に、極短パルスレーザは基板側から照射される。 （もっと読む）

【課題】光源と原画体とからなる非常にコンパクトな装置を用いて、わずか１回の露光で、マイクロメートルスケールの空間分解能を有する微細な三次元構造物を容易に作製することのできる三次元構造物作製装置を提供すること。
【解決手段】光源１と、作製される三次元構造物に対応する階調、サイズ、及び形状のデータを有する原画体２とを備え、光源１から照射される光を、基板３上に形成されたレジスト４に、原画体２を介して照射し、原画体２の前記データをレジスト４に転写し、現像して、レジスト４に三次元構造物を形成することを特徴とする三次元構造物作製装置である。 （もっと読む）

【課題】照射雰囲気における空気循環を効果的に行うことができる光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線照射装置は、ランプユニットと、ワークを載置するためのステージ２０と、ステージ２０をランプユニットに対して走査させる走査機構とを備えている。載置面２１には排気口２５が配設されている。排気口２５は吸引ポンプに連通されており、載置面２１上のワークに紫外線が照射される状態において、照射雰囲気の空気を強制排気する。 （もっと読む）

【課題】一つのグレースケールマスクを使用して、目標値に近いレジストパターンの傾斜角度を得ることができるレジスト形状の形成方法を提供する。
【解決手段】フォトレジスト工程により、基板上のレジストに、傾斜角度が５５°未満のパターンを形成する場合のレジスト形状の形成方法であって、標準露光量で前記レジストを露光した場合に、現像された前記レジストの傾斜角度が目標傾斜角度より小さくなるようなパターンを有するグレースケールマスクを用い、標準露光量より多い露光量でオーバ露光を行う工程を有することを特徴とするレジスト形状の形成方法。 （もっと読む）

【課題】 比較的簡易な工程でありながらも、先端が鋭く表面平滑性の良好なマイクロニードルのパッチを製造する方法と、それによって得られる表面粗度の低いマイクロニードルを提供する。
【解決手段】 フォトレジストの層の上に、複数の島状遮光部を有して部分的に遮光するフォトマスクを設けて、感光性部材を形成する感光性部材形成工程と、前記感光性部材の上方から光を照射して、前記フォトマスクにより前記フォトレジストの感光部位を選定制御する露光工程と、前記感光性部材からフォトマスクを除去し現像を行なうフォトレジスト処理工程と、を含む原版の製造方法において、前記露光工程に、前記感光性部材に対する光照射方向が相異なる複数の光照射を行なう方位調節照射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 露光する線束と感光性部材との相対的な方位関係を調節でき、露光部位を自在に選定制御できる露光装置及び方法を提供すること。
【解決手段】 レジストから成る薄膜を支持するステージを備えた露光装置において、前記薄膜を露光する線束を調節して出力する制御系を有する線源出力調節手段と、前記線束を収束調節する制御系を有する収束調節手段と、前記ステージを並進移動させて位置調節する駆動系及び制御系を有するステージ並進移動調節手段と、前記線束の射出口と前記ステージとの相対方位を調節する駆動系及び制御系を有して、前記薄膜に対する線束照射方向が相異なる複数の照射を可能にする照射方位調節手段とを設ける。 （もっと読む）

【課題】互いに正しい位置関係で構造化機能層と、関連して形成され得る部品とを備えた多層体を製造する改善プロセスを提供し、特に、変形する傾向のあるキャリア基質上へ電子部品を形成する改善プロセスを提供する。
【解決手段】本発明は、多層体の製造プロセスに関する。多層体は、キャリア基質の下面が、第一領域において、第一露光放射に対して透明となり、第一領域と正しい位置関係の少なくとも一つの第二領域において、第一露光放射とは異なる少なくとも一つの第二露光放射に対して透明となり、下面は、第一および少なくとも一つの第二露光放射により連続して露光され、第一露光放射は、第一機能層を構築するために用いられ、少なくとも一つの第二露光放射は、少なくとも一つの第二機能層をキャリア基質の上面に構築するために用いられるように作られる手順により構築された少なくとも二つの機能層をキャリア基質の上面に含む。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＲやＬＷＲが良好な凹部または凸部を有する凹凸パターンを形成し得るパターン描画方法を提供する。
【解決手段】基材上の樹脂層に描画用ビームを照射して露光領域Ａ０を露光して露光パターンを描画する際に、描画用ビームの中心位置を樹脂層に対して第１の方向（矢印Ｒの向き）に沿って相対的に移動させつつ第１の方向と交差する第２の方向（左右方向）において所定のピッチＰ１〜Ｐ５で隣り合う照射領域Ａａ１〜Ａａ６のうちの１つに描画用ビームを照射するビーム照射処理を照射領域Ａａ１〜Ａａ６に対して実行して露光領域Ａ０を露光する描画方法であって、露光領域Ａ０のうちの１つを露光する際に、照射領域Ａａ１〜Ａａ６のうちの第２の方向における両端部の照射領域Ａａ１，Ａａ６と、隣り合う照射領域Ａａ２，Ａａ５とのピッチＰ１，Ｐ５について、各照射領域Ａａ１〜Ａａ６の各々のピッチＰ１〜Ｐ５を平均した長さよりも短くする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、所定の数の個別の画素（ピクセル）を備えるイメージングユニットを用いたエネルギー入力により、電磁放射作用の下で固化可能な材料を固化することによって３次元物体を生成するための方法を提供すること。
【解決手段】この方法は、ビットマップマスクを使用する露光で固化を実施することを含む。ビットマップマスクは、生成される３次元物体の少なくとも一部の３次元モデルを完全にまたは部分的に囲む３次元ボリュームの重複分析によって提供されるビットマップデータのスタック又は重複情報を備える２次元データセットから形成され得る。固化は、「進行中に」生成されたビットマップマスクを使用する露光を用いて実施され得る。本発明は、本発明を実施しまたは実行するのに有用な装置、ならびにコンピュータおよびデータキャリアをも対象とする。 （もっと読む）

【課題】露光パターンにおける深さ方向の傾斜角を変化させる。
【解決手段】露光に用いられる光源１３０と、光源１３０からの光を透過する基板の同一の面に、光を透過しない光遮断層と、光の照射角度により透過率が変化し、光を基板に略垂直に照射した際、光を最も透過する光干渉層とを形成した露光マスク１０５と、露光マスク１０５の光干渉層及び前記光遮断層の形成されている面に、感光性材料を塗布等し、露光マスクの感光性材料の形成面の反対より光が照射するように固定する露光マスクステージ１３８と、露光マスク１０５に対し垂直方向を軸として、露光マスクステージ１３８を回転させる露光マスク回転機構と、光源１３０からの光を露光マスク１０５に対し垂直及び、斜めに照射するために、露光マスク１０５を傾斜させることが可能な露光マスク傾斜機構２４９を有することを特徴とする露光装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】各色に対するレンズに適する形式にカスタマイズすることが可能な技術を提供すること。
【解決手段】 光センサにおいて用いられるマイクロレンズの形成方法は、特定の色領域の光を感知する光検出素子配列を準備する工程と、この光検出素子配列上にマイクロレンズ材料を堆積する工程とを包含する。この構成をフォトレジストにより被覆した後、フォトレジストを、色領域の各色に対する個別の露光において、マスクし、かつ露光する。フォトレジストを現像し、マイクロ材料をエッチングすることによってマイクロレンズ配列を形成する。 （もっと読む）