【課題】オペレータが、最初の構築の完了と構築媒質からの取出し、二回目の構築の開始、または二回目の構築の完了に付き添う必要がなく、ステレオリソグラフィー装置において構築物を製造するために使用されるカートを提供する。
【解決手段】コントローラに動作可能に接続されたカート１２０であって、基部、垂直に延在する支持部、および垂れ受けトレイ１２２を支持し、構築台３０を垂れ受けトレイ１２２上に受け取るためにステレオリソグラフィーチャンバ１２中に延在する、コントローラに応答して支持部から延在する第１の伸縮式アーム１２３、並びに交換を行うためにステレオリソグラフィーチャンバ１２内に別の構築台１２４を導入するためにステレオリソグラフィーチャンバ１２中に延在するその上に別の構築台１２４を支持する第２の伸縮式アーム１２５を備えたカート１２０。 （もっと読む）

【課題】所定形状を有する微細な立体構造体を容易に製造することができる微細立体構造体の製造方法及びそれに使用するＸ線マスクを提供する。
【解決手段】Ｘ線吸収体２５はＸ線透過方向における厚みに変化を持たせるようにした。このため、レジスト層２２におけるＸ線吸収体２５の投影部位に対するＸ線透過量はＸ線吸収体２５のＸ線透過方向における厚みに応じて異なり、レジスト層２２の表面に露光されるＸ線照射量（Ｘ線吸収量）に変化がもたらされる。その結果、現像によりレジスト層２２の露光部位を除去することにより、Ｘ線照射量に応じた段差のない滑らかな傾斜面を有する所定形状の微細立体構造体２７が得られる。 （もっと読む）

【課題】所定形状を有する微細な立体構造体を容易に製造することができる微細立体構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】露光する場合に、Ｘ線マスク２３とレジスト層２２とを所定の離間距離ｄだけ離間して配置し、当該Ｘ線マスク２３を介するＸ線の直進光２４ｂ及び回折光２４ａの双方を利用してレジスト層２２を露光するようにした。その結果、現像によりレジスト層２２の露光部位を除去することにより、レジスト層２２の表面に向かうにつれて開口面積が大きくなる凹部１４及びレジスト層２２の表面に向かうにつれて断面積が小さくなる突部１５が得られる。回折光２４ａを利用してレジスト層２２へのＸ線照射量を変化させるようにしたので、Ｘ線マスク２３を基板２１に対して平行に相対移動させるための移動機構を加工装置に搭載する必要がなく、当該加工装置の簡素化が図られ、ひいては設備コストの低減に寄与する。 （もっと読む）

【課題】平面部の露光の解像度が高く平面部および側面部を同時に露光する量産性に優れたパターン露光方法を提供すること。
【解決手段】被露光体の平面部および側面部にマスクパターンを投影するパターン露光において、透明な基板の一方の表面に遮光パターンを形成し他方の表面にマスクパターンを形成してなる露光マスクを用い、露光マスクを、マスクパターンを形成した側の表面が平面部に平行に対向するように配置し、遮光パターンを形成した側から光を照射して平面部および側面部に所定のパターンを投影する。 （もっと読む）

【課題】半導体工程を用いて製造することによって精密性を向上させてマイクロ単位のレンズを作ることができ、多様な形態を有する多重層マイクロレンズ及びマイクロレンズアレイを提供する。
【解決手段】本発明は、同心円パターンを有するマスクを製造した後、フォトレジストのコーティングされた基板上に上記マスクを整列させて露光し、上記露光された基板を現像してトーラス形態を有するフォトレジストの同心円パターンを得る。その次、上記現像された基板に対してリフロー工程を遂行して上記トーラス形態のフォトレジストを湾曲させ、上記トーラス形態のフォトレジストからなる同心円パターンを陰刻したスタンパを製作した後、上記スタンパを金型として用いて上記同心円パターンを有するレンズ及びレンズアレイパターンを成形する。 （もっと読む）

【課題】形成領域における内周側および外周側の両端が直線的になるようにパターンを描画し得るパターン描画方法を提供する。
【解決手段】表面に樹脂層が形成された基材を矢印Ｒの向きに回転させつつ、凹凸パターンを構成する凸部および凹部の一方の平面パターンを樹脂層に描画する際に、一方を形成すべき形成領域Ａ０における基材の回転方向に沿った帯状露光領域Ａ１の回転方向の一端部側から他端部側までの間において描画用ビームを間欠的に２回（Ｎ回）照射することにより、回転方向に沿った２個の帯状照射領域Ａ１ａ，Ａ１ｂに描画用ビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】 段差の大きなレジストパターンを製造する方法を提供する。
【解決手段】 まず、石英やガラスで形成された基板（光学基材）１の上にポジ型のレジスト２を塗布する（ａ）。そして、グレースケールマスク３を用いてレジスト２を感光させる。このときの露光量は、レジスト２が発泡しない範囲の露光量とする（ｂ）。そして、レジスト２を現像する（ｃ）。次に、同じグレースケールマスク４を用意し、これを用いて、レジスト２を再び感光させる。このときの露光量も、レジスト２が発泡しない範囲の露光量とする（ｄ）。そして、再びレジスト２を現像する（ｅ）。このようにして、目的とする大きなＳＡＧ量を有する、レジスト２からなるマイクロレンズを形成する。 （もっと読む）

【課題】 目的形状に近い形状の光学素子を製造することができるグレースケールマスクを用いた光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 まず、図に示す位置においてレジストの露光を行い、その後、グレースケールマスク１を回転中心の周りに、９０°、１８０°２７０°回転させた位置として、それぞれの位置において露光を行ってから、レジストの現像を行う。このようにすると、１つのマイクロレンズが形成される領域が、４種類のマイクロレンズ用グレースケールパターン２を使用して露光を受けることになり、マイクロレンズ用グレースケールパターン２の製作誤差が平均化されて、より設計値に近い積算露光量を受けることになる。よって、１回露光した後に直ちにレジストの現像を行うよりも、正確な形状のレジストパターンを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】装置のコストアップや、露光速度の低下を招くことなく、露光性能を向上させることにより、配線パターン等の永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】露光が、結像手段の中央部を含む略矩形状の領域のみにおいて、光変調手段により変調された光が結像され、感光層の被露光面上に結像される略矩形状の露光領域が、その短辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角が、その長辺方向と前記感光層のうねり方向とがなす角よりも小さくなるように向けられて行われるため、光学性能の良い領域に選択的に照射された光が結像され、焦点位置が適切な位置に調整される。この結果、前記感光層への露光が高精細に行われ、その後、前記感光層を現像することにより、高精細なパターンが形成される。結像手段が、周辺領域に歪みを持たせ、中央部を含む領域の歪みを少なくして製造された投影レンズから構成される。 （もっと読む）

【課題】 描画単位が２次元的に分布した露光ヘッドを備えるデジタル露光装置を用いた露光において、コストを抑えつつ、各描画単位の光量を均一化することにより、微細なパターンを高精度に形成可能なパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 感光層に対し、光照射手段から出射した光ビームを、光分布補正手段を有する集光光学系を介して照射し、前記光変調手段により変調された光ビームを照射して露光を行うことを少なくとも含み、該露光が、前記光照射手段から前記光変調手段に照射される光ビームの照射領域内での光量に分布を持たせ、前記光変調手段により変調された光ビームの光量分布が、前記感光層の被露光面上において均一となるように補正されて行われることを特徴とするパターン形成方法である。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂材料からなる、微細溝パターンの断面形状を、希望とする断面形状に得るための方法を提供する。
【解決手段】光照射によって分解または硬化する、ポジ型、ネガ型の感光性樹脂を用い、基板上にこれら感光性樹脂からなる溝パターンを露光、現像によって形成し、そのパターンをマイクロ化学チップの流路やＤＮＡ解析用チップ、ケミカルエッチング用レジスト、ドライエッチング用レジストなどに用いる、感光性樹脂パターンの形成法において、露光方式にプロキシミティ露光を用い、フォトマスク３と感光性樹脂８を塗布した基板９との間の距離７の選択、または基板とフォトマスクの距離を時間的に変えることによって露光現像し、感光性樹脂溝パターンの断面の形状を希望する値に制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】インプリント・リソグラフィにおける経済的なテンプレートの製造技術の提供。
【解決手段】針３３と、インプリントされる基板３５を保持するように構成された基板テーブルＴとを有するインプリント・リソグラフィ装置．針３３は第１位置と第２位置の間で動かすことができ、第１位置は、使用中の針が基板に設けたインプリント可能材料層３６に入り込む位置であり、第２位置は、使用中の針が基板に設けたインプリント可能材料から離脱した位置である。基板テーブルと針は、一方が他方に対して走査され得るようになっている。 （もっと読む）

【課題】 低コストで、高精度な微細構造体を得ることができる方法及び装置を提供すること。
【解決手段】 本発明の紫外線露光方法は、紫外線源２が放射する紫外線を１又は複数枚のフォトマスク４を介して材料５ｂに露光する紫外線露光方法であって、紫外線源２は、複数波長又は連続波長の紫外線を放射するものである。また、材料５ｂの露光中に、材料５ｂの表面と平行な平面内における紫外線のエネルギー分布が連続的に変化するように、フォトマスク４を材料５ｂの表面に対して平行方向に相対的に移動させるものである。 （もっと読む）

【課題】所定の立体面を有する三次元微小成形体の成形精度を向上させることのできる感光性樹脂組成物および該組成物を用いたドライフィルムを提供する。
【解決手段】化学線露光量（ｍＪ／ｃｍ²）をｘとし、その露光量による樹脂硬化量を現像前の塗布膜厚ｈ（μｍ）に対する現像後の残膜厚Δｈ（μｍ）の比ｙ（＝Δｈ／ｈ）で表わし、ｘとｙとの関係式ｙ＝αＬｎ（ｘ）±β（βは任意の実数）を求めた場合、０．３５≦α≦０．７８である光感度を有する組成物を三次元微小成形体製造用の感光性樹脂組成物として用いるとともに、該組成物を用いて感光性ドライフィルムを得る。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのラピッドプロトタイピング媒体（ＲＰＭ）を照射するための方法および装置に関し、前記照射は、前記ラピッドプロトタイピング媒体（ＲＰＭ）上に投射される少なくとも２つの同時の個別に変調された光線（ＩＭＬＢ）により実施され、前記ラピッドプロトタイピング媒体は、少なくとも２つの異なる波長内容（ＷＬＣ１、ＷＬＣ２）を有する光線（ＩＭＬＢ）を用いて照射される。
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フォトリソグラフィプロセスが説明される。このプロセスは、フォトレジスト層（２）を基板（１）に塗付するステップと、フォトレジスト層（２）を適切な波長をもつ放射線源に局所的に露光させるステップと、適切な液性現像剤組成物を基板（１）に供給するステップと、フォトレジスト層（２）の露光領域又は非露光領域を現像剤組成物で溶解させるステップと、フォトレジスト層（２）をリンスし乾燥させ、それにより上記の溶解ステップを中断させるステップと、を含む。基板（１）はフォトレジスト層（２）と接触する金属表面（１ｃ）をもち、フォトレジスト層（２）は厚さｄｒ＜１００ｎｍをもつ。７０度以上の比較的高いフォトレジスト壁のスティープネスが達成される。このプロセスは、該プロセスで製作されたスタンパ（３）を用いることによって、高密度光データ記憶媒体を製作するために使用され得る。
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【課題】 表面の凹凸が比較的大きい基板に対して、焦点ずれが小さく、高精度なパターン形成を行うことが可能なパターン転写方法を提供する。
【解決手段】 本発明のパターン転写方法は、露光装置ＥＸＰを用いた光照射によってマスクＭ１に形成されたパターンを基板Ｐに転写する方法であって、露光装置ＥＸＰの焦点深度と基板Ｐの表面高さ形状とに基づいて、パターンに対して複数のブロック領域（Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４，…）を設定する工程と、パターンにおける複数のブロック領域（Ｂ１，Ｂ２，Ｂ３，Ｂ４，…）の各々ごとに、焦点位置を変化させながら光照射を行う工程とを有する。 （もっと読む）

第１の面１３、１４を有し、第１の面のパターンを、感光性被膜２２で覆われた第２の面２３を有する被転写体２０に、パターニングされた第１の面を被膜に接触させることによって、転写することに使用可能であるテンプレート１０であって、このテンプレートは、例えばニッケルのキャリヤベース１１を備え、第１の面においてキャリアベース上に導波路１４が配置される。導波路は、放射線入力において導入される光を中に導き、被膜のうちの部分２４にエバネッセント波を漏らすようになっている。テンプレートはまた、第１の面において上記導波路のうちの選択された部分の上に配置された非透過性シールド１５とともに、エバネッセント波が被膜に漏れることが可能な場所を定義するように働く。本発明はさらに、このテンプレートを使用する方法および装置、およびこのテンプレートの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】照明システムと、パターン形成システムと、投影システムと、組合せシステムとを備えるリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】照明システムは、放射のビームを供給する。パターン形成システムは、ビームにパターン形成する。パターン形成システムは、ビームの当該の部分によって照明されるように構成された少なくとも２つの個別に制御可能な要素のアレイを備え、各アレイが、ビームの当該の部分にパターン形成する。組合せシステムは、パターン形成部分を組み合わせてパターン形成ビームにする。投影システムは、パターン形成ビームを基板の目標部分に投影する。 （もっと読む）

【課題】 三次元目的物の造形において、低コストのソリッド・イメージング技術と目的物の形状を維持しエッジを平滑化するデジタル画像投影法とを組み合せることにより従来技術における問題を解決する。
【解決手段】 固化性液状材料にデジタル的に光を投影した三次元目的物の断面画像の多重露光にサブピクセル・シフトを採用したソリッド・イメージング方法を提供する。多重露光により、解像度の向上、三次元目的物の画像形状の保持、および当該サイズにおける投影画像のピクセル数が限定されているデジタル光プロジェクターを使用した場合に生じる粗い、即ち、不規則なエッジの平滑化が図られる。アルゴリズムを用いて露光断面に投影される各々の画像の境界内における露光ピクセルが選択される。 （もっと読む）