【課題】マスク製造の負荷を増加させること無く、より滑らかなレジストパターンを得る。
【解決手段】先ず、被加工基板の主表面上に、膜厚が不均一なレジストパターンを形成するフォトマスクを用意する。このフォトマスクは、透明なマスク基板の表面に行列状に配列された複数の正方形のマスクセルを有し、マスクセルの一辺の長さは、当該フォトマスクが用いられる露光装置の光学系の解像限界となる長さよりも小さく設定される。各マスクセルは光透過領域と遮光領域のいずれか一方又は双方を備え、各マスクセルの面積に対する光透過領域の面積の比によって、各マスクセルを透過する光の強度を決定する。次に、主表面上にレジスト材を塗布した被加工基板の、主表面に直角方向の位置である垂直焦点位置を、最適焦点位置とは異なる位置に合わせる。次に、フォトマスクを透過する光でレジスト膜を露光した後現像して、レジストパターンを得る。 （もっと読む）

【課題】 レンズの形状と面内配置の精度が高いマイクロレンズを簡便に且つ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】 活性エネルギー線の作用によって酸を発生する酸発生剤または塩基を発生する塩基発生剤を含有し、さらに、酸または塩基と反応して一種類以上の低沸点揮発性物質を分解脱離する分解性官能基を有する化合物を含有する樹脂シートに活性エネルギー線を照射した後に加熱することにより分解反応させ、発生した低沸点揮発性物質により樹脂シート中に平面方向及び厚さ方向に分布を持つように微細な気泡を形成させることを特徴とするマイクロレンズの製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱リソグラフィーを応用して、簡便に微細中空体を形成する方法、および該方法により形成された微細中空体の提供。
【解決手段】支持体とレジスト膜との間に、熱リソグラフィーにおいて用いられる露光光源の波長の光を吸収するレジスト下層膜を有するレジスト積層体に対し、前記レジスト下層膜に吸収される波長の光を用いて選択的露光を行うことを特徴とする、微細中空体の形成方法、および該微細中空体の形成方法により形成された微細中空体。 （もっと読む）

【課題】マスターから基板に微視的パターンを複製する方法を提供する。
【解決手段】本発明では、マスター上のトポグラフィ構造の複製物が形成され、必要とされるときに、種々の印刷技術又はインプリント技術の１つを用いて、受け基板上に転写され、次いで溶解される。ナノ構造、マイクロデバイス又はその一部の形成を含む付加的な処理工程もまた、転写前に、複製物を用いて行うことができる。次いで、これらの構造もまた、複製物が転写されるときに基板上に転写され、該複製物が溶解されるときには基板に残る。これは、集積回路その他のマイクロデバイスの製造における種々のリソグラフィ処理工程の相補的な工程として、又は置換工程として適用することができる技術である。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、段差を備えた基板上に形成されたレジスト膜に荷電粒子線を照射する第１のステップと、前記レジスト膜に前記第１のステップよりも高いドーズ量で荷電粒子線を照射する第２のステップと、を相前後して行うことを特徴とする。本発明の構成によれば、レジスト膜が平坦となるように充分にレジスト膜を厚くした場合であっても、第一のステップによりレジスト膜の表層が低ドーズ量で露光されるため、最終的に形成されるレジストパターンのアスペクト比を低くすることが出来る。 （もっと読む）

【課題】帯電によるパターンの描画異常を抑制し、かつ多段の微細な３次元構造パターンを形成するのに適したパターン形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のパターン形成方法は、段差を有する基板上に、導電性を有する非水溶性の樹脂からなる樹脂層を形成することを特徴とする。本発明の構成によれば、段差を埋める樹脂層は非水溶性かつ導電性を有するため、樹脂層は帯電防止層として働く。このため、荷電粒子線を用いてパターニングを行うとき、樹脂層上のレジストに描画異常が発生することを抑制することが出来る。 （もっと読む）

【課題】「すそ引き」状態の発生を解消し、側壁が垂直な凸状の厚膜レジスト立体パターンの製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）において、透明基板１の上にレジスト２が塗布され、透明基板１の裏面には、金属膜、誘電体膜等の反射体３が設けられている。このような状態でステッパを使用し、マスク４を通して、凸系パターンとなる部分以外のレジスト２を露光すると、露光光のうちの一部が透明基板１にまで達し、透明基板１を透過して矢印で示すように反射体３で反射され、そのうちの一部が露光されない部分に達してこの部分を露光する。よって、従来「すそ引き」状態となっていた部分の露光量が増して現像の閾値を超え、その結果、レジスト２を現像すると、（ｂ）に破線で示す「すそ引き」部分が無くなって、（ｂ）にハッチングで示すように、レジスト２の側壁が垂直な凸状の厚膜レジストの立体パターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】 簡単な方法と低コストでナノ級の微細パターンの大面積化を可能にし、大面積をなすセル間の干渉及び境界誤差を最小化できるマスクモールド及びその製作方法と、製作されたマスクモールドを用いた大面積・微細パターン成形方法を提供する。
【解決手段】 マスクまたは微細パターンの刻印された複数の小型モールドに、レジストを塗布する段階と、前記複数の小型モールドを加圧し、前記レジストに微細パターンをインプリンティングする段階と、前記レジストを硬化する段階と、前記複数の小型モールドを前記レジストから離型する段階とを含む。 （もっと読む）

【課題】レジストをエッチングマスクとして用いず、またリフトオフ法を用いることなくパターン形成が可能となるパターンの形成方法等を提供する。
【解決手段】パターンの形成方法であって、
母材上の薄膜の表面に、レジストによるパターンを形成する工程と、
レジストによるパターンの上に、反転層を形成する工程と、
反転層を前記レジストの表面が露出するまで除去した後に、レジストを除去することにより、レジストによるパターンと相補的な前記反転層による反転パターン形成する工程と、
反転層による反転パターンをマスクとして前記薄膜をエッチングし、該薄膜上に反転層を有する該薄膜によるハードマスク層を形成し、該ハードマスク層をマスクとして、または薄膜上の前記反転層を除去したハードマスク層をマスクとして、母材をエッチングする工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス材表面に光反射抑制構造を転写するためのナノインプリント用モールドを製作しうる技術を開発する。
【解決手段】本発明によって提供される解決手段の１つは、グラシーカーボン製の基板の表面に、およそ円錐を逆にしたような形状の孔又は窪みを多数有する被膜を形成し、その被膜の上から酸素エッチングを施すことを特徴とする。この手法によれば、上記の錘状窪みを型としてエッチングが進行するため、基板表面に、すり鉢状の窪みを一度に多数形成することができる。この基板をモールドとしてガラス材にナノインプリントを行うことにより、そのガラス材表面に無反射構造を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】レンズとしての機能を維持しつつ、表裏を平坦化可能なシート状のマイクロレンズアレイを提供すること、
【解決手段】樹脂を含有するシート状の第１層１と、第１層１上に設けられた樹脂及び金属化合物微粒子を含有する第２層２とを備えるマイクロレンズアレイ１００。第１層１と第２層２との界面１０が、第１層１側に凹んだ複数の凹部１０を形成している。第２層２の第１層１とは反対側の面２０が平坦である。 （もっと読む）

【課題】モールド中心点とモールド上に形成された凹凸パターンの中心点とが一致していないようなモールドを用いる場合であっても、ディスク基板の中心に対して凹凸パターンの中心点を一致させる調整を簡単かつ高精度に行うことができるインプリント装置およびインプリント方法を提供する。
【解決手段】凹凸パターン領域とその外周部に形成された位置合わせマークとを有するモールドを用いて、前記凹凸パターンを被転写体に転写するインプリント方法において、モールドの中心と被転写体の中心を合せるステップ（ａ）と、凹凸パターンと被転写体の位置合わせを行うステップ（ｂ）と、モールドと被転写体との間に圧力を印加するステップ（ｃ）と、を含み、ステップ（ｂ）において、位置合わせマークを用いて、被転写体の中心と凹凸パターンの中心が一致するように、モールドと前記被転写基板の相対位置を調整する。 （もっと読む）

【課題】安全性が高い上に感度が高く、化学的安定性に優れていて微細なレジストパターンを形成することが可能な、感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）多官能エポキシ樹脂と、特定の構造を有するアニオン部を有するオニウム塩を含有する（ｂ）カチオン重合開始剤、及び（ｄ）増感剤を含有してなる感光性樹脂組成物によれば、安全性が高い上に感度が高く、化学的安定性に優れていて微細なレジストパターンを形成することが可能な、感光性樹脂組成物を提供できる。 （もっと読む）

【課題】塗布均一性を向上させることにより、パターン寸法のばらつきが生じることなく、高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、さらには前記レジストパターンを部品として組み込んだＭＥＭＳ用デバイスを提供する。
【解決手段】多官能エポキシ樹脂及びカチオン重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物中に、シリコーン系の界面活性剤を添加することにより、塗布均一性が向上し、パターン寸法のばらつきが生じることなく、高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる感光性樹脂組成物、さらには前記レジストパターンを部品として組み込んだＭＥＭＳ用デバイスを提供できる。 （もっと読む）

【課題】装置構成を複雑化することなく、要求される造形精度に応じた造形を行うことができる光造形装置を提供する。
【解決手段】ＤＭＤ（デジタルミラーデバイス）によって変調された光が露光位置において結像する像の歪み分布を基に、ある露光解像度で露光する際に変調対象とするミラーの範囲である露光使用領域を設定する。各断面について所定サイズの部分領域を単位に露光解像度を設定する。各断面での露光対象領域を、同一の露光解像度が設定された部分領域群ごとに仮想的に分割する。露光は、同じ露光解像度が設定されてなる部分領域群ごとに、該部分領域群に対応付けられてなる露光使用領域を使用して行う。 （もっと読む）

【課題】複数の単位構造を備えた光学素子を簡便かつ量産性に優れた方法で作製する。
【解決手段】基板１と、基板１の表面に形成された複数の単位構造３とを備え、各単位構造３は、基板１の表面に対して傾斜した傾斜面７ａを有する光学素子１００の製造方法であって、（ａ）ネガ型感光性樹脂を用いて、基板１の表面にレジスト層１２を形成する工程と、（ｂ）レジスト層１２に対してフォトマスク２０、３０を用いて露光し、現像を行うことにより、間隔を空けて配置された複数の単位構造形成層１３を形成する工程であって、各単位構造形成層１３は、第１の露光量で露光された第１領域１５と、前記第１の露光量よりも少ない第２の露光量で露光された第２領域１７とを含む工程と、（ｃ）複数の単位構造形成層１３の熱処理を行って、各単位構造形成層１３のうち少なくとも第２領域１７を熱変形させて基板１の表面に対して傾斜した傾斜面７ａを形成することにより、それぞれが傾斜面７ａを有する複数の単位構造３を得る工程とを包含する。 （もっと読む）

【課題】高アスペクト比のピラー形状レジストパターンを得ることが可能な、高アスペクト比ピラー形状レジストパターンの形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基材１１上に電子線レジスト層２１を形成し、電子線露光装置を用いて、電子線レジスト層２１のパターン描画、現像等のパターニング処理を実施し、基材１１上の所定位置に格子形状の初期レジストパターン２２を形成する。プラズマエッチングなどの手法を用いて、格子状の初期レジストパターン２２を等方的にエッチングし、線幅が縮小された格子状レジストパターン２３を、さらに、プラズマエッチングをさらに進め、交点部にピラー形状のレジストパターン２４及び所望の寸法のピラー形状レジストパターン２５を形成する。 （もっと読む）

【課題】光反応性樹脂からなる構造体を破損せずに簡単に製造する製造方法を提供する。
【解決手段】光反応性樹脂２０からなる構造体１を製造する方法であって、液体状の光反応性樹脂２０が塗布された温水溶融シート１０の光反応性樹脂２０にマスク３０のパターン３２を露光し、露光後の光反応性樹脂２０と温水溶融シート１０を現像し、現像後の光反応性樹脂２０と温水溶融シート１０を５０℃以上の温水で処理して温水溶融シート１０を溶解することを特徴とする方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】薄膜の強度を上げて大きな露光面積を確保し、高アスペクト比の吸収体パターンを持つ構造のＸ線マスクを低コストで提供する。
【解決手段】Ｘ線マスクの構成を、少なくとも第１の吸収体パターン５３とこれを囲む透過材５２とからなるＸ線マスク５１および第２の吸収体パターン５３’とこれを囲む透過材５２’とからなるＸ線マスク５１’の、２種類以上のＸ線マスクを重ね合わせて固定した構造を持つものであって、吸収体パターン５３，５３’全体が透過材５２、５２’によって包み覆われた構造をもつこととした。 （もっと読む）

【課題】 微細構造体を形成するときの構造部の傾斜面の方向や角度を任意に制御することが可能な露光方法、露光装置、微細構造体の製造方法およびこれにより製造された微細構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】 フォトマスクＭとワークＷとを互いに平行に近接配置した状態で、光源２から出射した光の光軸とワークＷの表面の法線とが交差する方向に一体的に移動させて露光を行う。このときには、ワークＷが光源２から出射した光の入射側とは逆側に配置されるように、フォトマスクＭに対してワークＷをワークＷの表面に沿って移動させる。 （もっと読む）