【課題】ガラス基板の表裏に互いに位置合わせされたパターンを形成するときに、これらのパターンがガラス基板の熱収縮によってずれることを防止する。
【解決手段】
まず、ガラス基板が収縮する温度よりも低温で、最終的に形成するポジパターンを反転させたネガパターンを、ガラス基板の表裏に互いに位置合わせして形成する。次に、ガラス基板が熱収縮する温度以上の高温で、ネガパターンを覆うように、ガラス基板の表裏にそれぞれポジパターンの材料を成膜する。そして、ネガパターンを剥離することにより、ガラス基板の表裏に、互いに位置合わせされたポジパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】電子ビームによる改質領域を縮小して微細なマスクを精密に形成可能にするとともに、当該マスクを利用して精密な三次元微細構造を作製できる三次元微細加工方法を提供する。
【解決手段】ＧａＡｓ基板１の表面に、Ａｓ薄膜２と、Ｇａ₂Ｏ₃薄膜４と、Ａｓ薄膜５と、で構成される３層無機レジスト酸化膜１０を形成する。選択図の（ｆ）から（ｇ）に示す工程では、真空中で３層無機レジスト酸化膜１０の表面に照射した電子ビームによって、Ｇａ₂Ｏ₃薄膜４とＧａＡｓ基板１の表面の一部が密着し、熱耐性を有する改質マスク部１７が形成される。（ｈ）に示す工程では、Ａｓ薄膜２が昇華され、改質マスク部１７以外の部分のＧａ₂Ｏ₃薄膜４が脱離してＧａＡｓ基板１の表面が露出する。（ｉ）に示す工程では、エッチング処理を行って、ＧａＡｓ基板１の露出部分からＧａを優先的に剥離させることで窪み等が形成された三次元微細構造を作製する。 （もっと読む）

【課題】大面積で均一なパターン印刷を行うことが可能なμＣＰ用スタンプを、簡易な方法で製造することが可能なμＣＰ用スタンプ作製用マスター版の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】基板を用い、上記基板上にパターン状の遮光部を形成する遮光部形成工程と、上記遮光部を覆うように上記基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂膜を形成する感光性樹脂膜形成工程と、上記基板側から光を照射することにより、上記感光性樹脂膜にパターン露光する露光工程と、上記パターン露光された感光性樹脂膜を現像することにより、上記感光性樹脂膜をパターニングする現像工程とを有することを特徴とする、マイクロコンタクトプリンティング用スタンプ作製用マスター版の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】微細パターンの描画が基板の全面で所定通りに高精度に行え、三角波偏向信号による偏向制御において、電子ビームによる描画動作を修正し、所定のエレメント形状の感光描画が一定のドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に、電子ビームEBの照射タイミングをブランキング手段24に対するオン・オフ信号の出力によって制御しつつ、電子ビームEBの偏向動作をビーム偏向手段22に対する三角波偏向信号の出力によって制御しエレメント形状を塗りつぶすように走査して描画する際に、基準描画時間に対しブランキング手段の作動によるビーム照射時間が短くなるようにオン・オフ信号を設定する一方、ビーム照射時間の短縮比に反比例して三角波偏向信号の振幅を大きく設定する三角波補正を行って描画する。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズの高さを調整することが容易なマイクロレンズアレイの製造方法を提供する。
【解決手段】一方の面に、略半球面状に突出したマイクロレンズを複数有するマイクロレンズアレイの製造方法であって、マイクロレンズの材料層となる有機膜層の上にマイクロレンズの形状を形成するためのレジスト層を形成するレジスト形成工程と、形成したレジスト層および有機膜層を、水素を含む分子およびフッ素を含む分子を混合させた混合ガスを用いてエッチングするエッチング工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】簡単に、高アスペクト比のレジストパターンを製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】マスクパターン層ＭＰを含む土台ユニットＵＴに対し、マスクパターン層ＭＰ上に、ドライフィルムＤＦ２を被せ、ガラス基板１１の裏面１１ｒからの露光によるフォトリソグラフィー法で、ドライフィルムＤＦ２を第１レジストパターンＲＰ１だけに重なるように残す。 （もっと読む）

【課題】表面に複数の凹部がマトリクス状に形成されている成形型をエッチングにより作製する際に使用され、複数の凹部に対応する位置に複数の開口が形成されている、レジスト材料からなるエッチング用マスクの製造方法であって、複数の開口間のピッチのムラが少ないエッチングマスクを製造可能な方法を提供する。
【解決手段】複数の開口３３ａのうちの一部の開口は、第１の走査領域３５ａと第２の走査領域３５ｂとにまたがって位置しており、第１の露光工程において、当該開口が形成される部分のうちの第１の走査領域３５ａ内に位置する部分を露光し、第２の露光工程において、当該開口が形成される部分のうちの残りの部分を露光する。 （もっと読む）

【課題】ステレオリソグラフィ装置（１）用の照射システム（３０）を提供する。
【解決手段】平坦支持手段（３１）と、平坦面（４６）において、アレイ（３２）の上方で平坦支持手段（３１）の上に機械的に支持され、樹脂層（１６）を塗布するための樹脂塗布装置（６０）を受けるように配置された造形面（４５１）を有するマルチレンズプロジェクタアレイ（４０）であって、ＬＥＤを造形面（４５１）に投影するようになされた複数の小型レンズ（４４）を含む光学的要素の積層体からなるマルチレンズプロジェクタアレイ（４０）と、平坦支持手段（３１）とマルチレンズプロジェクタ（４０）の間に配置された、個別に制御可能な発光ダイオード（ＬＥＤ）（３４）の二次元アレイ（３２）と、を備え、平坦支持手段（３１）と平坦面（４６）は、平坦面（４６）のほぼ全体にわたって配置された接触領域（３３、４００）の上で支持され、剛性本体（３０）を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ステレオリソグラフィ装置（１）用の照射システム（３０）を提供する。
【解決手段】このシステムは、個別に制御可能な広角発光ダイオード（ＬＥＤｓ）（３４）の二次元アレイ（３２）を支持する平坦な支持手段と、そのアレイに関連して配置され、ＬＥＤの焦点像を造形領域（１６）に投影させるようになされたマルチレンズプロジェクタアレイ（４０、４２）を備え、マルチレンズプロジェクタアレイは、発光中央領域像スポットサイズより小さい、またはそれと同等の発光縁辺領域像スポットサイズを有するＬＥＤアレイからの光を投影するように配置されている。 （もっと読む）

【課題】パターンの解像度が高く、かつ、低露光の露光量を精密に制御することができる濃度分布マスクを得る。
【解決手段】微小網点図形の厚さが、透過光の位相を、１８０度を中心として１７０度以上１９０度以下位相シフトする厚さであり、前記微小網点図形の透過率が１％以上１０％以下であり、前記微小網点図形を透過する光量と前記微小網点図形間の微小間隙を通過する光量を同じ値にして光を相殺させた遮光領域を形成した濃度分布マスクを製造する。 （もっと読む）

【課題】インプリント用金型について、微細パターンが複数の段部をから構成されるような場合や微細パターンが曲面や曲線で構成されるような３次元構造パターンであった場合にインプリント用金型を安価で大量に提供できる方法を提供する。
【解決手段】基板１上に塗布した感光性樹脂へのパターン露光、及び現像処理によりパターン形成し、パターン形成後の加熱によってパターン層６形成する。その後、フォトマスクを用いてＵＶ光照射による露光をおこなう。前記の形成方法にて繰り返し、一層目６ａ、二層目６ｂ、三層目６ｃとパターン層６の形成を行い、微細パターンを形成した金型原版７を作製した。その後、微細電鋳法を用いて、前記金型原版７からパターン形状の金型８を製造する。 （もっと読む）

金属製グレイスケール光マスクは、透明基材上に堆積された金属薄膜の層と、レーザー描画法により、金属薄膜の表面に形成された透明度の異なるパターンを有している。パターンは、連続的であり、配列またはランダムなパターンの一種である。グレイスケールは、３．０〜０．０５ＯＤの範囲内である。金属薄膜の膜厚は５〜１００ｎｍである。金属製グレイスケール光マスクの製造方法は、通常の半導体の洗浄処理により、選別された透明基材を洗浄し、透明基材の上に金属薄膜を堆積させ、次いでレーザー描画法により、金属薄膜の表面に透明度の異なるパターンを形成することを含んでいる。パターンは、連続的であり、配列またはランダムなパターンの一種である。グレイスケールマスクは安価であり、帯電防止性能に優れており、解像度が光学上の回折限界を上回ることができる。また、製造方法が単純である。微細な光学要素および微細な電気機械システムの大量生産に対する幅広い応用範囲を有している。 （もっと読む）

【課題】露光中にワーク表面位置の変動を検出し、膜厚にむらのあるレジストでも適正な状態でワークを露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１００は、ワーク（回転体）４を軸支する支持部（支持手段）７、８と、ワーク４を回転させるモータ（回転手段）３と、ワーク４表面を露光する露光光学系１と、ワーク４表面あるいは回転体表面に塗布されたレジスト膜（機能膜）表面の位置を検出する位置検出手段５と、位置検出手段５により検出された各表面位置と露光光学系１のフォーカス位置とのずれ量を計算する制御部（ずれ量計算手段）２と、を備え、支持部７、８及びモータ３はベース６上に固定されている。また、露光光学系１と直交する位置に位置検出手段５を配置している。 （もっと読む）

【解決手段】 高スループット且つ低コストのサブミクロン３Ｄ構造製品を製造するための３Ｄ鋳型を製造するプロセスが開示される。このプロセスは、２光子レーザリソグラフィと３Ｄ書き込み技術との使用を統合して、３Ｄ構造製品の各層の３Ｄ鋳型を作り、次に、ナノインプリントを使用して、その層の上記３Ｄ鋳型から３Ｄ構造の各層のポリマー薄膜シートを形成する。次に、ポリマー薄膜シートの各層は、サブミクロン３Ｄ構造製品に製造される。高スループット且つ低コストのサブミクロン３Ｄ構造製品の各層の３Ｄ鋳型がさらに使用されて、マスタ鋳型が作られ、次に、マスタ鋳型を使用して、３Ｄ構造の各層のポリマー薄膜シートが形成されて、サブミクロン３Ｄ構造製品が製造される。このプロセスを使用する適用例も開示される。 （もっと読む）

【課題】補助基板が取り付けられた本体基板が、所定位置に正確に位置決めされて基板の製造が行われる基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の基板の製造方法は、まず、本体基板１の表面側にパターンを形成すると共に、アライメントマーク７を形成する。そして、本体基板１の表面側に補助基板９を接着する。そして、形成されたアライメントマーク７とマスク１５とが位置決めされた状態で、マスク１５を介して本体基板１の裏面側に露光させ、本体基板１の裏面側にパターンを形成する。そして、本体基板１の裏面側にパターンが形成されると、本体基板１から補助基板９を剥離する。 （もっと読む）

【課題】複数個のモールドを用いて複数回のプレスにより微細三次元構造を形成する。
【解決手段】まず、基板の上に、活性エネルギー線硬化性樹脂からなる樹脂層を形成する。次に、その樹脂層の上から、活性エネルギー線透過性材料で作製され、表面に凸部が形成されており、その凸部に活性エネルギー線遮蔽膜が形成された第一のモールドをプレスして、樹脂層に第一のモールドの凸部に対応した凹部を形成する。次に、第一のモールドを介して、樹脂層に活性エネルギー線を照射して、樹脂層に活性エネルギー線硬化性樹脂が硬化した領域を形成する。さらに、樹脂層の上から、活性エネルギー線透過性材料で作製され、表面に凸部が形成された第二のモールドをプレスして、活性エネルギー線硬化性樹脂が未硬化の領域に第二のモールドの凸部に対応した凹部を形成する。 （もっと読む）

【課題】寸法の変動を低減し、コストの増大を抑制するパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レジスト膜が形成された基板上に定義されるパターン領域に複数の第１露光区画を互いに隣接させて配列し、パターン領域の全面にわたり第１露光量で、マスクパターンを第１露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。第１露光区画と同一の大きさの第２露光区画を複数配列し、マスクパターンが有する繰り返し図形のピッチに対応する幅の任意の整数倍で第１露光区画に対して行方向及び列方向にずらして互いに部分的に重畳するように設定して、パターン領域よりも広い領域にわたり第２露光量で、マスクパターンを第２露光区画それぞれのレジスト膜に対して逐次露光する。第１及び第２露光量の合計が、パターン領域内ではレジスト膜の描画像が所望の寸法範囲の寸法で形成され、パターン領域外では描画像が形成されないようにする。 （もっと読む）

【課題】高密度かつ高テーパ角の微細凹凸形状を形成することができる微細構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】非感熱性の無機レジストを主成分とする感熱層を基材上に形成し、感熱性の無機レジストを主成分とする非感熱層を感熱層上に形成する。感熱層を露光、現像し、感熱層に所定のマスクパターンを形成する。マスクパターンを用いて非感熱層をエッチングすることにより、微細凹凸パターンを基材上に形成する。 （もっと読む）

【課題】
軟Ｘ線の波長と合わせて集光効率を向上させる楕円ミラーを利用することで、軟Ｘ線のエネルギー密度を高くし、パターニングした軟Ｘ線（パターニング光）と加工用のレーザー光の両方を照射することなく、軟Ｘ線のみで、無機材料等の被加工物を数ｎｍの精度で加工及び／又は改質する。
【解決手段】
光源部７から放射される軟Ｘ線１４を、楕円ミラー１５で高エネルギー密度に集光して所定のパターンで被加工物１９に照射し、被加工物１９を所定のパターンで軟Ｘ線１４を照射した部分のみを加工する。 （もっと読む）

【課題】露光用マスクの製作コストを低下させた微小立体構造の製造方法を得る
【解決手段】微小立体構造の製造方法で用いる露光用マスクの組み合わせを、微小立体構造の深さを２進数であらわし、前記微小立体構造の深さをあらわす前記２進数の前記桁の値が１である領域（あるいは前記領域以外の領域）を遮光したパターンを形成した露光用マスクを前記２進数の桁毎に製造することで露光用マスクの組み合わせを得て、それを用いて微小立体構造を製造する。 （もっと読む）