【課題】 基板上に塗布された化学増幅型レジストに対する電子線露光によって、光記録媒体製造用のスタンパー原盤を、凹凸パターンの幅寸法の均一性を確保して製造する。
【解決手段】 局所真空電子線露光装置１において、電子線露光の照射電流量を例えば一定として製造したスタンパー原盤に形成されるピット及びグルーブ等の凹凸パターンに関して、アミンによって生じる寸法例えば幅の変動及び不均一性を予め検討し、この検討結果に基づいて、スタンパー原盤を構成する基板４上に塗布された化学増幅型レジストに対する露光の開始位置と終了位置の電子線露光の照射電流量及びその変化を選定する。 （もっと読む）

【課題】
光学部品を簡便に低コストで製作できる光学部品（マイクロレンズアレイ）の製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかるマイクロレンズアレイの製造方法は、第一の基板２００にネガ型の感光性物質層２０２を形成し、感光性物質層２０２を露光する。第２の基板１０２を、感光性物質層２０２の、第１の基板２００と接する面とは反対側の面に固定し、固定後に第１の基板２００を取り外し、感光性物質層２０２を現像することにより所望の光学性能の外形状を形成する。 （もっと読む）

エアブリッジ（１０）を形成するリソグラフィック方法は、一連の下端レジスト層（２）、シールド層（３）、及び上端レジスト層（４）を設けるステップと、ブリッジスパンの領域で上端レジスト層（４）を除去した後にシールド層（３）を除去するステップと、ブリッジのピラーの領域で下端レジスト層（２）を除去するステップと、一連の層の上に金属層（８）を形成するステップと、シールド層部分（３）及び金属コーティング部分（９）と共にレジスト層（２、４）を除去して、エアブリッジを形成するステップとを備える。 （もっと読む）

本発明は、強度の時間的変動を有する少なくとも一つの光源（ＬＳ）から、少なくとも二つの光感応点（ＬＳＰ）に、実質的に等しい量のエネルギーの伝送を可能にする方法であって、前記伝送が、少なくとも一つの照明の構成（１）を手段として制御され、かつ前記方法が、前記強度の変動と前記照明の構成の少なくとも一つの特徴の間の相関の設定を含む方法に関する。本発明はまた、少なくとも二つの光感応点（ＬＳＰ）へのエネルギーの伝送を制御するための照明の構成（１）であって、前記伝送の制御は、前記少なくとも二つの光感応点（ＬＳＰ）の各々への、実質的に等しい量のエネルギーの伝送を可能にする、照明の構成に関する。
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フォトレジスト層（１）の表面（４）にくぼみ（１５）を形成する方法が、フォトレジスト層の第１の部分（１２）を第１の照射量の放射エネルギー（７）に曝す段階（１００、１２０、１０１、１０２、１２２）を含む。また、層の第２の部分（１７）を第２の照射量の放射エネルギー（７）に曝す（１２０、１０１、１２２）。第２の照射量は第１の照射量よりも少ない。層はベークされる（１１０、１３０、１３１、１３２）。 （もっと読む）

マイクロレンズなどの光学的微細構造体が、放射線感応層をその上に含むシリンダ形プラットフォームをその軸の周りに回転させ、それと同時に放射線感応層の少なくとも一部分にわたって放射線ビームを軸方向にラスタ走査することによって形成される。シリンダ形プラットフォームはまたそれが回転している間にそれと同時に軸方向に並進させられる。放射線ビームの振幅はラスタ走査している間に連続に変えられる。放射線感応層内に結像した光学的微細構造体はマイクロレンズを複製するためのマスタ型を提供するために現像されることが可能である。

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結像用プラットフォーム上において、１対の外層の間に挟み込まれた放射線感応層を含む微細構造マスタ型生地をその放射線感応層内に微細構造体を画定すべく結像処理することによって微細構造体が形成される。続いて、１対の外層の少なくとも１つが取り除かれる。次いで、放射線感応層内に画定された微細構造体が現像される。１対の外層の間に挟み込まれた放射線感応層は、微細構造マスタ型生地を提供するウェブとして加工される。

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本発明は、画像平面に配置された、少なくとも一部が電磁放射線に感応する層で覆われた被処理品をパターン形成するための液浸リソグラフィ装置に関する。同装置は、対象物平面に電磁放射線を放出する放射源と、前記電磁放射線を前記対象物平面で受け取って変調するようになされ、かつ、前記被処理品に向けて前記電磁放射線を中継するようになされたマスクと、前記リソグラフィ装置の最終レンズの少なくとも一部および前記被処理品の一部と接触する液浸媒体とを含み、毛細管力によって前記接触領域が制限される。また、本発明は、被処理品にパターン付与する方法および液浸レンズに関する。
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本発明は、基板上に付着した粘性液体層に存在するガス・ポケットを大幅に減少させることによって、インプリンティング層におけるパターン歪みを軽減する方法を対象とする。そのため、この方法には、粘性液体に近接した位置にあるガスの輸送を変更するステップが含まれている。すなわち、パターンが記録されることになる基板に近接した大気が、付着している粘性液体に対して、溶解性が高いか、拡散性が高いか、あるいは、その両方であるガスで飽和させられる。大気の飽和に加えて、又は、その代わりに、大気圧を低下させることも可能である。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ照明方法、及びその方法を実行するのに適した投影照明系であって、約１９３ｎｍ以下の短い作動波長で良好な結像性能も可能にする投影照明系を提供する。
【解決手段】投影対物レンズの像面の領域内に配置された基板を照明するための照明方法とともに、その方法を実行するための投影照明系において、出力偏光状態を有して基板に向けられた出力放射光を発生する。少なくとも１つの偏光操作装置の補助による出力偏光状態の可変調節により、出力偏光状態を公称出力偏光状態に近づくように形成することができる。偏光操作は、偏光−光学測定データに基づいて制御ループ内で実行されることができる。 （もっと読む）

本発明は、基板（６００）上に配置される感光性樹脂層（６０１）にパターンを生成するリソグラフィー法に関する。前記パターン（６０７）は、基板の主面の法線（ｎ）に対して傾斜する側面（６０８）を有し、その傾斜角（θ）は、先行技術により得られるパターンの傾斜角よりもずっと大きい。本発明の方法を実行するデバイスも開示される。
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【課題】 断面形状が円錐状のものや、先端部が丸みを帯びた形状の三次元微細構造体を一枚のＸ線マスクで形成することができる三次元微細構造体加工用Ｘ線マスク及びそれを用いた三次元微細構造体の加工方法を提供する。
【解決手段】 Ｘ線リソグラフィーによって三次元微細構造体を加工するために用いられるＸ線マスク１であって、Ｘ線吸収体６の断面がＸ線透過方向に対して均一な肉厚を有しない四角形以外の形状で、該Ｘ線吸収体６の投影部分へのＸ線透過強度を変化させて三次元微細構造体を加工する。 （もっと読む）