【課題】低コストかつ均一性の高い光制御構造を作成する。
【解決手段】 光透過層１０に被覆層Ｑと感電子線レジストＲを形成し、これらの上に周期パターンを有するステンシルマスクＭをセットする。このステンシルマスクＭの上から全体に電子線を照射することにより、ステンシルマスクＭの周期パターンを感電子線レジストＲに転写することができる。次いで、現像した感電子線レジストＲをエッチングレジストとして被覆層Ｑのエッチングを行い、さらにエッチング後の被覆層Ｑをエッチングレジストとして光透過層１０のエッチングを行う。これにより、光透過層１０にてステンシルマスクＭに忠実で均一性に優れる周期構造１１を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】三次元物体を作製するための装置において、高精度、高解像度、微調整及び／又は高均一性を実現すること。
【解決手段】互いに独立した所定数の画素（ピクセル）を備えたイメージングユニットを通じてエネルギーを入力することにより、電磁放射の作用で硬化し得る材料を硬化させて三次元物体を製造する装置を提供する。本装置は、特定のグレー値及び／又はカラー値によりボクセルマトリクスにおけるエネルギーの入力レベルを調整及び／又は制御し得るコンピュータ装置、ＩＣ及び／又はソフトウェアインプリメンテーションを備える。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム、レーザービーム描画装置で濃度分布マスクを描画する際にデータ量を少なく、描画時間を短く、生産効率を良くした濃度分布マスクの製造方法。
【解決手段】等高線を表す外郭パターンデータの各々と対応したトーンパターンデータとを組み合わせAND 演算にて外郭・トーンパターンデータを複数個作成、トーン・外郭パターンデータの全てをOR演算し濃度分布パターンP4を作成、端切れパターンｐ₀ の発生している外郭・トーンパターンP3のドットのみをリサイズ処理して端切れパターンを削除した外郭・トーンパターンP3L を作成、端切れパターンを削除した外郭・トーンパターンデータを含めて全ての外郭・トーンパターンデータをOR演算し端切れパターン削除濃度分布パターンデータD4L を作成、該濃度分布パターンデータD4L にて電子ビーム、レーザー描画装置にて濃度分布マスクパターンを描画する各工程。 （もっと読む）

【課題】三次元物体を作製するための装置及び方法を改良すること。
【解決手段】
所定数の独立した画素（ピクセル）を有するラスターイメージングユニットを用いてエネルギーを入力することにより、電磁放射の作用で硬化性材料を硬化させて、三次元物体を作製する装置及び方法に関する。三次元物体の個々の断面領域に関するエネルギーの入力は、複数の連続したラスターマスク（ビットマップ；例えば、ビットマップ１及びビットマップ２、並びに、もしあれば他のビットマップ）を用いた露光により制御される。イメージング装置は、断面領域をカバーする第１の全体マスク（ビットマップ１）と該全体マスク内部の部分マスク（ビットマップ２）を含む少なくとも２つのマスクを形成することができるように、適切に制御可能である。ボクセルマトリクスが形成されてもよい。ボクセル毎の硬化深度は、硬化性材料中において具体的に且つ正確に調整される。 （もっと読む）

【課題】電子ビームを高い位置精度で試料の所定の位置に照射して情報を記録することができる電子ビーム記録装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム記録装置１０は、電子ビームを用いて試料の表面上に情報を記録するものであって、電子ビームｂを放射する電子源と、電子ビームの照射軸線上に進入または退避可能に設けられ、照射軸線上における磁界情報を得る磁気検出器３６と、この磁気検出器による磁界情報から、試料の表面に対する電子ビームの収束位置を補正するための補正量を求める収束位置制御部２１と、電子ビームの試料表面に対する収束位置を調整する収束位置調整手段７８とを有する。さらに、収束位置制御部は、補正量に基づいて、収束位置調整手段に電子ビームの試料表面に対する収束位置を調整させる。 （もっと読む）

【課題】スポットビーム型電子ビーム露光装置及び電子ビーム位置変動抑制方法に関し、各種の外乱に起因する電子ビームの位置変動をリアルタイムに抑制する。
【解決手段】電子源１から放出された広い断面積の電子ビームを一つの描画用電子ビーム３とそれを取り囲む四つの検出用電子ビーム４とに分ける五つの孔を配置したビーム制限絞り２と、四つの検出用電子ビーム４を四極子のレンズと双極子の偏向との重畳電場内に通過させる電場発生機構５と、描画用と検出用の双方電子ビームに作用するコンデンサレンズ６と、描画用電子ビーム３を照射面に集束させる対物レンズ８の主面付近の上下に検出エッジ及び検出器の組み合わせからなる電子ビーム検出機構９をｘ，ｙ方向に計四つ配置し、一方の方向から二つの検出信号を処理する検出信号処理回路１１を各々の方向に備え、各検出信号処理回路１１からの出力により描画用電子ビーム３を偏向させる偏向器７を備える。 （もっと読む）

【課題】
【解決手段】本発明は、ナノパターンを形成する方法、特に、大面積に連続してナノパターンを形成する方法と、ロール状の基板にナノパターンを形成する方法、およびこれによって形成されたパターンを有する基板に関するものである。本発明は、大面積試片と干渉光の光源を互いに相対的に移動させる方法と、ロール状の基板を回転させながら、干渉光の光源と前記ロール状基板との基板の軸方向への相対運動によって露光する方法を利用することにより、ナノパターンを形成するときに求められる広い設備空間、レーザ出力の制限性、およびパターン自由度の制限性などの従来問題を解決したものである。 （もっと読む）

金属製基板上にフォトレジスト層を塗着して加熱し、マスクを通してその層をＵＶ照射に曝し、光硬化しなかった部分を溶解させることによって現像を行ってモールドを得、モールドの開口部分内に金属又は合金の第１の層を電着させ、機械加工によって金属構造及びモールドの平面出しを行って平坦な上側表面を得、上側表面全体に下地金属層を堆積させた後、ここまでのステップを繰り返す。モールドの開口部分内に金属又は合金の第２の層を電着させ、得られた多層金属構造及び硬化フォトレジストを層間剥離によって基板からはがし、フォトレジストを分離して多層金属構造を切り離し、下地金属層の、電着金属の２つの層の間に挟まれていない部分を除去する。
（もっと読む）

【課題】従来技術による微細構造体の作製よりも、更にアスペクト比の高い凹凸パターンを有する構造体を容易に作製することが可能となる製造方法、該パターンを有する構造体を提供する。
【解決手段】凹凸パターンを有する構造体の製造方法において、
弾性変形が可能な材料による被加工物１１を、その被加工面１２の面直方向に弾性変形１３させる弾性変形工程と、
前記弾性変形工程による変形状態の前記被加工面に、凹凸パターン１５を形成する第１のパターン形成工程と、
前記被加工物を弾性変形前の定常状態に近づけ又は定常状態とする第２のパターン１６を形成する工程と、を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】有機物に使用可能である実用的な微細化パターンの形成技術が求められていた。
【解決手段】試料を含む溶液に電圧を印加して静電噴霧するエレクトロスプレイ手段と、エレクトロスプレイ手段から静電噴霧される溶液中の試料が堆積されるべきチップ(26)を支持する支持手段(30)と、エレクトロスプレイ手段と前記支持手段との間に配置され、前記チップ上に前記試料のマイクロパターンを形成するために前記溶液を通過させるマスクパターン部を持つ微細マスク手段(24)であって、前記マスクパターン部は前記支持手段側に凹凸が形成されているフォトレジスト剤からなるものである、微細マスク手段とを具えるマイクロパターン形成装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチングにより２段以上の段差形状を精度よく形成する。
【解決手段】１回目のドライエッチングを行い、１段の段差形状を含む構造体を形成する第１の工程と、形成された構造体の表面をレジスト層で被覆する第２の工程と、レジスト層１０２にフォトマスク２００を透過した光を照射し、現像することによりレジスト層１０２をパターニングする第３の工程と、パターニングされたレジスト層１０２をエッチングマスクとして２回目のドライエッチングを行い、２段の段差形状を含む構造体を形成する第４の工程を有し、フォトマスク２００は、光の透過率の異なる２つ以上の領域を有し、２段目の段差形状を形成する部分のうち、深さ方向に沿った面に照射される光が透過する領域の透過率が、パターニングの深さに対応した０％と１００％の間の値であり、それ以外の部分に照射される光が透過する領域の透過率が１００％である。 （もっと読む）

【課題】 倍率を調整することによって発生する回転や焦点ズレを防止し、クーロン効果による横方向の電子線の位置ズレを補正する。
【解決手段】 複数の電子線を用いた電子線露光装置において、縮小ダブレット光学系により形成された中間像面位置に静電型ユニポテンシャルレンズを配置し、倍率調整する。また、ブランキング電極のオンオフ情報に基づいて露光電流量を算出し、それに基づいて静電型ユニポテンシャルレンズにより調整される倍率を補正する。 （もっと読む）

【課題】ドライエッチングにより２段以上の段差形状を形成する場合に、レジストの残留によるエッチング残りを防止する。
【解決手段】１回目のドライエッチングを行い、１段の段差形状を含む構造体を形成する第１の工程と、形成された構造体の表面をレジスト層１０２で被覆する第２の工程と、レジスト層１０２にフォトマスク２００を透過した光を照射し、現像することによりレジスト層１０２をパターニングする第３の工程と、パターニングされたレジスト層１０２をエッチングマスクとして２回目のドライエッチングを行い、２段の段差形状を含む構造体を形成する第４の工程を有し、フォトマスク２００は、光の透過率の異なる２つ以上の領域を有し、２段目の段差形状を形成する部分のうち、光の進行方向に平行な面に照射される光が透過する領域の透過率は、それ以外の部分に照射される光が透過する領域の透過率よりも大きい。 （もっと読む）

【課題】深さと線幅が高精度に形成できる３次元モールド、微細加工物及び微細パターン成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】３次元モールド基体１０上にポリシロキサン系材料で構成されるレジスト層を有する被加工体の該レジスト層２０に、電子線を照射する照射工程が、後方散乱を発生させず且つ１ｋＶ乃至３ｋＶの加速電圧と、４００μＣ／ｃｍ²以下の前記ドーズ量を照射条件とする工程を含むことを特徴とし、１０ｎｍ以内の加工深さ制御と２００ｎｍ以下の線幅形成を可能にする。 （もっと読む）

【課題】入射面および出射面が高精度な非球面レンズ面で形成されたマイクロレンズを得ることができる、マイクロレンズ用金型の製造方法。
【解決手段】ＳｉＯ_２層２０２が形成されたＳｉ基板２０１上に、楕円形状の穴Ｐが形成された撥水性の化学吸着単分子膜２０７を形成する。そして、穴Ｐ内にＵＶ硬化性材料２０９を滴下して硬化させる。穴Ｐの形状とＵＶ硬化性材料２０９の滴下量とを予め計算された値に設定することにより、硬化したＵＶ硬化性材料２０９の表面形状は、所望の非球面レンズ面となる。このＵＶ硬化性材料２０９の表面形状を、電鋳により形成された電着層２１１に転写することにより、非球面レンズの金型が形成される。 （もっと読む）

【課題】マイクロレンズ等の三次元微細構造を有する光学素子、特に、高いアスペクト比
の形状を備える光学素子を高い精度で形成するためのグレイスケールマスク等を提供する
こと。
【解決手段】所定のパターンでレジスト層を露光するために光透過率の分布が決定された
グレイスケールマスク２０であって、第１のレジスト形状に応じて露光されたレジスト層
を用いて、第１のレジスト形状より高いアスペクト比の第２のレジスト形状を形成するよ
うに光透過率の分布が決定される第１領域９１と、レジスト層を露光するための光を遮断
する第２領域９２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 マイクロ流体デバイスの製造において使用される鋳型を簡単かつ安価に製造する方法を提供する。
【解決手段】 マイクロ流体デバイスにおけるマイクロチャネル及び入出力ポートなどを有する層を形成するために使用される鋳型の製造方法であって、 （ａ）常用の光リソグラフィー法により前記マイクロチャネル及び入出力ポートに対応する凸状微細構造を有する原型レジスト一次鋳型１３を製造するステップと、 （ｂ）前記原型レジスト一次鋳型の凸状微細構造を転写した凹状微細構造を有するレプリカ鋳型１９を製造するステップと、 （ｃ）前記レプリカ鋳型１９の、原型レジスト一次鋳型１３から転写された凹状微細構造内に硬化性材料を充填して、前記原型レジスト一次鋳型１３の有する凸状微細構造と同一の凸状微細構造を有する二次鋳型を製造するステップとからなることを特徴とする二次鋳型の製造方法。 （もっと読む）

【課題】立体形状へのフォトリソグラフィにおいて、最適な露光分布条件を実現する露光方法を提供する。
【解決手段】立体形状へのフォトリソグラフィにおいて、レジストの高さ位置Ａ，Ｂ，Ｃ及び膜厚分布を２次元のマトリックスに分割し、光学系の焦点の上下移動、基板の上下移動、基板形状に合わせた上下以外の移動のうちの少なくとも一つの移動を行って、フォトマスクを用いずにマトリックスごとに露光高さＡ’，Ｂ’，Ｃ’に合わせた焦点高さと、レジスト厚さに合わせた露光ドーズ量を用いて露光を行う。 （もっと読む）

本発明は、リソグラフィ工程時に入射光の進行方向及び透過度を調節する方法で、多様な傾斜及び形状を有するポリマー又はレジストパターン及びこれを利用した金属薄膜パターン、金属パターン、ポリマーモールド並びにこれらの形成方法に関する。
本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法は、基板上に所定の形状にポリマー又はレジストパターンを形成する方法において、（ａ）前記基板上に感光性ポリマー又はレジストを塗布して、ポリマー又はレジスト膜を形成するステップと、（ｂ）前記ポリマー又はレジスト膜上にフォトマスクを位置させて、露光部分を決定するステップと、（ｃ）露光される光の経路上に光調節膜を位置させるステップと、（ｄ）前記光調節膜を調節して、前記ポリマー又はレジスト膜に照射される光の進行方向及び透過度を調節するステップと、を含むことを特徴とする。本発明に係るポリマー又はレジストパターンの形成方法によれば、多様な傾斜及び形状の３次元構造のポリマー又はレジストパターン、金属薄膜パターン、金属パターン構造、ポリマーモールドを簡便に形成できる。
（もっと読む）

【課題】オペレータが、最初の構築の完了と構築媒質からの取出し、二回目の構築の開始、または二回目の構築の完了に付き添う必要がなく、ステレオリソグラフィー装置において構築物を製造するために使用されるカートを提供する。
【解決手段】コントローラに動作可能に接続されたカート１２０であって、基部、垂直に延在する支持部、および垂れ受けトレイ１２２を支持し、構築台３０を垂れ受けトレイ１２２上に受け取るためにステレオリソグラフィーチャンバ１２中に延在する、コントローラに応答して支持部から延在する第１の伸縮式アーム１２３、並びに交換を行うためにステレオリソグラフィーチャンバ１２内に別の構築台１２４を導入するためにステレオリソグラフィーチャンバ１２中に延在するその上に別の構築台１２４を支持する第２の伸縮式アーム１２５を備えたカート１２０。 （もっと読む）