【課題】多くの複雑なプロセスを用いることなく、より迅速に様々な微細な立体構造が形成できるようにする。
【解決手段】レジスト膜１０２に電子ビームおよびイオンビームを照射して電子ビームが照射された第１露光部１０３およびイオンビームが照射された第２露光部１０４を形成する。なお、イオンビームの照射により第１露光部１０３を形成し、電子ビームの照射により第２露光部１０４を形成してもよい。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンをレジスト層に高精度で描画できる描画方法、これを用いた原盤の製造方法、スタンパの製造方法及び情報記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】走査型電子顕微鏡による観察が可能な材料で構成されたレジスト層支持材３４と描画領域ＥＡにおいてレジスト層支持材３４を被覆し、且つ、内側非描画領域ＮＥＡ１及び外側非描画領域ＮＥＡ２の少なくとも一部においてレジスト層支持材３４を被覆しないようにレジスト層支持材３４の上に形成されたレジスト層３６とを備える被加工体３０を用意し、レジスト層支持材３４におけるレジスト層３６から露出する部分を走査型電子顕微鏡により観察しこの観察の結果に基づいて電子ビームの焦点の位置を調整して電子ビームをレジスト層３６に照射しレジスト層３６を所定の描画パターンで露光する。 （もっと読む）

【課題】被照射物やステージを液体に浸すことなく、レジストＲへの光の入射角度を大きくすることが可能な回転傾斜露光装置を提供すること。
【解決手段】液体容器３０に光入射窓３１と光出射窓３２を設け、光出射窓面を光入射窓面に対して傾斜させる。この光出射窓３２に、マスクＭをレジストＲに密着させた被照射物Ｗを間に空気が介在しないように取り付ける。光出射窓３２は液体容器３０に回転ベアリング３２ａを介して回転可能に取り付けられており、液体容器３０の光入射窓３１に光照射部１０からの光を入射させ、光出射窓３２から光を出射させて被照射物Ｗに照射するとともに、被照射物Ｗを光出射窓３２とともに回転させる。被照射物Ｗが光出射窓３２に密着しているので、液体中に被照射物を浸すことなく、大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】ステージの回転により生じる液体の波（液面の乱れ）や気泡の影響を受けることがない回転傾斜露光装置を提供すること。
【解決手段】モータ２２により回転するステージ２１上に、マスクＭをレジストＲに密着させたワークＷが置かれ、これらが液体容器３０の液体中に浸されている。光出射部１０から出射する露光光は液体容器３０の底面から入射し、この露光光の光軸に対しステージ２１の表面は斜めに配置される。このため、ワークＷのレジストＲは斜め方向からの光により露光され、レジストＲにはマスクＭのパターンに応じた円錐や角錐状の立体形状のパターンが形成される。液体中にワークＷを浸しているので、大気中で露光するよりレジストＲの表面に緩やかな斜面を形成することができ、また、液体容器３０の底面（側面でもよい）から光を入射させているので、液面の乱れや気泡の影響を受けることがない。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー法により、微細性、アスペクト比に優れ、且つ、外形形状となるフォトレジスト部に傾斜部が形成された電鋳型とその製造方法を提供する。
【解決手段】電鋳型１は、紫外線に対して透過性を有する基板２と、前記基板の表面に導電性を有し、かつ紫外線に対して透過性を有する導電膜３と、前記導電膜の上面に形成され、前記導電膜の上面から前記第１のフォトレジスト層４の上面に向かって傾斜する第１の貫通孔を有する第１のフォトレジスト層と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

マスク投影技術により固体の表面に微細構造を形成するためのレーザー設備のマスク及び／又はダイヤフラムを製造するための方法において、レーザー放射を散乱させる決められた不透過面部を、マスク及び／又はダイヤフラム基材に、後者をフェムト秒、ピコ秒、又はフッ素レーザー光を用いて粗化・改変させることにより製造する。このようなマスク及びダイヤフラムは、その寿命と精度が大幅に改善され、例えば、固体の表面の回折格子アレイに配置されて、高輝度のスペクトル色及び混合色を生成するのに用いられるブレーズド格子を形成するのに使用することができる。
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【課題】本発明は、大型サイズの円筒表面に、直接ナノメートル大きさのパターンを大面積で刻むための円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置に関する。
【解決手段】本発明は、磁気浮上原理で円筒を浮上し、非接触で回転及び軸方向に移送しながら円筒表面に直接ナノメートル大きさのパターンを刻むことができる新しい形態のステージと、円筒表面に光を照射する光源とを具現することにより、ナノメートル大きさの誤差で位置を能動制御できるなど、機械加工による誤差及び外乱を実時間的に補正することができて、結局、大型サイズの円筒表面にナノメートル大きさのパターンを効率的に加工できると共に、ステージと組み合わされ、光源と円筒表面との間を、部分的に真空環境が保持されるようにする差動真空手段を具現することにより、Ｘ線や電子ビーム、極紫外線(EUV)のような光源を適用することができる円筒状の磁気浮上ステージ及び露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】矩形パターン形状の上面部の形状を任意の曲線形状に変えることができるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】レチクルＲ上のパターン１０１に照明光を照射し、投影光学系１００を介して１０μｍ厚以上のフォトレジスト上に投影像を形成し、３次元形状のレジストパターンを作成するレジストパターン作成方法において、レジストパターンを形成する工程中に、フォーカス位置で露光した後に、少なくとも１回、投影光学系の瞳位置の開口１０２の大きさ又はフォーカス位置を所定量変更して分割露光を行うレジストパターン形成方法を提供する。 （もっと読む）

【目的】荷電粒子ビーム描画技術を使って、断面形状がなだらかな曲線或いは傾斜した線で構成されるような凹凸面となるパターンが形成されたナノインプリント用のテンプレートを製造する方法を提供することを目的とする。
【構成】ナノインプリント用のテンプレートの製造方法は、電子ビーム２００を用いて、レジスト膜にパターン寸法を変更しながら多重描画する工程（Ｓ１０４）と、パターン寸法を変更しながら多重描画されたレジスト膜を現像する工程（Ｓ１０６）と、現像された結果得られたレジストパターンを用いて、テンプレートの型を形成する工程（Ｓ１０８）と、形成された型に、樹脂を充填する工程（Ｓ１１６）と、充填された樹脂を硬化させた後に、型を外す工程（Ｓ１１８）と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数の段差を備えた微細な３次元構造パターンの形成に好適なパターン形成方法及びパターン形成体を提供する。
【解決手段】基板上に第１層目のハードマスク層を形成し、基板上の第１層目のハードマスク層を備えた面に、順に、第２層目から第Ｎ層目までのハードマスク層を形成し、第Ｎ層目のハードマスク層のパターニング処理し、順に、第（Ｎ−１）層目から第１層目までのハードマスク層のパターニング処理し、パターニングされた第１層目から第Ｎ層目までのハードマスク層をエッチングマスクとして基板に第１段目の異方性エッチングしてパターニング処理することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

基材上に完成パターンを像形成させるレーザーアブレーションプロセスで用いられるための分散したパターンを有するマスク。このマスクは、光を透過するための複数の開口と、この開口の周囲の非透過区域とを有する。分散したパターンのための開口が基材上に繰り返し像形成される場合に、分散したパターン内の構造は、像形成されたパターンの様々な領域内で合併し、レーザーアブレーションにおけるスティッチング効果を軽減又は除去するために、分散したスティッチ線を使用して完成パターンを生成する。まばらでかつ分散したパターンもまた形成し得るマスクは、完成パターンの合併部分を個別に形成し、かつ分散したパターンを総じて形成する開口を含む。
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【課題】簡易な構造で、印面となる光硬化樹脂を適正に硬化させるための露光状態が判別できるスタンプ基体を提供する。
【解決手段】本発明のスタンプ基体１は、紫外線により硬化する紫外線硬化樹脂１１から成る印面形成部２と、印面形成部２を保持する印面保持部３と、を備え、印面保持部３に、光の強度を測定する光強度測定部５と、光強度測定部５の測定結果および光硬化樹脂の硬化状況を整合させる露光指標部６と、を設けたものである。 （もっと読む）

【課題】より小径かつ小ピッチのナノパターンを形成することができるナノ金型の製造方法の提供。
【解決手段】ナノインプリント法に用いられるナノ金型の製造方法であって、Ａｌ_２Ｏ_３基板２０上に非晶質炭素材料のＤＬＣから成る被エッチング層２１を形成する第１の工程と、集束イオンビーム援用化学気相成長により、被エッチング層２１上に薄膜パターン２２を形成する第２の工程と、薄膜パターン２２をマスクとして、酸素ガスを用いたドライエッチングにより被エッチング層２１をエッチングし、複数のナノ凸パターン２００が形成された成型転写面を形成する第３の工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】モールド作成に好適なネガ型化学増幅レジスト組成物、特にネガ型電子線用化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。
【解決手段】（Ａ）樹脂、（Ｂ）酸の作用により樹脂（Ａ）を架橋する架橋剤及び（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する、モールド作成に用いられることを特徴とする、ネガ型化学増幅レジスト組成物、及びこれを用いたモールドの作成方法。 （もっと読む）

【課題】これらの背景に鑑みてなされたものであって、ファイバー状の細長い基体にマイクロ構造を形成するための技術を提供する。
【解決手段】 ファイバー状の細長い部材にフォトリソグラフィ技術によってパターンを転写するための露光モジュールであって、入口及び出口を有する筒状の空洞が設けられる透光性の基体と、前記筒状の空洞の壁面に設けられた遮光パターンとを有する、露光モジュールが提供される。好適には、このモジュールは、前記筒状空洞の入口及び出口付近に形成され、露光される部材を潤滑液を介して又は介さないで摺動可能に支持する部材支持部と、前記部材支持部より奥の部分に設けられ、前記部材支持部より筒径の大きな露光部とを有し、前記遮光パターンは前記露光部の洞壁面に設けられる。 （もっと読む）

【課題】本発明の主な課題は、側壁に勾配を形成するのが困難なマイクロ・ナノパターンに対して、レジストパターンの側壁に任意の角度で傾斜面を付与できる紫外線露光方法、紫外線露光装置を提供することである。
【解決手段】紫外線の集点と基板上に形成された紫外線感光性材料の相対位置を変化させて紫外線感光性材料をフォトマスクのパターンに露光するステップと紫外線感光性材料を現像するステップとを含み、側壁に上記相対位置に応じた傾斜面を有する紫外線感光性材料のパターンを形成することを特徴とする紫外線露光方法及び紫外線露光装置。 （もっと読む）

【課題】、裏面側の位置検出光学系を移動させることなく、投影光学系の露光パターンの投影位置及び位置検出光学系の検出位置の相対的な位置合わせをより正確に行って、露光を高精度に行うことが可能な露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置１は、基板７を載置するステージ９と、基板７の表面側に配置され、基板７の表面７ａにパターンを投影する投影光学系４と、基板７の裏面側に配置され、基板７の裏面７ｂに形成された位置合わせマークを検出する裏面位置検出光学系６と、ステージ９を貫通する貫通孔９ｂに取り付けられ、光を透過する部材で形成された窓部材１０と、投影光学系４により窓部材１０の表面１０ａに形成されたパターンの像を、窓部材１０の裏面側から裏面位置検出光学系６で検出し、投影光学系４により形成されるパターンの像の位置と裏面位置検出光学系６で検出される位置合わせマークの位置との相対関係を算出する制御部１１と、を有する （もっと読む）

【課題】光硬化性樹脂組成物の溶融等する温度を調整することにより、熱インプリントや光インプリントによる生産性を高め、また安価に、高精度な微細成形品を製造する方法を提供する。
【解決手段】固体エポキシ化合物と液状エポキシ化合物と光重合開始剤とを含有し、加熱により溶融又は軟化する、固体光硬化性樹脂組成物を用いて、（ａ）基材上に未硬化樹脂層４１を形成する工程、（ｂ）未硬化樹脂層４１を溶融又は軟化する温度に加熱した状態で、型３９を押圧接触させ、押圧接触状態を保持したまま再固形化する温度に冷却した後、離型して一次成形体４１′を形成する工程、（ｃ）一次成形体４１′にフォトマスク７を介して選択露光して選択硬化させる工程、（ｄ）未露光部分を除去して樹脂成形体６を形成する工程を行う。 （もっと読む）

【課題】正のパワーを有するレンズ部を構成する光硬化性樹脂を均一的に硬化させる。
【解決手段】ガラス基板２の表裏両面に対しそれぞれ光硬化性樹脂製のレンズ部４ａ，６ａが形成されたウエハレンズ１の製造方法が開示されている。当該製造方法では、前記光硬化性樹脂に光照射して一方の面に凹レンズ部６ａを形成する工程と、前記光硬化性樹脂に光照射して他方の面に凸レンズ部４ａを形成する工程と、を備え、凸レンズ部４ａが入射光を集束させる正のパワーを有し、その正のパワーを有する凸レンズ部４ａを形成する工程では、それを構成する前記光硬化性樹脂に対し平行光を入射させる。 （もっと読む）

本発明は、膜状の物質（２）をナノ構造化する方法に関する。本方法は、該物質（２）を水溶液（３）に浸漬させている間に、照明領域（６ｂ）および暗領域（６ａ）を有する干渉模様（６）を該物質（２）の少なくとも１つの面につけるステップを含む。本発明の方法によれば、上記物質は、光吸収作用によって水溶液に溶解可能になる無機半導体物質または無機酸化物である。上記物質（２）のナノ構造化を、水溶液（３）に接触する該物質（２）の表面で、該照明領域（６ａ）での光分解によって、および／または、該干渉模様（６）の暗領域（６ｂ）での成長によって行う。本発明は、このような形成方法によって得られる、ナノ構造化された被覆膜（５）、さらに、ナノ構造化された３Ｄ膜にも関する。
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