【課題】対称的なピット形状を持ち且つ再現性良くピットを形成することが可能な原盤記録装置及び方法を提供する。
【解決手段】半導体レーザーの照射光を光ディスク原盤のレジスト膜に照射して情報を記録する原盤記録装置において、前記レジスト膜を無機レジスト膜とし、前記半導体レーザーの照射光をパルス幅２００ｐｓ以上１ｎｓ以下の短パルスのレーザーとして出力する手段を具備したたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備える微細パターンの描画を、基板を一方向に回転させつつ、電子ビームをＸ−Ｙ偏向及び半径方向への往復振動により複数トラックのサーボエレメント13を１つずつ塗りつぶすように走査するサーボパターン12の描画に続いて、グルーブパターン15を所定角度で分割した複数のグルーブエレメント16の整列で構成し、電子ビームを周方向へ大きく偏向して複数トラックのグルーブエレメント16を順に走査してグルーブパターン15を描画し、基板の１回転で複数トラックの描画を行う。 （もっと読む）

本発明の実施形態は、放射線感受性材料をイメージングするために回転式マスクが使用される、大面積の基体のナノパターン形成に有用な方法および装置に関する。典型的には、この回転式マスクは円筒を含む。このナノパターン形成技術は、基体をパターン形成するために使用されるマスクがその基体と動的接触にある、近接場フォトリソグラフィを利用する。この近接場フォトリソグラフィはエラストマーの位相シフトマスクを利用してもよいし、または回転する円筒表面が金属ナノホールまたはナノ粒子を含む表面プラズモン技術を用いてもよい。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備えるディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの描画を、基板を一方向に回転させつつ、電子ビームをＸ−Ｙ偏向により複数トラックのサーボエレメント13を１回転中に走査するサーボパターン12の描画に続いて、グルーブパターン15を所定角度で分割した複数のグルーブエレメント16の整列で構成し、電子ビームを周方向Ｘへ大きく偏向走査して複数トラックのグルーブエレメント16を１回転中に順に描画して連続したグルーブパターン15を描画する。 （もっと読む）

【課題】試料に照射される電子線の照射位置を補正することにより、精度よく試料にパターンを描画する。
【解決手段】基板Ｗの表面にパターンが形成されている間に、信号調整回路７２ｃによって、偏差情報の成分のうちの２次電子信号と相関の低い周波数成分が除去された偏差情報に基づいて生成された補正信号によって走査電極１６を制御する。すなわち、偏差情報の成分のうちの２次電子信号と相関の低い周波数成分が除去された偏差情報に基づいて電子線を偏向することにより、基板Ｗ上の電子線の照射位置の補正を行う。これにより、電子線描画装置１００の構成要素である回転機構３２、移動ステージ３４及びスライドユニット３３などを含む機器からの振動に起因する電子線の照射位置の変動分等が効率的に補正される。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備えるディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの描画を、回転ステージ41を回転させながら行う際に、同じトラックにおけるサーボパターン12の描画時とグルーブパターン15の描画時とで基板10の回転数を変更し、サーボパターン描画時の第１の回転数より、グルーブパターン描画時の第２の回転数を高くして描画する。 （もっと読む）

【課題】試料に照射される電子線の照射位置を補正することにより、精度よく試料にパターンを描画する。
【解決手段】基板Ｗの表面にパターンが形成されている間に、位置コントローラ７４からは偏差情報が位置補正制御回路７２へ出力される。位置補正制御回路７２は、主として回転テーブルユニット３０を構成する回転機構３２の駆動に起因する回転同期振動成分と、スライドユニット３３によって移動ステージが移動されることに起因する振動成分とが除去された偏差情報に基づいて電子線を偏向することによって、基板Ｗ上の電子線の照射位置の補正を行う。これにより、電子線描画装置１００が載置された床面など、装置の外部から伝わる振動に基づく電子線の照射位置の変動分を効率的に補正することができ、結果的に、基板Ｗに精度よくパターンを描画することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】回折効率の低下や製品価値の低下を招かずに、光レンズに収差補正用回折構造を形成することが可能なレンズ成形型、更には光学収差補正素子等の光学素子成形型を、電子ビーム描画装置による描画を用いて作製すること。
【解決手段】電子ビームを照射して走査することにより基材に描画するにあたり、
第１のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第１のステップと、
第２のドーズ量にて前記電子ビームを走査して描画する第２のステップと、
前記第１のドーズ量にて描画される部分と前記第２のドーズ量にて描画される部分とが混在する領域を設ける第３のステップと、
を含む電子ビーム描画方法。 （もっと読む）

【課題】磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの内外周描画で半径位置に応じた制御を簡易に高精度に行い、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、微細パターン12のエレメント13の形状を塗りつぶすように描画する際に、回転ステージ41の回転速度を描画位置の半径に反比例して内周トラック描画で速く外周トラック描画で遅くなるように回転制御する一方、電子ビームの描画制御信号を回転ステージ41の回転に連係して生起する描画クロック信号に基づいて作成するもので、該描画クロック信号は回転ステージの１回転におけるクロック数を描画位置の半径によらず各トラックで一定値とする。 （もっと読む）

【課題】同心円状に電子ビーム描画を行う場合に、円の始端と終端で高精度に接続された円を描画することができる電子ビーム描画装置及び描画方法を提供する。
【解決手段】１の円の描画が完了した後、当該１の円の描画から他の円の描画への移行に際し、同期信号に基づいて電子ビームの偏向を制御して、電子ビームの照射位置を上記他の円へ移行させるコントローラと、電子ビームの照射位置を上記他の円へ移行させている間、及び前記他の円への移行の直前又は移行した直後の所定期間に亘って基板への電子ビームの照射を遮断するビーム遮断部と、を有している。 （もっと読む）

【課題】電磁誘導を介したトランス機構により、固定側から回転側に非接触で電力を供給することで、耐久性を向上する。
【解決手段】ターンテーブル内に設けられ回転軸とともに回転するクランプ電極に対し、筐体側からクランプ電圧をロータリトランスを介して供給し、クランプ電極の静電力によってターンテーブルに載置された基板を把持する。このように、電磁誘導を介したトランス機構により給電することで、非接触で電力を供給することができ、摩耗を招くことがなく耐久性を向上することができる。 （もっと読む）

【課題】より短時間で精度の良い芯出し調整を実現する。
【解決手段】芯出しに使用する基準原盤として、原盤中心を中心とする平行線描画領域に、レーザ照射の際に反射光変動を観測できる所定数の直線が平行かつ等間隔に記録されているものを用意する。そして原盤製造装置では、基準原盤の平行線描画領域からの戻り光をモニタしながら、レーザ光位置を、回転中心付近にてどの平行線とも交差しない位置に調整する。 （もっと読む）

【課題】ディスクリートトラックメディアの微細パターンにおけるサーボパターンとグルーブパターンとを一定の照射線量で高精度にかつ高速に描画可能とする。
【解決手段】レジスト11が塗布された基板10上に電子ビームEBを走査して、サーボエレメント13によるサーボパターン12と、隣接データトラックを溝状に分離するグルーブパターン15とを備えるディスクリートトラックメディアに形成する微細パターンの描画を、基板を一方向に回転させつつ、電子ビームをＸ−Ｙ偏向によりサーボエレメント13を走査するサーボパターン12の描画に続いて、グルーブパターン15を所定角度で分割した複数のグルーブエレメント16の整列で構成し、電子ビームを周方向Ｘへ大きく偏向走査してグルーブエレメント16を順に時間的間隔をもって描画して連続したグルーブパターン15を描画する。 （もっと読む）

【課題】 樹脂の無駄を防ぐと共に、型がない部分への樹脂の供給をなくして良好な転写を可能にする
【解決手段】 繰出部４０から繰出されたベースフィルム４１に間欠塗工部１０の塗工ダイ２０から樹脂を間欠的に吐出してベースフィルム４１に間欠的に塗布膜４３を形成する。この間欠的に形成された塗布膜４３は、この塗布膜４３の塗工動作と同期して作動する転写部４４へ移動し、型ロール４６に設けられた型４５により転写される。転写された塗布膜４３は、紫外線照射装置４８により硬化され、巻取部４９に巻き取られる。 （もっと読む）

【課題】例えば軸受装置のインナレースやアウタレースの表面ような曲面に温度センサのエレメントなどの露光パターンを高精度に形成することができるマスクレス露光装置を提供する。
【解決手段】 露光用光源１４の光をスポット光に整形して被露光表面ＥＦに向けて出射する光学手段１８と、光学手段から被露光表面に出射するスポット光の出射領域を変更し、且つ、スポット光の領域が変化する速度を変更する出射領域変更手段１２，２２と、露光用光源のオン・オフ制御を行い、且つ、出射領域変更手段を制御することで被露光表面に所定の露光パターンを形成する露光パターン制御手段２４とを備えている。 （もっと読む）

【課題】表面プラズモンを利用したナノパターニング方法、これを利用したナノインプリント用マスター及び離散トラック磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）基板上にエッチング対象物質層、フォトレジスト層及び所定周期で反復配列された構造の第１パターン形状にパターニングされた金属層を順次形成する工程と、（ｂ）パターニングされた金属層に表面プラズモンが励起されてフォトレジスト層が第２パターン形状に露光されるように光を照射する工程と、（ｃ）パターニングされた金属層を除去し、フォトレジスト層を現像する工程と、（ｄ）第２パターンにパターニングされたフォトレジスト層をマスクとしてエッチング対象物質層をエッチングする工程と、を含むナノパターニング方法である。 （もっと読む）

【課題】 ピットの形状の乱れがない上に、ディフェクトが少ないため、ジッタ値が良く高品質で大容量の光ディスクを製造するための光ディスク原盤の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス基板１上に、非感光性のアルカリ可溶性樹脂からなる溶液を塗布する第１の層２塗布工程と、塗布された溶液を加熱して第１の層２を形成する第１の層ベーキング工程と、第１の層２上に感光性樹脂からなる第２の層３を形成する第２の層３塗布工程と、第２の層３に所定のパターンを露光して、潜像６を形成する露光工程と、第２の層３に形成された潜像６をアルカリ現像液による現像にて除去すると共に、除去後に残され第２の層３をマスクとして第１の層２をアルカリ現像液で溶解し凹凸パターンを形成する現像工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適合した成形物の作成を可能にする感光性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定のエポキシ樹脂（Ａ）、光カチオン重合開始剤（Ｂ）及び溶剤（Ｃ）を含有するマイクロチップ用感光性樹脂組成物を用いてフォトリソグラフィーにより、アスペクト比に優れ、高微細、低蛍光性のマイクロチップ部品に適した成形物（硬化物）が得られる。 （もっと読む）

【課題】コントローラを有する複数のアクチュエータまたはコントローラにより制御可能な複数のアクチュエータを制御する。
【解決手段】アクチュエータ（２１）の少なくとも幾つかのグループがコントローラ（３０）により個別に制御可能であり、各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに、少なくとも１つの記憶素子（２４）が割り当てられており、この記憶素子が、１つ以上のアクチュエータを制御するための少なくとも１つのパラメータを記憶することができ、これにより、少なくとも２つのパラメータが、各アクチュエータまたは各アクチュエータグループに割り当てられ、アクチュエータの１つの位置がそれぞれのパラメータに割り当てられる。 （もっと読む）

【課題】割れにくく取り扱いが容易で、高精細パターンをもつ光ディスク用原盤を提供する。
【解決手段】表面を研磨した基板１０と、基板１０の研磨した面上に形成された第１下地層１１と、基板１０上に、第１下地層１１を覆うように形成された第２下地層１２と、第２下地層１２上に形成された無機レジスト層１３とを有する光ディスク用原盤である。更に、第１下地層１１は、基板１０より熱伝導率が高い下地層であり、第２下地層１２は第１下地層１１よりもアルカリ溶液に対して難溶な下地層である。 （もっと読む）