【課題】高精度で露光する。
【解決手段】露光照明ユニット３２は、レボルバに装着されている複数の対物レンズのそれぞれに対して倍率補正調整がなされている第２対物レンズを複数有している。そして、露光照明ユニット３２では、光軸Ｌ１上に配置される対物レンズが切り替えられると、第２対物レンズ５５−１および５５−２がスライドし、光軸Ｌ１上に配置された対物レンズ１４に対して倍率補正調整がなされている方を経由して、DMD５４により変調された露光光が対物レンズに入射される。本発明は、例えば、MEMSデバイスの製作および観察をする顕微鏡システムに適用できる。 （もっと読む）

回転軸を持つ磁気ベアリングが、強磁性材料を有する円筒状ローターであって、上記円筒状ローターが、対称軸を持ち、上記円筒状ローターは、内側半径を持ち、上記円筒状ローターが、上部を持つ、円筒状ローターと、静的なハブであって、上記静的なハブが、該静的なハブから突出し、上記上部に隣接して配置されるオーバーハングを持つ、静的なハブと、上記第１の面と上記オーバーハングとの間の距離を制御するリフト磁気アクチュエータ装置と、上記内側半径と上記回転軸との間の距離を制御する半径方向の磁気アクチュエータ装置とを有する。
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【課題】露光ビームを照射して潜像パターンを形成する記録装置と記録方法において、ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高い装置及び方法を提供する。
【解決手段】基板に対して相対的に露光ビームの照射位置を移動させて潜像パターンの記録を行なうビーム偏向部と、潜像パターンの疎密に応じて基板の移動速度を調整する基板速度調整部と、潜像パターンの形成時における露光ビームの偏向速度を基板の移動速度に対応させて変化させる制御をなす偏向制御部と、を有する。 （もっと読む）

【課題】開口部材を有さない場合に比べ、発光特性のバラツキを抑制する。
【解決手段】基板６０と、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセント）により発光する単一の有機ＥＬ発光部６２と、有機ＥＬ発光部６２からの発光光が通過する開口部６８Ａを有する走査可能な開口部材６８と、開口部材６８の開口部６８Ａを通過した発光光を予め定められた位置に結像させる結像部６９と、を備える。発光素子が一つしかないため、従来の構成に比べ、発光特性のバラつきが抑制される。 （もっと読む）

【課題】電子線を用いて基板上に所望のパターンを精度良く描画することができる電子線描画装置を提供する。
【解決手段】 駆動信号生成装置２５２からの移動ステージを駆動する信号ｓ５２ａと同期して、該信号の周波数が所定倍された信号を生成する同期信号生成装置２５３、該同期信号生成装置２５３の出力信号ｓ５３とリニアエンコーダの出力信号ｓ１３に基づいて、移動ステージの位置偏差を算出する位置偏差演算装置２５４、該位置偏差演算装置２５４の出力信号ｓ５４に基づいて、基板に照射される電子線の照射位置を調整する照射位置調整装置２５５を備えている。 （もっと読む）

【課題】簡便で、かつ、被加工物を優れた加工精度で加工することができるレーザ加工方法の提供。
【解決手段】複数の被加工物１１の周囲を被加工物固定材料１２で固定し、複数の被加工物を有する被加工物含有体１を形成する被加工物含有体形成工程と、前記被加工物含有体を回転させながら、レーザ光を照射して被加工物上にパターンを形成するパターン形成工程と、を含み、前記被加工物含有体形成工程が、被加工物と、被加工物を装着する装着部を複数有する被加工物固定治具との間に被加工物固定材料を充填することにより、被加工物を固定する態様などが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、複雑な立体形状を有する金型であっても、密着性のよいフォトマスクが容易に作成でき、しかも繰り返し露光を可能とする再現性の高い位置決め精度を有する露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】熱間プレス成形用金型の表面に成膜したレジスト膜に、露光により所定のパターンを転写する真空圧空成形露光装置であって、レジスト膜が表面に成膜された成形用金型を気密に収容する気密容器と、前記成形用金型を載置する台座と、所定のパターンが形成されたシートを加熱して軟化する加熱機構と、軟化したシートを金型に被せた際にシート下面を台座に吸着させる吸引部と、前記吸引部に接続された吸引機構と、軟化したシートを前記成形用金型に吸着させた状態で当該シートにおける前記パターンをレジスト膜に露光する露光機構と、前記気密容器内を加圧する気体を供給する気体供給部と、を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光量不足を生じさせずに模様を描画し得る描画方法を提供する。
【解決手段】非露光領域Ａｂのうちの１つが非露光領域Ａｂに対して回転半径方向で接する２つの露光領域Ａａ１と回転方向で接する２つの露光領域Ａａ２とで囲まれ、露光領域Ａａ１の回転方向に沿った長さＬ１よりも露光領域Ａａ２の回転方向に沿った長さＬ２を短くすべき部位が存在する露光パターンＰＡ（模様）の描画時に、露光領域Ａａ１とすべき第１領域への照射回数をＮ回、露光領域Ａａ２とすべき第２領域への照射回数をＭ回としたときに、第１領域の回転半径方向に沿った第３の長さＬ３を（Ｎ＋１）で除した値よりも、Ｍ回のうちの最内周側への照射時におけるビーム中心と最外周側への照射時におけるビーム中心との間の回転半径方向に沿った第４の長さＬ４を（Ｍ−１）で除した値の方が小さくなるように照射する。 （もっと読む）

【課題】マスク描画装置内でレチクル中心に対するパターン中心のズレを測定し、レチクル原版位置を修正することができ、レチクルの精度と収率の向上を図ることができる基板位置決め装置及び基板位置決め方法を提供する。
【解決手段】それぞれアクチュエータを内蔵し基板を押し当てることによって基板の位置決めを行う複数の位置決め手段（位置決めピン）と、アクチュエータを制御して、基板の位置決めする制御ユニットと、を備えることを特徴とする基板位置決め装置。 （もっと読む）

【課題】サーマルリライタブル媒体に複数のストロークを描画する際、ストローク間の余熱干渉を低減できる制御装置等を提供すること。
【解決手段】描画対象の形状情報を記憶する形状情報記憶手段４１，４２と、伝達開始座標と伝達終了座標を含むストロークデータを形状情報から生成するストローク生成手段５４と、第１のストローク内の点と、第２のストローク内の点のうち、互いに最も距離が接近する点同士の時間間隔が適切な値となるよう、第２のストロークを走査するまでの待ち時間、空走速度、又は、走査速度の少なくとも一つを調整して、第２のストロークの走査開始時間を決定する走査開始時間算出手段５３と、走査開始時間、及び、伝達開始座標と伝達終了座標を含む描画命令を生成する描画命令生成手段５０と、描画命令を記憶する描画命令記憶手段３５と、描画命令を実行する描画命令実行手段５６と、を有することを特徴とする制御装置１００を提供する。 （もっと読む）

【課題】露光中にワーク表面位置の変動を検出し、膜厚にむらのあるレジストでも適正な状態でワークを露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１００は、ワーク（回転体）４を軸支する支持部（支持手段）７、８と、ワーク４を回転させるモータ（回転手段）３と、ワーク４表面を露光する露光光学系１と、ワーク４表面あるいは回転体表面に塗布されたレジスト膜（機能膜）表面の位置を検出する位置検出手段５と、位置検出手段５により検出された各表面位置と露光光学系１のフォーカス位置とのずれ量を計算する制御部（ずれ量計算手段）２と、を備え、支持部７、８及びモータ３はベース６上に固定されている。また、露光光学系１と直交する位置に位置検出手段５を配置している。 （もっと読む）

【課題】記録ヘッドなどの形状に応じてトラック幅などを最適に設計し得るパターン形成方法を提供する。
【解決手段】基板上に、ジブロックコポリマーを含有する組成物膜を形成する工程と、前記ジブロックコポリマーを含有する組成物膜を第１の方向にシリンダー状またはラメラ状に相分離させて、第１の方向に延びる第１の相の成分を含む易エッチング領域を形成する工程と、前記相分離したジブロックコポリマーを含有する組成物膜の上に、レジスト膜を形成する工程と、電子線描画または光露光により、前記レジスト膜に、前記第１の方向に交差する第２の方向に延びるパターンを形成する工程と、電子線または光露光によりパターン形成したレジスト膜と前記第２の相の成分を含む耐エッチングパターンとをマスクとして前記基板をエッチングする工程とを具備することを特徴とするパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高い、原盤露光用ビーム記録装置及び記録方法の提供。
【解決手段】基板１５を回転させつつ、基板上に形成されたレジスト層に露光ビームを照射することのよって潜像を形成する原盤露光方法において、スペースパターンを形成する場合に、露光ビームをブランキングさせるか（３１）、もしくは、次に記録すべき潜像へ露光ビームを偏向させるか（３３）、の何れかを選択的に実行する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ＭＥＭＳ、半導体等の製造に用いるマスクレス露光観察装置に関し、基板への露光および基板の観察を行うことができるマスクレス露光観察装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板を支持するステージと、前記基板に投影する露光パターンを生成するパターン生成部と、前記パターン生成部で生成された露光パターンを前記基板に縮小投影する対物レンズと、前記対物レンズを介して前記基板を観察する観察光学系と、前記観察に際して観察対象である前記基板に応じて前記パターン生成部を制御する制御部とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ビーム電流のロスが無く、高精度でスループットの高いビーム記録装置及び記録方法を提供する
【解決手段】露光ビームを偏向する偏向工程と、露光ビームの偏向によって潜像を形成する記録工程と、を有し、潜像パターンのうち、連続的な露光パターンである長ピットを形成する場合には、長ピットの一部を形成し、上記長ピットの一部を形成した回転の次以降の周期の回転で、上記長ピットの残部を形成する。ビーム偏向速度及び基板速度（線速度）を変化させるとともに、長いピット又はスペースを記録する必要が生じた場合にはビーム遮断を併用する。 （もっと読む）

【課題】改善された高エネルギー放射線、特にレーザー光線によるワークピースのマーキング又は描画方法を提供する。
【解決手段】高エネルギー放射線、特にレーザー光線１を用いてワークピース３をマーキング又は描画するにあたり、この際、前記ワークピース３が光散乱表面９を有し、そしてワークピースの材料は放射線の波長を透過し、この際、ポリマーマトリックス７が、放射線がポリマーマトリックス７に当たる前にワークピース３及びその光散乱表面９を通過するように、ワークピース３上に配置されるマーキング又は描画方法及び装置であって、ワークピース３の光散乱表面９が液体媒体又は粘弾性媒体１１により湿潤される。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を解決できる改善された高エネルギー放射線、特にレーザー光線によるワークピースのマーキング又は描画方法を提供する。
【解決手段】高エネルギー放射線、特にレーザー光線１を用いてワークピース３をマーキング又は描画するにあたり、前記ワークピース３は放射線の波長を透過し、ポリマーマトリックス７は、放射線がポリマーマトリックス７に当たる前にワークピース３を通過するように、ワークピース３の近くに配置されるマーキング又は描画方法であって、ポリマーマトリックス７及びワークピース３接触する液体フィルム１５がポリマーマトリックス７とワークピース３の間に配置される。 （もっと読む）

【課題】ライトクロックの出力周波数を上げることなく、位相サーボパターンを描画する電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】フォーマッタ１が備えるＤＤＳ１１が、ライトクロックＷＣＬＫ＿Ｒを出力し、ＤＤＳ１２が、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相から１トラックピッチ当たり＋９０ｄｅｇずれた位相を持つライトクロックＷＣＬＫ＿＋９０を出力し、ＤＤＳ１３が、ＷＣＬＫ＿Ｒの位相から１トラックピッチ当たり−９０ｄｅｇずれた位相を持つライトクロックＷＣＬＫ＿−９０を出力する。そして、データジェネレータ１５、１６、１７が、それぞれ、ＷＣＬＫ＿Ｒ、ＷＣＬＫ＿＋９０、ＷＣＬＫ＿−９０に基づいてブランキング信号を出力し、ＯＲ回路２０がそれぞれのブランキング信号の論理和をとって、ブランカに対して入力する。 （もっと読む）

【課題】
基板面が傾斜し、かつ高さ変位を有する場合であってもフォーカス制御を高精度に行いつつ描画を行うことが可能なビーム描画装置を提供する
【解決手段】
基板面の高さを測定する高さ測定器と、電子ビームの照射半径位置及び角度位置に基づいて基板面の傾斜角度を算出する基板角度算出器と、上記傾斜角度に基づいて基板面の高さ誤差を算出する高さ誤差算出器と、上記高さ測定器による高さ測定値から上記高さ誤差を減算して高さ調整値を算出する調整値算出器と、上記高さ調整値に応じて上記電子ビームのフォーカス調整をなすフォーカスコントローラと、を有する。
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【課題】基板表面位置（高さ）と傾きを計測する精度の過度な悪化を防止しつつ、計測時間を短縮する制御技術、及び走査露光装置を提供する。
【解決手段】複数の計測用光束は基板の表面における複数の計測ポイントに入射し反射される。複数の計測ポイントは、露光ステーションにおける露光スリットの非走査方向の幅とほぼ等しいか、又はそれ以上の長さにわたって配置されている。複数の計測ポイントのうち基板の上の計測目標位置からの距離が許容距離内の箇所を計測可能な計測ポイントを決定し、少なくとも２つのショット領域の表面位置を同時に計測する。例えばショット領域の列６１３における計測目標位置６０１および６０２を計測するための計測ポイントを７０１および７０２に決定する。さらに列６１４〜６１８における計測目標位置６０３〜６１２に対し、列６１３と同時に計測することが可能な列を決定する。 （もっと読む）