【課題】溝付きレジスト板の溝の内部に溝又はピットを正確に形成することができる電子線描画装置及び電子線描画方法を提供する。
【解決手段】描画処理後の原盤をターンテーブルから外した後再度ターンテーブルに載置したときの原盤の中心座標と、ターンテーブルの回転中心との差を検出し、ターンテーブルの停止時に検出手段からの検出信号に基づいて吸着前の原盤を径方向に移動させ、前記ターンテーブルを所定の角度だけ回転させて得られた検出手段からの検出信号に基づいて移動手段により吸着前の原盤を径方向に移動させる。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤに粗面を形成してＬＥＤの発光効率を改善するフォトリソグラフィ法を提供する。
【解決手段】基板のフォトレジスト層に位相シフトマスクパターンをフォトリソグラフィによりイメージングして、フォトレジスト造形物の周期的配列を形成することを備える。基板粗面は、露光されるフォトレジスト層を加工することにより形成され、その結果、基板面に基板ポストの周期的配列が形成される。そして、ｐｎ接合多層構造が基板粗面上に形成されて、ＬＥＤが形成される。基板ポストの周期的な配列は、基板粗面を有していないＬＥＤに比して、ＬＥＤ発光効率を改善する散乱地点として機能する。位相シフトマスクを使用することで、非平坦なＬＥＤ基板に適した焦点深度で利用可能なフォトリソグラフィックイメージングを使用することが可能となり、基板ポストの形成に必要な分解能が提供される。 （もっと読む）

【課題】ワークの交換時間を短くして、装置の利用効率を上げること。
【解決手段】ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを複数用意し、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５に対して着脱可能とし、基台５に、ワークトレイ６Ａ〜６Ｄの内の一つを装着してワークステージ４を構成する。ワークトレイ６Ａ〜６Ｄを基台５から分離し、例えばワークトレイ６Ａに複数のワークＷを載せて基台５上に置き、ワークＷに対して一枚毎にアライメントを行い、光照射部１からの光をマスクＭを介してワークＷに対して照射し、逐次露光処理を行う。ワークトレイ６ＡのワークＷの露光処理をしている間に、他のワークトレイ６Ｂ〜６Ｄ上に未処理のワークＷを載せる作業を行い、上記露光処理が終わると、ワークトレイ６Ａを取り外し、未処理のワークが載せられたワークトレイ６Ｂ〜６Ｄを基台５に載せて露光処理を行う。また、同時にワークトレイ６Ａから露光済みのワークＷを回収する。 （もっと読む）

【課題】半導体リソグラフィにおいて、シリコンウェハに同一パターンを複数形成するときに破断を起こしにくいパターン配置方法及びパターニングされたシリコンウェハを提供すること。また、そのパターン配置方法が用いられた半導体デバイスを提供すること。
【解決手段】本発明によると、シリコンウェハに、第１の方向及び前記第１の方向に直交する第２の方向に平行に配置された複数のチップパターンを有し、前記複数のチップパターンは、前記第１の方向及び前記第２の方向に配置され、直線状に配置された一つ以上のパターンを含み、前記シリコンウェハのへき開面と前記シリコンウェハの前記パターンを配置する面とが直交する軸と、前記第１の方向とが、異なるように前記複数のチップパターンを配置することを特徴とするシリコンウェハが提供される。 （もっと読む）

【課題】ブロック共重合体自己組織化方法、パターン化基板およびパターン化テンプレートを提供する。
【解決手段】リソグラフィを行ない、基板上に第１のパターンを形成する工程と、ブロック共重合体自己組織化を行ない、基板上に第２のパターンを形成する工程とを含む方法、パターン化基板テンプレート、およびリソグラフィ技術と自己組織化技術との組合せを含む方法が提供される。パターン化基板は、第１および第２のパターンを含んでもよい。 （もっと読む）

【課題】 偏光光をマスクを介して被照射物に照射する光照射装置において、マスクのパターンに忠実で解像度の高いパターンを形成することができ、しかも、十分に高い消光比を得ることのできる光照射装置を提供すること。
【解決手段】 この光照射装置は、ショートアーク型の放電ランプおよびリフレクタよりなる光源素子の複数が、一方向に並んで配置されてなる光源素子列を有する光出射部と、光出射部からの光を、前記一方向に伸びる線状に集光する集光部材と、集光部材からの光が入射される、各々前記一方向に垂直な方向に伸びる線状の多数の遮光部および多数の透光部が前記一方向に交互に並んで配置されてなるマスクと、集光部材とマスクとの間の光路上に配置された偏光素子とを備えてなり、偏光素子は、その法線が前記集光部材から前記マスクに対して入射される光の正反射方向の光軸に対して傾斜する状態で、配置されている。 （もっと読む）

【課題】基板の位置を容易に検出可能にする。
【解決手段】本発明の露光装置ＥＸは、露光対象の基板Ｐに回路パターンを露光する露光部と、基板Ｐを貫通して設けられ、露光の位置基準となるアライメントマークＡＭに光を通して基板Ｐの位置を検出するアライメント系４を備える。アライメント系４は、光を射出する光学部材と、光学部材から射出されてアライメントマークＡＭを通った光を反射させる反射部とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】サーボ領域を半径によらず一定の角度のパターンで形成することを可能にするとともに、データ領域を半径によらず一定の間隔のパターンで形成することを可能にする。
【解決手段】基板を回転させる回転機構と、移動機構と、電子銃と、電子線をブランキング制御信号に基づいてブランキングもしくは偏向制御信号に基づいて偏向、またはブランキング制御信号および偏向制御信号に基づいてブランキングおよび偏向させる偏向器と、ステージにおける描画半径位置に応じて変化する周期を有する第１基準クロック信号を発生する第１クロック信号発生回路と、第１基準クロック信号と独立な周期を有する第２基準クロック信号を発生する第２クロック信号発生回路と、第１基準クロック信号および第２基準クロック信号に基づいて、ブランキング制御信号および偏向制御信号のうちの少なくとも一方の制御信号を発生する制御信号発生回路と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト層の未露光部について高い残膜率を維持し、露光部ついては現像後の未露光部に対して高いパターンコントラストと高い解像度の提供。
【解決手段】所定の露光前ベーク温度条件で露光前ベークを行い、且つ、所定の露光後ベーク温度条件で露光後ベークを行った後の試験用レジスト層に対して現像処理を行い、露光前ベーク温度条件及び露光後ベーク温度条件毎の残膜率を得る工程と、露光前ベーク温度軸及び露光後ベーク温度軸を有するグラフにて前記残膜率が９５％以上の領域における温度条件で、前記試験用レジスト層と同組成且つ基体上に形成されたレジスト層に対して露光前ベーク及び露光後ベークを行う。 （もっと読む）

【課題】各フィルム基板のアライメントマークの位置のずれを抑制し、精度よく各フィルム基板が積層されている積層基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基板５１にフォトレジストを塗布し、ベークを行ってフォトレジスト層を形成後、アライメントマーク５０１を形成し、配線電源層５０を完成させる。フィルム基板４１にフォトレジスト層を形成後、アライメントマーク５０１を転写してアライメントマーク４０１を形成する。信号処理層４０を完成させて、配線電源層５０とアライメントマーク４０１，５０１を基準に接着する。同様に、下層から順次アライメントマークを形成し、各層を接着させてスキャナ１を完成する。フォトレジスト層を形成するためのベークによる加熱によって、フィルム基板が収縮している。その後、アライメントマーク１０１，２０１，３０１，４０１，５０１が形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターンの製造方法に関し、特に、レーザーを用いてパターンを製造する方法に関する。
【解決手段】パターンの製造方法は、基板上に金属有機インク層（20）を形成する第1の段階；前記金属有機インク層（20）を半固体状態に硬化させる第2の段階；前記半固体状態の金属有機インク層（20）にレーザー光を照射し、照射された部分が固体状態に硬化されてパターンが形成される第3の段階、および、前記半固体状態の金属有機インク層（20）を除去して、前記パターンだけを残す第4の段階を含む。 （もっと読む）

【課題】搬送時及び露光時のフィルムの傷つき及び振動を防止することができると共に、連続的に搬送中に露光処理することを可能とし、生産性を向上させることができるフィルムの露光装置を提供する。
【解決手段】フィルムの露光装置１は、感光性材料が塗布されたフィルム２ａをその長手方向に搬送する１対の搬送ローラ１１と、搬送ローラ１１間のフィルム２ａの下方に配置されフィルムを支持するステージ１０と、ステージ１０上のフィルム２ａに対して露光光を照射して露光する光源１３と、を有する。ステージ１０は、多孔質材料からなる板状の基板１０ｆと、基板１０ｆの多孔質部から空気を上方に吹き上げてフィルムを基板に非接触で支持する噴気部材１０ａ、１０ｄと、基板１０ｆに設けられた吸気孔１０ｅを介して基板１０ｆの表面から空気を吸引する吸気部材と、を有する。 （もっと読む）

【課題】同種の基板の基板搬送方向と交差方向にオフセットした位置に光を照射する場合にも、移動中の基板に対する追従性を良好にする。
【解決手段】基板の搬送方向と交差する方向に一定の配列ピッチで形成され、光を通過させる複数のマスクパターン２と、基板上に設けられた複数のパターンの基板搬送方向と交差方向の配列ピッチの整数倍に等しい間隔を有して基板搬送方向に平行に形成された一対の細線４ａ，４ｂを備えた構造をなし、複数のマスクパターン２に対して基板搬送方向と反対側の位置に基板搬送方向に相互に一定距離はなれて配置されると共に、一対の細線４ａ，４ｂ間に予め設定された基準位置が基板搬送方向と交差する方向に予め定められた距離だけ相互にずれた状態に形成された複数のアライメントマーク４と、を備えたものである。 （もっと読む）

【課題】コンパクトなユニット内に組み込むことができ、複数の自由度の位置測定値を提供できる位置センサを提供する。
【解決手段】位置センサは、ターゲットの位置データを測定するように構成される。位置センサは、放射ビームを照射するように構成された放射源と、放射ビームを第１の回折方向に少なくとも１つの１次放射ビームに回折するように構成された第１の格子と、１次回折ビームの光路内に配置され、第１の格子で回折された１次回折ビームを、第１の回折方向に実質的に垂直な第２の回折方向に回折するように構成された第２の格子とを含む。第２の格子はターゲットに接続される。第１の検出器は、第１の格子によって回折されたビームの少なくとも一部を検出するように構成され、少なくとも１つの第２の検出器は第１の格子と第２の格子によって回折されたビームの少なくとも一部を検出するように構成される。 （もっと読む）

【課題】高い回折効率で光を回折することができる干渉縞が複数記録されたホログラムを安定して製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】ホログラム製造方法は、一つのレーザ光源４０から発生されたレーザ光Ｌ４０を、二以上の数の参照光Ｌｒ１〜Ｌｒ３および二以上の数の物体光Ｌｏ１〜Ｌｏ３として、ホログラム記録材料に同時に照射する工程を含む。レーザ光源から発生されたレーザ光は、分岐手段４５によって二以上の数の分岐光ＢＬ１〜ＢＬ３に分岐され、その後、各分岐光が、分離手段５０によって、それぞれ参照光および物体光に分離される。任意の二つの分岐光の、レーザ光源から当該分岐光に対応する各分離手段までの、光路長の差は、レーザ光のコヒーレント長より長い。 （もっと読む）

【課題】精度よく動作することが可能な圧電アクチュエータおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】誘電体１０の中央部１０３の上面には、第一電極１１と、第一電極１１とは異なる極性の電圧が印加される第二電極１２とが、左右方向に交互に並んで設けられている。中央部１０３の底面には、第三電極１３と、第三電極１３とは異なる極性の電圧が印加される第四電極１４とが、左右方向に交互に並んで設けられている。第一、第二電極１１，１２は、誘電体１０の底面に設けられた第三、第四電極１３，１４に対向しない。第一間隔部１０４における分極方向は、第一電極１１から第二電極１２に向かう方向である。第二間隔部１０５における分極方向は、第三電極１３から第四電極１４に向かう方向である。第一〜第四電極１１，１２，１３，１４に電圧を印加して、圧電アクチュエータ１を振動させる。 （もっと読む）

【課題】マスクの送りと押圧板の移動との切り替えを、簡単な構成で、且つ簡単な操作で行うことのできるスタンプ作成装置を提供する。
【解決手段】光硬化性樹脂で構成された印面Ａｄに露光を行うことでスタンプ素材に印章画像を形成するスタンプ作成装置であって、マスクを、印面Ａｄが位置する露光部に送り込むリボン送り機構４２（マスク送り機構）と、露光部に設けられ、マスクを印面Ａｄに押圧する押圧位置Ｐ１と印面Ａｄから退避する退避位置Ｐ２との間で押圧板５０を移動させる押圧板移動機構５１と、リボン送り機構４２および押圧板移動機構５１を駆動する単一の動力源と、動力源の回転動力を、リボン送り機構４２に伝達するリボン送りギヤ列４３（マスク送りギヤ列）と、押圧板移動機構５１に伝達する押圧板移動ギヤ列５２と、リボン送りギヤ列４３および押圧板移動ギヤ列５２に選択的に伝達する動力切替機構６２と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】露光領域における半径方向に沿った辺のＬＥＲを良好にする。
【解決手段】情報記録媒体製造用の凹凸パターンを形成するための樹脂層が形成された基材を回転させた状態において樹脂層に描画用ビームを照射することによって、凹凸パターンを形成するためのサーボパターンＰＳａを含む露光パターンＰａを樹脂層に描画する描画方法であって、露光パターンＰａにおけるサーボパターンＰＳａのうちの少なくとも一部のパターン（プリアンブルパターンＰＳ１等）の描画に際して、基材の回転方向と交差する方向（同図における上下方向）に描画用ビームを往復動させて、そのパターンにおける基材の半径方向の一部を描画する第１の部分描画処理を、第１の部分描画処理において描画用ビームのビーム中心を移動させる第１の移動範囲の半径方向に沿った長さＬａよりも短く規定した長さＬｂだけ半径方向に沿って第１の移動範囲を移動させて複数回に亘って実行する。 （もっと読む）

【課題】微細加工処理全体の加工効率を下げることなく、レーザ光を集光するレンズ系の焦点距離を最適な値に調整可能な露光装置を提供する。
【解決手段】レジスト層１０１に対して、レンズ系１３によりレーザ光を集光して所定の走査方向に並んだ凹凸パターンに対応させて選択的に露光する露光処理部１０と、レンズ系１３の焦点距離を変化させて選択的に感光したレジスト層１０１に対し、レンズ系１３によりレジスト層が感光しないレーザ光を集光して反射光を検出するディテクタ１４と、ディテクタ１４による検出結果から、試験露光アシンメトリ値を算出するアシンメトリ算出部１６と、焦点距離の変化に対応した試験露光アシンメトリ値の変化が極値となる焦点距離を、レンズ系１３の焦点距離に設定するオフセット設定部１７と、オフセット設定部１７で設定した焦点距離で、レンズ系１３がレーザ光を集光してレジスト層１０１を露光するように露光処理部１０を制御するフォーカスサーボ制御部１５とを備える。 （もっと読む）

【課題】マスク工数を減少させて工程を単純化するとともに、安全性が確保されるようにしたタッチスクリーンパネル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板の一面に透明電極膜、及び絶縁膜を順次成膜する段階と、前記透明電極膜及び絶縁膜をハーフトーンマスクを利用して同伴パターニングすることによって、第１方向に沿って連結される複数の第１センシングパターン、及び前記第１センシングパターンの間にそれぞれが分離されたパターンを持つ複数の第２センシングパターンとともに、前記第１及び第２センシングパターン上に位置されるが、前記第２センシングパターンの一領域を露出する絶縁膜を形成する段階と、前記第１及び第２センシングパターンと絶縁膜が形成された前記透明基板上に導電膜を成膜する段階と、前記導電膜をパターニングすることによって、前記第２センシングパターンの露出された領域を介して前記第２センシングパターンを第２方向に沿って連結する第２連結パターンを形成する段階と、を含む。 （もっと読む）