【課題】ナノインプリントを利用した金属酸化薄膜パターンの形成方法及びＬＥＤ素子の製造方法を提供する
【解決手段】基板１０に感光性金属有機物前駆体層３０を形成段階と、モールド２０を準備する段階と、前記モールド２０で前記感光性金属有機物前駆体層３０を加圧する段階と、前記加圧された層を加熱するか、または加熱すると同時に紫外線を照射して硬化された金属酸化薄膜パターン３１を形成する段階と、前記モールド２０を前記金属酸化薄膜パターン３１から除去する段階とを含み、選択的に、前記金属酸化薄膜パターン３１を焼成する段階をさらに含む。これにより、レジストとして使用するために紫外線レジンを別途に塗布する工程が省略されるので、パターンの形成工程が簡素化され、単一インプリント工程によりマイクロ・ナノ複合パターンを形成できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高価なフォトマスクを要することなくエッチングにより超電導層に溝部形成が可能であって細線化を確実に行うことができる方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、基材上に中間層を介し超電導層が形成され、少なくとも超電導層を複数に分断離間する分離溝を備えてなる超電導細線の製造方法であって、基材上に中間層と超電導層と保護層を備えた超電導導体に対し、保護層から少なくとも超電導層表面に達する溝部を超電導導体の長さ方向に沿って形成する工程と、ネガ型の感光性樹脂層を形成する工程と、保護層上の感光性樹脂層が残り、溝部に対応する位置の感光性樹脂層を除去して溝部に連続する接続溝を感光性樹脂層に形成するように露光、現像を行う工程と、溝部と接続溝を介してそれらの下に位置する酸化物超電導層をエッチングにより除去して分離溝を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レジスト層の下に導電化層を形成してレジスト層にパターンを描画する際の電子線の散乱を低減することにより、パターンの高さ不良やパターン幅のばらつきを低減し、以ってより微細なパターン形状を精度よく形成可能なスタンパの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンへのドーパントのドープ又はポリシリコンの成膜により基板上に導電化層を形成する導電化層形成工程と、前記導電化層上にレジスト層を形成して電子線により描画し、前記導電化層の表面が凹部に露出するレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、前記導電化層を電流シード層として電鋳により前記レジストパターン上に金属めっき層を形成する電鋳工程とを備え、前記基板、導電化層及びレジストパターンを除去して前記金属めっき層をスタンパとする。 （もっと読む）

【課題】サーボエリアおよびデータエリアの微細パターンの描画が基板全面で所定形状に高精度かつ短時間に実行でき、一定ドーズ量で高速かつ正確に描画可能とする。
【解決手段】レジストが塗布された基板上に、電子ビームＥＢの照射をブランキング手段２４に対するオン・オフ信号によって制御し、ビーム偏向動作を偏向手段２２に対する偏向信号の出力によって制御し、サーボエレメント１３およびグルーブパターン１６またはドットパターンを走査して描画する際に、パターン形状を描画するためのパターン形状偏向信号に加えて、ビームスポットの周方向の相対線速度を調整する相対線速度偏向信号を偏向手段に出力し、サーボエリアでの相対線速度＞基板線速度＞データエリアでの相対線速度に設定して描画する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、基板の撓みを自動的に矯正して矯正具合の再現性を改善し、基板の解像度の面内部分布を均一にする露光装置及び露光方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施の形態に係る露光装置は、フォトマスクを固定するマスクホルダと、基板の外周部を固定するチャック及び前記基板に対する圧力を調整する１つ以上の圧力調整部を有するワークステージと、前記フォトマスクのパターン及び前記基板の画像を取得する画像取得部と、前記画像取得部からの情報に基づき、前記圧力調整部の前記基板に対する圧力を調整する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ロールを被覆するレジスト層上で隣接する露光マークの露光開始点を正確に制御し２次元的に自在な配置に大面積の露光パターンを作製可能な露光装置及び露光方法を提供することを目的の一とする。
【解決手段】レジスト層がロール表面を被覆してなるロール状の部材にレーザー光でパルス露光してレジスト層に複数の露光部からなる露光パターンを形成する露光装置において、ロール状部材をロールの中心を軸に回転させる回転制御部と、ロール状部材の回転方向における露光パターンをロール状部材の回転と同期した基準信号に基づいて制御し、ロール状部材の回転方向と垂直なロール長手方向に露光を繰り返す露光部とを設ける。 （もっと読む）

【課題】円筒面のような立体表面に対して、円周方向に継ぎ目がなく、しかも軸方向に連続する微細凹凸構造の転写を実現する。
【解決手段】所定のマスクパターンを有する平板型フォトマスク面上に光を照射し、その透過光をすり鉢形状の開口穴を有する立体反射型ミラーによって反射させて、立体構造体の表面に塗布した光感光性材料に照射して露光させるとともに、この立体構造体を間欠的に供給することにより、立体構造体の表面上に、マスク面上のパターンを、継ぎ目が無く、しかも軸方向に際限なく連続したパターンとして転写する。 （もっと読む）

【課題】同一の半導体ウエハから製造される複数の半導体チップを識別可能であるのは勿論のこと、半導体ウエハの表面を分割して露光する際の露光位置識別と、各半導体チップの位置を識別する半導体チップ位置識別の双方を可能とした半導体チップ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体ウエハの表面を露光位置を異ならせて複数回に分割して露光するにあたり、前記半導体ウエハ表面の前記各分割露光の露光位置を識別する少なくとも１つ以上の露光位置識別部４１と、前記１回の分割露光で複数の半導体チップに相当する領域を同時に露光するにあたり、前記１回の分割露光における前記各半導体チップ１０の位置を識別する少なくとも１つ以上の半導体チップ位置識別部４２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】インプリントテンプレートを比較的低いコストで作成する。
【解決手段】無機剥離層とインプリント可能な媒体の層とを有する基板を用いてインプリントテンプレートを形成する方法が開示される。この方法は、マスタインプリントテンプレートを用いてインプリント可能な媒体にパターンをインプリントするステップと、インプリント可能な媒体を固化させるステップと、インプリント可能な媒体と無機剥離層とをエッチングして無機剥離層内にパターンを形成するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】エッチング層の膜厚変動に対して露光範囲の大きさのばらつきが少なく、インプリント原版へのレーザーによる精密露光を可能とする積層構造体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の積層構造体は、波長３００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲における消衰係数Ｘが０．５以上１０以下である基材１１と、基材１１の上に設けられた光吸収層と、光吸収層１２の上に設けられたエッチング層１３と、エッチング層１３の上に設けられたレジスト層１４と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フィルム基板に予め精密な位置合せマークを形成するために要する製造コストを低減してフィルム基板に薄膜パターンを形成する。
【解決手段】パターン形成用の薄膜と感光性レジスト膜とを形成したフィルム基板を間欠送りに搬送する搬送機構を備え、前記感光性レジスト膜に、フォトマスクに形成した位置合せマークのパターンを露光する露光部を備え、前記露光部が前記感光性レジスト膜にフォトマスクに形成した第１のパターンの位置合せマークを露光し、前記露光後の次の露光の際に、間欠送りにより搬送されてきた前記フィルム基板の既に露光された前記第１のパターンに、フォトマスクに形成した第２のパターンの位置合せマークを重ねて露光し前記感光性レジスト膜を変質させた位置合せマークを形成し、前記感光性レジスト膜を変質させた位置合せマークの前記第１のパターンと前記第２のパターンの位置ずれを検出する。 （もっと読む）

【課題】パターンサイズの異なる各種凹凸パターンをそれぞれのパターンの描画位置精度を確保して正確に描画可能とする。
【解決手段】ＤＴＭまたはＢＰＭの記録メディアに形成する微細パターンを、レジスト11が塗布されたモールドの原盤10に、電子ビーム描画装置により電子ビームEBを走査して描画する際に、前記微細パターンにおける、メディア用サーボパターン12およびデータトラック間のグルーブパターン15による第１の凹凸パターン、円周に沿って環状にパターン形成された円環状位置決めマーク17およびトレサビリティー用製品識別マーク19による第２の凹凸パターン、転写時のポイント状位置決めマーク18による第３の凹凸パターンのうち少なくとも２種を、同一真空チャンバー43内で１枚の原盤に連続して電子ビーム描画する。 （もっと読む）

【課題】無端状モールド等に適用し得るＳＯＧの無端状パターンを電子ビーム又はイオンビームの照射により作製する方法の提供。ＳＯＧ無端状モールドを用いる樹脂パターン成形品の製造方法の提供。ＳＯＧ無端状モールド及び光学素子の提供。
【解決手段】本発明のＳＯＧの無端状パターン作製方法は、円周方向において無端のアルミニウム基板上に、ＳＯＧ（Spin-On-Grass）レジスト液膜を付与する工程と、前記ＳＯＧレジスト液膜を有するアルミニウム基板を加熱してＳＯＧレジストを焼成する工程と、前記焼成後、ＳＯＧレジストを有するアルミニウム基板を冷却する工程と、前記冷却後、ＳＯＧレジストを有するアルミニウム基板を回転方向に回転させる工程と、前記基板上のＳＯＧレジストに電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、前記照射により又は前記照射後の現像により、前記ＳＯＧレジストの一部を除去する工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】０次光成分を極力少なくし、透過±１次光の回折効率を極力多くして、転写した光ファイバー等の光導波路の回折格子の反射スペクトル中にノイズが発生しないようにした回折格子作製用位相マスクを提供する。
【解決手段】光ファイバー２２に対して、相互に平行で断面略矩形の凹溝２６と凸条２７の繰り返しパターン面２８を向けて配置され、繰り返しパターン面２８とは反対側の面から露光光２３を照射し、０次光２５Ａを５％以下に抑え、透過±１次光２５Ｂ、２５Ｃによる所定ピッチの干渉縞を露光して回折格子を作製する。凹溝２６の深さｄが露光光の位相を３πラジアン近傍にずらすようにすることにより、その位相をπラジアン近傍にずらす場合より、透過±１次光の回折効率あるいは透過０次光に対するコントラストを高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】基板上に塗布される液状体の状態を改善することが可能な塗布装置を提供すること。
【解決手段】所定の塗布位置において基板を立てた状態で回転させつつ前記基板の表面及び裏面にそれぞれ液状体を吐出するノズルを有する塗布機構と、前記基板を基板搬入位置、前記塗布位置及び基板搬出位置の間で搬送する搬送機構と、前記基板搬入位置、前記塗布位置及び前記基板搬出位置とは異なる位置であって前記搬送装置が接続可能な保持位置でダミー基板を保持するダミー基板保持機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】高コスト化を招くことなく、高いスループットで精度良く描画する。
【解決手段】 電子線描画装置は、電子光学鏡筒及び試料室を有する本体部、及び主制御装置２５０などを備えている。主制御装置２５０は、制御装置２５１、回転コントローラ２５２、位置コントローラ２５３、同心円演算処理装置２５４、多角形演算処理装置２５５を有している。そして、多角形演算処理装置２５５は、多角形を描画する際の基板の回転数、描画開始位置、多角形の辺の数、及び走査電極の偏向感度に基づいて、偏向周波数を演算する振幅演算調整回路、偏向周波数と同じ周波数の方形波信号から２次関数波信号を生成する第１の信号処理回路、及び２次関数波信号における基板の半径方向の外向きの偏向成分を折り返し、半径方向の内向きの偏向成分と加算して、同心円生成信号に重畳する第２の信号処理回路を有している。 （もっと読む）

【課題】露光量が少ない場合にも、基板上に多種類の高分子を形成できるバイオチップの製造に好適な酸転写樹脂組成物及びこれを用いたバイオチップの製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）に示す構造単位を有する重合体と、（Ｂ）感放射線性酸発生剤とを含有する酸転写樹脂組成物。


（式（１）中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し；Ｒ²は置換基を有していてもよいアリーレン基を示し；Ｒ³及びＲ⁴はそれぞれ独立して水素原子、アルキル基、アリル基又はフェニル基を示すか、あるいはＲ³及びＲ⁴が窒素原子と一緒になって環状アミノ基を形成してもよい。ｎは０〜８の整数を示す。） （もっと読む）

本発明は着色剤、バインダー樹脂、光重合性化合物、光重合開始剤および溶媒を含む着色感光性樹脂組成物において、前記光重合開始剤が３００ｎｍ以下で反応する化合物を含むことを特徴とする３００ｎｍ以下の超短波長露光器を利用した固体撮像素子のカラーフィルター製造用着色感光性樹脂組成物を提供する。前記着色感光性樹脂組成物は、超微細化された着色パターンが具現されたカラーフィルターを製造でき、前記カラーフィルターは固体撮像素子に有用に適用できる。 （もっと読む）

【課題】描画時間を短縮することが可能な描画方法を提供する。
【解決手段】第１照射条件を用いて、第１エネルギから計算される第１照射量で基板上のレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを描画するステップと、第１照射条件より高速に同一面積を描画できる第２照射条件を用いて、レジスト膜の現像による残膜率が変化を開始するエネルギより小さな第２エネルギから計算される第２照射量でレジスト膜に荷電粒子線を照射して、第１描画データのパターンを含む第２描画データのパターンを描画し、レジスト膜の第１描画データのパターン部を選択的に溶解可能とするステップとを含む。第１エネルギと第２エネルギの和は、残膜率の変化が完了するエネルギよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】MEMSデバイスの製作および観察を効率よく行う。
【解決手段】露光対象物１２の観察に使用される観察鏡筒１９と、露光対象物１２を露光する露光光を発生する露光照明ユニット３２と、ステージ１３およびレボルバ１５が装着される顕微鏡本体１６と、露光対象物１２に照射する照明光を発生する落射照明ユニット１７と、対物レンズ１４の露光対象物１２に対する焦点を合致させるＡＦユニット１８とが、共通の接続部を有する。本発明は、例えば、MEMSデバイスの製作および観察をする顕微鏡システムに適用できる。 （もっと読む）