本発明は、表面に所望のパターンを形成するための、可変整形ビーム（ＶＳＢ）ショットを用いるための方法を説明し、複数のＶＳＢショットの集合体は、所望のパターンから逸脱する。さらに、ＶＳＢショットは、互いに重なり合うことが可能にされ、ショットのドーズを変化することが可能である。同様の方法が、光近接効果補正（ＯＰＣ）、フラクチャリング、マスクデータ準備、および近接効果補正について開示される。グリフ生成のための方法も開示され、それにおいては、１つのＶＳＢショットまたはＶＳＢショットのグループから表面上にもたらされるパターンが事前計算される。いくつかの実施形態においては、最適化技術が、ショット数を最小化するために用いられ得る。本開示の方法は、たとえば、レチクルを用いる光リソグラフィによって集積回路を製造するプロセスや、直接描画を用いて集積回路を製造するプロセスにおいて用いられ得る。
（もっと読む）

【課題】パターンの描画時間を短縮することが可能な描画装置を提供する。
【解決手段】ステージ１上にマスクブランクス１０が固定される。ステージ１は、ステージ駆動部２によりＹ方向に沿って移動する。キャリッジ３Ａ，３Ｂは、ステージ１の上方でＸ方向に延びるヘッド移動部３１ａ，３１ｂをそれぞれ有する。キャリッジ３Ａのヘッド移動部３１ａには、ヘッド部４Ａが取り付けられる。キャリッジ３Ｂのヘッド移動部３１ｂには、ヘッド部４Ｂが取り付けられる。
レーザ光発生部５により発生されたレーザ光がヘッド部４Ａ，４Ｂからステージ１上のマスクブランクス１０に向けてそれぞれ出射される。 （もっと読む）

【課題】ネガ型の化学増幅型レジスト組成物を用いた二重露光により微細なコンタクトホールパターンを形成できる新規なレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】支持体１１上に、ネガ型の化学増幅型レジスト組成物を用いてレジスト膜１２を形成し、前記レジスト膜に対し、フォトマスクを介した第一の露光を行い、第一のラインアンドスペースパターンの潜像１２’を形成した後、フォトマスクを介した第二の露光を行い、前記第一のラインアンドスペースパターンの潜像と交差するように、第二のラインアンドスペースパターンの潜像１２’’を形成し、前記レジスト膜を現像して前記レジスト膜にホールパターンを形成する。 （もっと読む）

【課題】パターンの縁部の描画精度が向上された描画方法および描画装置を提供する。
【解決手段】ストライプパターンＬ１のＸ方向の長さは、ストライプパターンＬ２のＸ方向の長さよりも大きい。この場合、レーザ光の照準位置ＰＴが移動する領域（照準移動領域）ＲがストライプパターンＬ１，Ｌ２間にあるとき、および照準移動領域ＲがストライプパターンＬ１に重なるときには、レーザ光を出射するヘッド部の移動速度が相対的に低く設定される。照準移動領域ＲがストライプパターンＬ２に重なるときには、ヘッド部の移動速度が相対的に高く設定される。 （もっと読む）

【課題】複数の円周トラックに沿って、連続的に精度よくパターンを描画する。
【解決手段】円周トラックＣＴｒ_１上の描画開始位置ＳＰ_１から円周トラックＣＴｒ_１に沿ってパターンの描画を開始してから、基板が２π−Δθｔｅ_１回転した位置で、電子線をＸ軸へ偏向することで電子線の入射位置を円周トラックＣＴｒ_２上へ位置決めする。そして、円周トラックＣＴｒ_２上の描画開始位置ＳＰ_２から円周トラックＣＴｒ_２に沿ってパターンの描画を開始してから、基板が２π＋Δθｔｅ_１＋Δθｔｅ_２回転（（４π＋Δθｔｅ_２）−（２π−Δθｔｅ_１））した位置で、電子線をＸ軸へ偏向することで電子線の入射位置を円周トラックＣＴｒ_３上へ位置決めする。 （もっと読む）

【課題】レーザ干渉計の計測値と環境パラメータとに基づいてステージと光照射部との相対位置を制御しつつ、基板の主面に形成されるパターンに、環境パラメータの計測誤差に起因する位置ずれが発生することを防止し、かつ、パターン描画装置の処理速度の低下も防止できるパターン描画装置および位置制御方法を提供する。
【解決手段】パターン描画装置は、描画処理時には、第１および第２の干渉計により計測された位置パラメータと、一定の環境パラメータとに基づいてステージの位置を制御する（固定値モード）。これにより、基板の主面に形成されるパターンに、環境パラメータの計測誤差に起因する位置ずれが発生することを防止することができる。また、位置ずれの発生を防止するために環境パラメータの計測頻度を高める必要はないので、パターン描画装置の生産速度の低下を招くこともない。 （もっと読む）

【課題】パターン端部の断面形状が良好なカラーフィルタを作製でき、パターン端部におけるパターン欠けを抑制できるカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】着色剤及び／又は遮光剤と、光重合開始剤と、重合性化合物と、を含む感光性樹脂層を、周辺部における透過領域密度が中央部における透過領域密度よりも低い開口パターンを有する露光マスクを介してパターン露光する露光工程と、パターン露光された感光性樹脂層を現像してパターンを得る現像工程と、現像して得られたパターンを加熱処理するポストベーク工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】ステッチング誤差の問題を解決するパターン作成装置の提供。
【解決手段】本発明に係る装置は、つぎ合わされた少なくとも２つの隣接する部分的画像が共通の境界でオーバラップし、オーバラップしている部分的画像の各々が、オーバラップ領域において本質的に同じパターン、及び減少された露光線量を有し、オーバラップ領域の減少された露光線量が、オン状態とオフ状態との間の中間変調状態に設定する位相変調素子の能力を使って、位相変調アナログ空間光変調装置のアナログ機能により作られ、中間変調状態に設定された位相変調素子の微小領域素子から反射された光の複素振幅を一体化した光の複素振幅が、オーバラップ領域の減少された露光線量をつくることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】直動ステージとスピンドル回転機構を用いたビーム露光装置において、簡単で安価な回路構成で、円弧パターンを原盤に露光する。
【解決手段】ＤＤＳ(Direct Digital synthesizer)により、スピンドルクロック、ライトクロック、ステージクロックを生成する回路（８０，８２，８４）と、ライトクロックから、１回転に１回程度、特定の描画位置を示すトリガ信号を発生するトリガ発生回路（８７）と、そのトリガが発生した半径及び円周方向位置を測定する測定回路（８８）と、測定結果により、クロック周波数を調整する周波数データ設定回路（８９）とを有する。磁気ディスク媒体等のサーボパターンのような円弧状の整列ピットを、より簡単な回路によって実現できる。 （もっと読む）

【課題】マスクの表面に粉塵が付着することを防止し、高い描画品質を維持することができるパターン描画装置を提供する。
【解決手段】マスク保持部において、マスクに当接する当接ピン６１の下方に、磁石６４を配置する。当接ピン６１とマスクとが当接または摺接することにより、当接ピン６１の先端部６１ａから磁性体の粉塵が発生しても、発生した粉塵は、磁石６４に引き付けられて磁石６４の表面に付着する。従って、マスクの表面への粉塵の付着が防止され、高い描画品質が維持される。部材同士が当接または摺接して磁性体の粉塵が発生し得る箇所の近傍にも、同じように磁石を配置する。 （もっと読む）

【課題】画像記録の際に１画素に相当する距離を超えて遷移位置をシフトさせる。
【解決手段】各光変調素子４６１に対応する画素列の画素値が変化する各変化点に関して、描画ずれを補正するために光変調素子からの出力光量の遷移位置をシフトするシフト量が求められ、２つのカウンタ６１５１，６１５２では、画素列の１以上の画素に相当する設定距離だけ開始位置をずらして設定距離の２倍のカウント区間毎にディレイクロック８１４のカウントが開始される。画素列において各カウンタの各カウント区間の始点から最初の設定距離に含まれる変化点までの距離と当該変化点に対するシフト量との和に相当する設定値が、当該カウンタに接続されたコンパレータ６１４１，６１４２に入力され、コンパレータではカウンタのカウント数が設定値以上となる際に出力光量の遷移を指示する信号が出力され、１画素に相当する距離を超えて遷移位置をシフトさせることが実現される。 （もっと読む）

【課題】安価に、精度よく基板及び露光マスクの位置合わせ行なうことができる近接露光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 被露光対象ワークＷを載置して搬送する搬送手段４と、ワークＷに近接対向させて露光マスク３１と、ワークＷ上のアライメントマークＷＢと露光マスク３１上のアライメントマーク３１ｄと、を同時に撮像する撮像手段５とを備え、撮像手段５により撮像された、アライメントマークＷＢとアライメントマーク３１ｄの夫々の画像に基づいて、ワークＷと露光マスク３１との位置合わせをしながら露光する近接露光装置であって、撮像手段５とワークＷまたは露光マスク３１との間に配設されて、撮像手段５とワークＷまたは露光マスク３１との間の光学距離（Ｌ１またはＬ２）を不連続に可変にする光学部材５２ａを有する光学距離補正手段５２を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ヒートモード型のフォトレジスト層に凹部または低耐久性部を形成する際に発生する異物を除去しながら凹部または低耐久性部を形成することができるパターン形成方法と、この方法を用いた凹凸製品の製造方法、発光素子の製造方法および光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】ヒートモードの形状変化が可能なフォトレジスト層１２に、集光した光を照射することで複数の凹部１５を形成するパターン形成方法であって、フォトレジスト層１２に対して不活性な気体である空気を吹き付けて、フォトレジスト層１２上で移動させながら光を照射して凹部１５を形成する。 （もっと読む）

【課題】磁性層のパターニング工程後のマスク層除去で残渣を発生させず、記録層表面の平滑性を向上させることができ、またレジスト層のナノインプリントを高精度で行うことができるようにする。
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも記録層４を有する磁気記録媒体を製造する磁気記録媒体の製造方法において、非磁性基板１上に記録層４を形成する工程と、記録層４の上にＳｉを含むマスク層５を形成する工程と、マスク層５の表面を酸化する工程と、マスク層５の酸化された表面の上にレジスト層７を形成する工程と、レジスト層７をパターニングしてマスク層５に凹凸パターンを形成する工程と、マスク層５の凹凸パターンを用いて記録層４を磁気的に分離する工程と、マスク層５を除去する工程と、を有している。 （もっと読む）

【課題】 被転写基板上に形成される欠陥の発生を抑制できるナノインプリント方法を提供すること。
【解決手段】 ナノインプリント方法は、パターンを含むテンプレート１４に付着したパーティクル１５を除去する工程と、テンプレート１４を被転写基板１１ｄ，１２に押し付け、テンプレート１４の前記パターンを被転写基板１１ｄ，１２に転写する工程とを含むナノインプリント方法であって、パーティクル１５を除去する工程は、被転写基板１１ｄ，１２の表面よりもテンプレート１５に対する密着性が高い密着性部材１２にテンプレート１４を押し付ける工程と、密着性部材１２からテンプレート１４を離す工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】効率よくナノインプリント加工を行い得る方法およびその装置を提供する。
【解決手段】転写面に凹凸パターンを形成したモールドを用いて、光硬化型レジストを塗工した基板のレジスト面に所定のパターンを形成するインプリント方法であり、アライメント工程、プレス工程、ＵＶ照射工程、離型工程を少なくとも有し、前記各工程が、１つの工程をその中で実施する独立ユニット、複数の工程をその中で実施する複合ユニットあるいは独立ユニットと複合ユニットの組み合わせからなる複数のユニット内にて実施され、モールドと基板と対にしてユニット間を搬送する搬送工程を各ユニット間に設けてなるインプリント方法、及び前記インプリント方法のための装置であって、インプリント方法における各工程を１つの工程をその中で実施する独立ユニット、複数の工程をその中で実施する複合ユニットあるいはこれと独立ユニットの組み合わせからなる複数のユニットを備え、さらに、モールドと基板を搬送する手段を備えてなるインプリント装置。 （もっと読む）

【課題】反射膜厚変動が生じても信号特性の劣化の少ない光ディスクの実現。
【解決手段】原盤形成基板上に、記録レーザ波長の１７％未満の厚さの蓄熱層を形成し、さらに無機レジスト層を形成して露光前のディスク原盤を生成する。次にディスク原盤の無機レジスト層に対して、記録レーザ光照射によりピット及びスペースから成る記録信号パターンの露光を行い、露光後に現像処理を行ってピット及びスペースによるピット列形状が形成されたディスク原盤を生成する。そしてピット列形状が形成されたディスク原盤を用いて、ピット列形状が転写されたスタンパを製造する。そしてスタンパのピット列形状が転写され、かつピット列形状に対して銀もしくは銀合金による反射膜が形成された記録層を含む所定の層構造を有する光ディスクを製造する。この光ディスク（図２（ｂ））は、長ピットの深さが侵入光波長（λ／ｎ）の２０％以下とされ、また最短ピットとの深さの差は、侵入光波長の１／３０以下とされている。 （もっと読む）

【課題】凸状構造体の側面の傾斜角度を制御できる凸状構造体作製方法を提供する。
【解決手段】凸状構造体作製方法は、亜鉛の酸化物、亜鉛の硫化物、及び亜鉛のセレン化物の内の少なくとも１種を主成分とする第１材料と、シリコンの酸化物、シリコンの窒化物、アルミニウムの酸化物、アルミニウムの窒化物、錫の酸化物、錫の窒化物、ゲルマニウムの酸化物及びゲルマニウムの窒化物の内の少なくとも１種を主成分とする第２材料と、を混合した無機レジスト層を基板上に設ける工程と、無機レジスト層をレーザ光で露光して潜像を形成する工程と、無機レジスト層を現像して、潜像に応じて残る無機レジスト層に基板に達する開口部のパターンを形成する工程と、無機レジスト層の開口部を介して基板にドライエッチングを施して基板に潜像に応じた凸状構造体を形成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 ＤＥ／ＤＰ用マスク描画処理において要求される高い位置精度に対応可能な電子ビーム描画装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 描画モードとして、前記重ね合わせ露光用マスク描画モードを選択するモード選択手段と、この重ね合わせ露光モードが選択されると、描画パターンの登録時に、この重ね合わせ露光用マスク描画で使用される複数の基板のうち、同種の形状を有するものを選定する形状選定手段とを備えた電子ビーム描画装置を提供する。
（もっと読む）

【課題】ガラス基板に識別コードが付与される前でも、正しいガラス基板が露光機にセットされたかを判定できるようにする。
【解決手段】製造指示情報を保管する段階と、
製造ラインにガラス基板が投入されると、このガラス基板を識別する仮識別コードを発行する段階と、
製造ラインを構成する装置間でのガラス基板の移動に応じて、このガラス基板を識別する仮識別コードを装置間で引き継ぐ段階と、
前記製造ラインを構成する装置の一つである露光機にガラス基板がセットされると、このガラス基板を識別する仮識別コードを報告する段階と、
報告された仮識別コードを、製造指示書と照合し、照合の結果、正常ならば、この露光機に正しいガラス基板がセットされた判断し、他方、異常ならば、間違ったガラス基板がセットされたと判断する段階とを含むことを特徴とするマスク照合方法。 （もっと読む）