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Fターム[2H141MA02]の内容

機械的光制御・光スイッチ (28,541) | 制御パラメータ、機能 (2,947) | 強度 (843) | 連続的 (148)

Fターム[2H141MA02]に分類される特許

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【課題】従来よりも開口率を増加させることができる光制御装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】光通過部(8)を有する基板(2)と、基板に固定された櫛歯状の第1電極(3)と、第1電極と対向して移動可能に設けられた櫛歯状の第2電極(4)と、第2電極と共に移動し光通過部を遮蔽及び露出可能に設けられた遮蔽部材(5)と、第2電極及び遮蔽部材を移動可能に支持する梁部材(6,7)と、を備え、第1電極及び第2電極と、梁部材とが、基板上の異なる層(L1,L2)に設けられていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 内蔵する空間光変調器の所要の機能を所要期間に亘って安定的に発揮する空間光変調ユニット。
【解決手段】 光源からの光に基づいて被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニット(3)は、互いに並列的に配置されて、二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素を有する4つの空間光変調器(31,32,33,34)と、光源から入射した光を4つの空間光変調器のうちの少なくとも3つの空間光変調器へ選択的に導く選択導光部(35,36,37,38)とを備えている。 (もっと読む)


【課題】MEMSを基本にしたディスプレイデバイスを提供する。
【解決手段】MEMSを基本にしたディスプレイデバイスであり、インターフェロメトリックモジュレータアレイが透明基板を通じて光を反射させるように構成されている。該透明基板は、シールを介してバックプレートに取り付けられており、該バックプレートは、該インターフェロメトリックモジュレータアレイを制御するための電子回路を内蔵することができる。該バックプレートは、該ディスプレイの状態を制御するために使用することができるデバイス構成要素(例えば電子構成要素、等)に関する物理的支持物となることができる。さらに、該バックプレートは、該デバイスに関する構造上の主支持物として利用することもできる。 (もっと読む)


【課題】表示内容を簡単に入力して表示させることが可能で、取扱いが容易なシート状の表示デバイス、表示システム、及び、表示制御方法を提供する。
【解決手段】受光表示シート1は、可撓性を有するベースシート101に、外部から入射した光のファブリ・ペロー干渉による光干渉効果によって外光を反射する誘電体ミラー142と、ベースシート101に並べて配置され、周囲の電界に応じて変形することにより誘電体ミラー142の反射率を変化させる複数の駆動用ピエゾ素子140と、駆動用ピエゾ素子140の位置毎に所定波長の外光の受光状態を検出する受光検出部と、受光検出部により検出した受光状態に基づいて、駆動用ピエゾ素子140に電界を印加して変形させる制御部と、を備える。 (もっと読む)


【課題】ポートアレイに結合する迷光が低減された波長選択スイッチを提供する。
【解決手段】波長選択スイッチ100は、xy平面上にx軸に沿って並べて配置された入力ポート110aと出力ポート110bを含み、入力ポート110aからy軸に実質的に平行に光が射出されるポートアレイ110と、入力ポート110aから射出される光をz軸に平行な方向に分光する分光素子150と、分光素子150によって分光された光を結像する結像光学素子170と、結像光学素子170によって結像された光束を出力ポート110bに選択的に結合するミラーアレイ200とを有する。ミラーアレイ200は、二次元的に傾斜可能な可動ミラー222を含むミラー基板202を有し、ミラー基板202は、yz平面を横切って配置され、結像光学素子170に対向する表面の部分がzx平面に対してx軸に平行な軸の周りに傾斜角θを有するように配置されている。 (もっと読む)


【課題】 抗折強度の高いデバイスを得ることのできるレーザ加工装置を提供することである。
【解決手段】 レーザ加工装置のレーザビーム照射ユニットは、レーザビーム発生ユニットと、集光器と、レーザビーム発生ユニットが発生したレーザビームを集光器に導く光学系とを含んでいる。光学系は、レーザビーム発生ユニットが発生したレーザビームを第1のレーザビームと第2のレーザビームとに分岐する第1の偏光ビームスプリッタと、レーザビーム発生ユニットと第1の偏光ビームスプリッタとの間に挿入された1/2波長板と、第1の偏光ビームスプリッタを透過した第1のレーザビームを第2のレーザビームの光路と平行な光路に反射する第1のミラーと、第2のレーザビームを直角方向に反射する第2のミラーと、第1のミラーで反射された第1のレーザビームと第2のミラーで反射された第2のレーザビームが交差する位置に配置された第2の偏光ビームスプリッタとを含んでいる。 (もっと読む)


【課題】レーザ発振器から照射されるレーザ光を機械的に制御することで、レーザ光のプロファイルを制御したり出力を制御したりすること。
【解決手段】レーザシャッタユニット1は、レーザ発振器20から照射されたレーザ光Lを透過させる透過状態と、レーザ光Lを遮断する遮断状態とを切り替える。レーザシャッタユニット1は、レーザ発振器20から照射されたレーザ光Lの一部を反射可能な前方反射ミラー10aと、レーザ光Lの残部を反射可能な後方反射ミラー10bと、前方反射ミラー10aに設けられて前方反射ミラー10aを駆動する前方駆動部15aと、後方反射ミラー10bに設けられて後方反射ミラー10bを駆動する後方駆動部15bと、を備えている。前方駆動部15aの前方反射ミラー10aを駆動する速度は可変となり、後方駆動部15bの後方反射ミラー10bを駆動する速度は可変となっている。 (もっと読む)


【課題】 光を容易に制御することができ、応答特性がよく小型化が可能な半導体装置、及び該半導体装置を含む光電子集積装置を提供する。
【解決手段】 半導体装置を、横断面が円形でその中心軸方向に延びる形状を有し、その側面には所望の集積回路が形成されており、その端面には電極が形成されているものとする。また、この半導体装置と、横断面が円形でその中心軸方向に延びる形状を有し、温度の変化によって伸縮する、単一または複数の形状記憶合金と、光を透過可能な材料からなり、その横断面が円形でその中心軸方向に延びる形状を有し、該中心軸に沿って光ビームが伝搬可能なように該横断面の半径方向にその屈折率を異ならしめてなる単一または複数の光導波部材とを、ブイ溝またはピンを設けた基板上に配置して集積化し、半導体装置と形状記憶合金と光導波部材との組合せで光ビームを制御するようにする。 (もっと読む)


【課題】スペックルの影響を受けずに被処理体を処理することができ、かつ、被処理体上の加工点に供給されるエネルギーを一定の値に保つことができるレーザ照射装置およびレーザ照射方法を提供すること。
【解決手段】レーザ照射装置は、レーザ光Lを照射するレーザ発振器5と、シングルモードファイバ30からなり、可変な巻き数または曲率半径を有し、前記レーザ発振器5から照射されたレーザ光Lを伝送するファイバ30と、を備えている。レーザ照射装置は、レーザ光Lの強度を前記ファイバ30の巻き数または曲率半径に応じて制御する強度制御部10も備えている。 (もっと読む)


【課題】入出力ポートの切り替え時のクロストークを低減させることができる光スイッチを提供する。
【解決手段】遮光部10は、待避位置αに向かって出力されている出力光の光スポットを凸部12によって遮る。これにより、待避位置αに向かって出力光は、出力ポート111に向かって進行しない。このため、クロストークが生じるのを防ぐことができる。 (もっと読む)


【課題】温度等の周辺環境によらず、正確に一対の基板の対向する面の間隔を制御することのできるエタロン装置及びそれを備えた光学ユニットを提供する。
【解決手段】空間を隔てて対向するように配置された一対の基板2,3と、該一対の基板の対向する面の間隔を調整するために該一対の基板の少なくともいずれか一方を駆動させる駆動手段4とを備えたエタロン装置であって、前記一対の基板の対向する面の間隔を測定するための検出用面間隔測定手段5と、前記検出用面間隔測定手段の近傍に配置された参照用面間隔測定手段6と、周辺環境の変化により形状が変化しにくい材料を用いて形成されていて所定の間隔を測定するように前記参照用面間隔測定手段を保持する面間隔固定部材7とを備える。 (もっと読む)


【課題】複数の照射領域において、1画素に相当する距離を大幅に超える走査方向の位置ずれの補正を容易に実現する。
【解決手段】複数の光変調素子からの光がそれぞれ照射される基板上の複数の照射領域92a〜92cを、照射領域92a〜92cの配列に交差する走査方向に移動して描画を行う際に、1画素に相当する基板上の領域の走査方向の幅を単位幅として、基板上において複数の照射領域92a〜92cに対して相対的に固定された参照位置と各照射領域との間における走査方向の位置ずれ量と、単位幅のα倍(ただし、αは正の整数)との差が単位幅未満となる当該αだけ所定数から増減した数のダミー画素が、当該照射領域に対応する画素列の先頭に付加され、当該差が描画時に利用される位置補正シフト量として取得される。これにより、複数の照射領域において1画素に相当する距離を大幅に超える走査方向の位置ずれの補正が容易に実現される。 (もっと読む)


【課題】高開口率の光制御装置を提供する。
【解決手段】本発明の光制御装置は、基板と、前記基板に形成された光透過領域と、前記基板上で水平移動することで前記光透過領域に対して進退する複数の遮光板と、を有し、複数の前記遮光板のうち少なくとも2つの前記遮光板が、互いに異なる移動平面を有するとともに、前記光透過領域から後退した位置で少なくとも部分的に重なることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】複数の微小なミラーを用いて、光源からの光をマルチビーム化する技術において、マルチビーム化された各ビームの位相を簡易な構造で制御する。
【解決手段】パターンを描画する描画装置1に、複数の微小ミラーを備えた空間光変調デバイス2、各微小ミラーに与える開始信号によって各微小ミラーの偏向動作の開始タイミングを制御するミラー制御部、および、位相を反転させる平行平面板44を設ける。レーザ光を所定の周期Tで照射しつつ、各微小ミラーが偏向を開始するタイミングを個々のミラーごとにミラー制御部によって制御する。これにより各微小ミラーによって形成される各ビームの進行方向を制御して、正位相とするビームをアパーチャ45に導くとともに、逆位相とするビームのみをアパーチャ46および平行平面板44に導いて位相を反転させる。 (もっと読む)


【課題】プロジェクタをコストアップなしに光量制御装置する。
【解決手段】パルス生成部48と、光量を制御するタイミングで転送開始信号45を出力する光量制御用の演算処理部41と、その演算処理部41が予め各種信号を設定した(メモリ)データ47をメモリ43に記憶させておくデータ設定回路44と、演算処理部41の外部に配設され演算処理部41から出力される転送開始信号45によりアドレス設定するアドレス生成部42と、パルス生成部48を主要構成しアドレス生成部42の生成した(メモリ)アドレス46に基づいて(メモリ)データ47を出力するメモリ43と、そのメモリ43を用いたパルス生成部48と、メモリ43から出力された(メモリ)データ47が形成するパルス信号10〜30に応じて作動するアクチュエータと、光源の照射経路に介挿されたアクチュエータの動作に応じて透過光量を調整可能な開口と、を備えた。 (もっと読む)


【課題】可変絞りの開口径を小さくした場合の照明光の面内光強度分布の均一性の低下を抑え、照度ムラの少ない綺麗な投影像を得ることが可能な投影装置を提供する。
【解決手段】照明光を射出する照明光学系と、照明光学系からの照明光を変調し画像表示領域が長方形状のDMDと、開口形状を調整可能な可変絞りを有しDMDによる変調光を可変絞りを介して被投影面に投影する投影光学系と、を備えた投影装置において、照明光学系は、光源と、光源からの光を集光する集光光学系と、集光光学系からの光を面内強度分布の均一性を高めて射出し光軸に垂直な断面が長方形状のロッドインテグレータと、ロッドインテグレータからの光をDMDに導くリレー光学系と、を有し、ロッドインテグレータの射出面とDMDの画像表示領域は共役であり、可変絞りの小絞り時の開口形状は、DMDの画像表示領域の長辺方向に相当する方向に長い偏平な形状である。 (もっと読む)


【課題】駆動電圧を低減すること。
【解決手段】一端が支持側部2に支持される片持ち梁5と、片持ち梁5の内部に形成される光導波路15と、片持ち梁5に接合されるヒータ6とを備えている。ヒータ6は、電流が印加されることにより熱膨張する。片持ち梁5は、ヒータ6が熱膨張することにより、片持ち梁5の他端に対向するように配置される対向側光学装置3と光導波路15との間を伝わる光の量が変更するように、変形する。このような光機能集積デバイスは、静電気力により光導波路を変形する他の光機能集積デバイスに比較して、対向側光学装置3と光導波路15との間を伝わる光の量が変更するときに必要な駆動電圧を低減することができる。 (もっと読む)


眼科照明システムが、眼科用光プローブへの光ビームの伝送のために光ファイバ上に集束された、コリメートされた光ビームを含む。光減衰器が、コリメートビーム用の経路内に連続的に位置付けられた一対のアレイを含む。これらのアレイは、平行な状態でこの経路内において、この経路に直交しかつアレイの間にある、回転軸に関して可動である。各アレイは、一定の間隔を空けた複数の平行プレートを含み、一方のアレイの平行プレートは、他方のアレイのプレートと非平行である。
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【課題】低い電圧により駆動して表示が可能な表示素子を提供すること。
【解決手段】電圧の印加により互いの距離が変化するように設けられた一対の導電層11、31と、有色流体61が収容された光透過部41a、41bを有する容器41とを備え、一対の導電層11、31と容器41が、電圧の印加により導電層11、31間の距離が変化すると共に、光透過部41a、41bに存在する有色流体61の量が増減するように配置され、一対の導電層11、31は、絶縁材料からなる絶縁部51を介して部分的に近接し、かつ、絶縁部51における導電層11、31間の距離が50μm以下であることを特徴とする表示素子10。 (もっと読む)


【課題】角度制御トレランスが大きく、運用時の透過帯域特性の劣化が少ない波長多重伝送装置を提供することである。
【解決手段】立ち上げ時は、MEMSミラー15の角度を、固定減衰量でポートの配列方向に対して垂直方向に制御する。光信号のレベルがしきい値以上となったなら、MEMSミラー15の角度を、ポートの配列方向にフィードバック制御する。 (もっと読む)


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