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Fターム[2H147EA20]の内容

光集積回路 (45,729) | 導波路・基板・その他特徴部の材料 (9,968) | 主成分、ホスト材料 (9,122) | 有機材料 (4,239) | エポキシ (858)

Fターム[2H147EA20]に分類される特許

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【課題】 光−電気素子を光ルーティング基板上に高速に信頼性高く統合する装置及び方法を得ること。
【解決手段】 光電素子へ及びそこからの光信号の高精度なアライメントが可能になり、素子のデバイスへの信号遅延を減らすために素子への電気的な相互接続経路を短縮することが可能になる。一例では素子の各々を受け入れるために光ルーティング基板上に接続領域が設けられる。素子と光信号を通信する1以上のウエーブガイドが接続領域に隣接して設けられる。複数の導電性パッドは、接続領域内に設けられ、半田や導電性接着剤等の物質により素子と相互接続するためのものである。複数のスペーサが導電性パッド間に散在しており、そのスペーサは接続領域及び素子の対向する表面間の間隔距離を設定し、光信号の高精度なアライメントをもたらす。 (もっと読む)


【課題】透明樹脂が有する透明性等の種々の特性を損なうことなく低吸水率化されたものであり、屈折率制御が可能であり、光通信、光導波路、光記録、液晶ディスプレイ等の種々の用途に用いられる透明樹脂材料を提供する。
【解決手段】透明性をもつ成形物を形成する重合体を含有する透明樹脂材料であって、該透明樹脂材料は、フッ素原子を有する重合体及び/又は化合物を必須成分とし、フッ素原子の含有割合が成形物100質量%中に0.3〜35質量%となるものである透明樹脂材料。 (もっと読む)


基板(10)と1個以上の位相特徴とを備える光学素子構造(22)。位相特徴は、重合性バインダーと未硬化モノマーから形成されたポリマー複合材料からなる。位相特徴は、制御された位相プロファイル及び位相特徴に沿って制御された屈折率を有する。光学素子構造は、多モード導波デバイス、単一モード導波デバイス、光データ記憶デバイス、熱光学スイッチ、レンズ又はマイクロ電子機械システムとすることができる。
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【課題】光機能性を有し、最先端技術に付随する問題点の1以上を克服又は顕著に改善する、デバイスを形成するための改良された方法を提供する。
【解決手段】光機能性を有するデバイスの形成方法が提供される。この方法には、基体上にクラッド層及びコアを提供することによって、基体上に光導波路を形成することが含まれる。このクラッド層には、式(RSiO1.5)(式中、Rは、置換された又は置換されていない有機基である)の単位を有するポリマーと、光活性成分とを含有している。クラッド層の一部はフォトリソグラフィー的にパターン形成される。光機能性を有するプリント配線板の形成方法も提供される。本発明は、光電子デバイスを形成するための電子工業における特別の応用性を有する。 (もっと読む)


【課題】 複数の筐体を機構的に接続した構成を持つ携帯機器において、各筐体間の接続部分の厚みを薄くした、携帯性に優れた携帯機器を提供する。
【解決手段】 複数の筐体を機構的に接続した構成を持つ携帯機器において、各筐体間の接続部分の厚みを薄くした、携帯性に優れた携帯機器を提供する。第1の筐体と、第1の筐体に設けられた第1のボードと、第2の筐体と、第2の筐体に設けられた第2のボードと、第1の筐体と第2の筐体とを互いの相対的な位置を可変に接続する連結部と、第1のボードと第2のボードとを光配線により接続するための少なくとも1個の光導波路を持つ光導波路フィルムとを備える。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板と一体化して使用できるマルチモード導波路を実用化可能にするため、プリント配線板の製造プロセスに導入しやすい加工温度のエポキシ樹脂フィルムであって、プリント配線材料に最終的に電子部品や光素子を実装する工程の温度に耐えられる耐熱性があり、かつ、光導波路として低損失なエポキシ樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールに1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサンを付加して得られるエポキシ樹脂Aと、スチレンもしくはシクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートもしくはアダマンチルメチル(メタ)アクリレートの少くとも1種とエポキシ化シクロヘキシルメチル(メタ)アクリレートとを共重合して得られる共重合体ポリマーBと、カチオン重合開始剤とを含有する樹脂組成物をフィルム状に形成する。 (もっと読む)


【課題】 群速度を向上させ、伝搬損失を少なくした単一モード伝搬を可能とするスラブ型2次元フォトニック結晶導波路を提供する。
【解決手段】
スラブ型2次元フォトニック結晶の格子の一部を導波方向に直線状に除き欠陥構造としたスラブ型2次元フォトニック結晶導波路において、前記欠陥構造における欠陥部分の両側の格子間の幅である第1の幅を、前記スラブ型2次元フォトニック結晶の格子の1列を除いただけの通常の欠陥構造における欠陥部分の両側の格子間の幅である第2の幅より広くし、前記欠陥部分の第1の幅は、前記スラブ型2次元フォトニック結晶導波路がクラッドのライトラインより高周波側で単一モードを有する幅とする。 (もっと読む)


無機構造を製造するための方法であって、(a)光反応性組成物を基材に付与する工程であって、組成物が、反応種と、光開始剤系と、複数の実質的に無機のコロイド粒子であって、粒子の平均粒度が約300nm未満であるコロイド粒子とを含む、工程と、(b)組成物をフォトパターニングして、構造を規定する工程と、(c)反応種を熱分解し、かつ粒子を少なくとも部分的に溶融するのに十分な時間、構造を高温に曝す工程とを含む方法。 (もっと読む)


【課題】 光路変換部の形成位置等の設計自由度が高く、且つ漏光及び散乱損失の発生が抑制された光導波路デバイス及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本光導波路デバイスの製造方法は、基部3と、基部3上に配置された下部クラッド部21と、下部クラッド部21上に積層され且つ光を伝搬するコア部1と、コア部1上に配置された上部クラッド部22と、基部3上に形成されており且つコア部を伝搬した光の光路を変換する光路変換部41、42と、を備える光導波路デバイス100を製造する方法であり、上記基部3と、基部3上に形成された上記下部クラッド部21及び上記光路変換部41、42と、を備える積層体上に、コア部形成用未硬化フィルムを配設するコア部形成用未硬化フィルム配設工程と、上記コア部1を形成するコア部形成工程と、上記上部クラッド部22を形成する上部クラッド部形成工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】導波路および光レンズを含む光伝送構造を提供する。
【解決手段】光伝送構造は、導波路および光レンズを含み、光レンズは、動作表面上に形成され、動作表面と同一表面上にある平面内で光線が伝搬するように伝送された光線をコリメートする湾曲されたフロントレンズ表面の形成を許す充分に大きな厚さを有する。本発明はまた光伝送構造を製造する技術にも関し、これはフォトポリマー材料の使用を伴う。光伝送構造は、光データ入力のためのシステムのようなさまざまなシステムにおいて実現されえる。 (もっと読む)


【課題】作るのが安価で簡単であり、光学的に透明な材料ででき、タッチスクリーンディスプレイと共に用いるための光のグリッドまたはラミナを発生するのに用いられえるモールドされた導波路を提供する。
【解決手段】モールドされた導波路基板は、複数のレンズ、および一体化されたレンズにそれぞれ対応する複数の導波路グルーブを含む。基板がモールドされた後、グルーブは、光学的に透明な材料で充填されることによって、複数のレンズおよび複数のグルーブをそれぞれ光学的に結合し、アラインさせる。ある応用例では、モールドされた導波路基板は、タッチスクリーンデバイスに近接して配置される。発光器および画像化デバイスは、モールドされた導波路基板に光学的に結合され、処理デバイスは画像化デバイスに結合される。この処理デバイスは、データエントリがタッチスクリーンデバイスになされるとき、タッチスクリーンデバイスに近接する自由空間中に作られる光における遮断の座標を解読することによってタッチスクリーンへのデータエントリを決定するよう構成される。 (もっと読む)


【課題】導波路および光レンズを含む光伝送構造を提供する。
【解決手段】光伝送構造は、導波路および光レンズを含み、光レンズは、動作表面上に形成され、動作表面と同一表面上にある平面内で光線が伝搬するように伝送された光線をコリメートする湾曲されたフロントレンズ表面の形成を許す充分に大きな厚さを有する。本発明はまた光伝送構造を製造する技術にも関し、これはフォトポリマー材料の使用を伴う。光伝送構造は、光データ入力のためのシステムのようなさまざまなシステムにおいて実現されえる。 (もっと読む)


分子中に酸無水基及び/又は酸基がブロック化されてなる酸性基とラジカル重合性不飽和基を有するラジカル重合性化合物(a)と、それ以外のラジカル重合性化合物(b)との共重合体(A)、重合性不飽和化合物(B)、及び重合開始剤(C)を必須成分として含有することを特徴とする光導波路用硬化性樹脂組成物;この組成物からなる光導波路用硬化性ドライフィルム;及び、これらを用いて、下部クラッド層13、コア部分15及び上部クラッド層17の少なくとも一つが形成されて成る光導波路が開示される。 (もっと読む)


本方法は、(a)(1)少なくとも1種類のカチオン反応性種と、(2)多光子光開始剤系と、(3)複数の予備縮合した無機のナノ微粒子とを含む実質的に無機の光反応性組成物を提供する工程と、(b)少なくとも3本のビームを含むマルチビーム干渉技術を用いて、光反応性組成物の少なくとも一部に適切な波長、空間分布および強度の放射線を露光して、光反応性組成物の反応済みおよび未反応部分の二次元または三次元の周期パターンを生成する工程と、(c)光反応性組成物の未反応部分の少なくとも一部に適切な波長および強度の放射線を露光して、多光子吸収および光反応を生じさせて、追加の反応済み部分を形成する工程と、(d)光反応性組成物の未反応部分または反応済み部分を除去して間隙ボイドスペースを形成する工程と、(e)間隙ボイドスペースを、残りの部分の屈折率とは異なる屈折率を有する少なくとも1種類の材料で少なくとも部分的に充填する工程とを含む。 (もっと読む)


光導波路および埋め込まれた光電子エレメントを備えるプリント回路基板エレメントを開示する。

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フォトニック結晶を製造する方法は、(a)実質的に無機の光反応性組成物を提供する工程と、(b)少なくとも3本のビームを含むマルチビーム干渉技術を用いて、光反応性組成物の少なくとも一部に、適切な波長、空間分布および強度の放射線を露光して、光反応性組成物の反応済みおよび未反応部分の二次元または三次元周期パターンを形成する工程と、(c)光反応性組成物の未反応部分または反応済み部分を除去して間隙ボイドスペースを形成する工程とを含む。 (もっと読む)


要約
本発明は、導波路構造、並びにコア領域およびその横に隣接するクラッド領域からなる当該構造を形成するための方法を提供する。本発明の実施例の導波路構造は、コア領域がその横に隣接するクラッド領域およびクラッド層によって共同的に取り囲まれている。そのような構造を形成するための方法も提供する。

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1つの導波路(116)形成方法は、メチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート及びエポキシモノマーを含む光画成可能なコポリマー材料(14)を堆積させ、コポリマー材料に対して光学素子(10、12)を固定し、少なくとも一方の光学素子及びコポリマー材料を通して他方の光学素子に向けて光を送り、未硬化モノマーを揮発させることを含んでなる。別の導波路(116)形成方法は、光学表面(11、13)をそれぞれに有する光学素子(110、112)を相互に固定し、十分な表面張力を有するコポリマーブロブ(114)を光学表面上に配置して湾曲面を有するコポリマーブロブを生み出し、各々の光学素子を通して湾曲面及び他方の光学素子に向けて光を送り、未硬化モノマーを揮発させることを含んでなる。光路形成方法は、光学表面(71、77)をそれぞれに有する光学素子(70、76)を相互に固定し、一方の光学素子から他方の光学素子に光を最適に導くように位置合せされるまで鏡(78)を並進及び回転させ、位置合せされた鏡をその位置に確保することを含んでなる。 (もっと読む)


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