【課題】基板とポリマー層との密着性を向上させることが可能な有機デバイスを実現する。
【解決手段】本発明の有機デバイスは、ポリマーからなる基板１を備え、基板１上にポリマー層２が接着された構成になっている。本発明の有機デバイスでは、基板１におけるポリマー層２との接着面１ａの結晶化度が、基板１における内部の結晶化度よりも小さくなっているので、基板１とポリマー層２との密着性を向上させることが可能になる。 （もっと読む）

【課題】不具合箇所の特定が容易な光電子回路基板を提供する。
【解決手段】光電子回路基板１は、検査用開口１４を有する第１の基板１０と、第１の基板１０と第２の基板１１との間に設けられた光導波路１３とを有し、光導波路１３の湾曲部１３ａが第２の基板１１に設けた突部１７によって検査用開口１４側に湾曲した湾曲部１３ａを有し、湾曲部１３ａにコア１３１がクラッド１３２から露出するようにコア露出面１３４が形成されている。コア露出面１３４に対して検査光を入出力することにより、不具合箇所が発光素子アレイ１２０か、受光素子アレイ１２１か、発光素子アレイ１２０側の光路変換面３３Ａか、受光素子アレイ１２１側の光路変換面１３３Ｂかが分かる。 （もっと読む）

【課題】実装用電極がクラッド用樹脂で覆われるのを抑制できるようにした光電気変換装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】光信号を伝搬する導波路３１の周辺に、部品実装のための実装用電極３６を形成した基板３を備えた光電気変換装置１であって、前記基板３の導波路形成用溝３２の周辺に、硬化前の液状クラッド用樹脂３１ｂ´を弾く樹脂材３５をコーティングした。これにより、コーティング樹脂材３５が液状クラッド用樹脂３１ｂ´の流動を阻止するので、実装用電極３６がクラッド用樹脂３１ｂ´で覆われるのを抑制できるようになる。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性に優れるとともに吸水性が低く、光伝播の損失を低減できる光素子実装部品、光素子の搭載において位置あわせ精度良好な光素子実装用部品を提供する。
【解決手段】 電極を有する光素子を搭載するパッドを有する配線部品と、電極を有する光素子を搭載するための搭載部と前記搭載部にパッドとを有する配線部品の一方の面側に積層され、コア部と、該コア部より屈折率が低いクラッド部とを備えるコア層と、該コア層の少なくとも一方の面に接触して設けられ、前記コア部より屈折率の低いクラッド層とを有する光導波路層より構成された光回路基板と、を含んで構成され、前記光回路基板は、前記光素子の電極と前記配線部品のパッドとの電気導通をはかるためのレセプター構造部を備え、前記クラッド層は、ノルボルネン系ポリマーを主材料として構成されている、光素子実装用部品。 （もっと読む）

【課題】極めて扱いやすく、高濃度で均一な添加元素の添加が可能で、しかも段差被覆性が良好で高速合成時においても透明な膜の製造が可能な石英系ガラス用原料および石英系ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】珪素を含む有機化合物、または、硼素、リン、ゲルマニウムのうちから選ばれた少なくとも一種類の元素を含む有機化合物を、テトラヒドロフランを含む有機溶剤に溶解させた石英系ガラス用原料を、液体原料タンク２〜５から気化装置８で気化させて原料ガスとし、該原料ガスに反応ガスを混合してＣＶＤ反応炉１１で化学反応により基体１４上に石英系ガラスを堆積させる。 （もっと読む）

【課題】屈折率制御を容易に且つ高精度で行い、効率良く光導波路を作製することのできる、新しい光導波路作製方法を提供する。
【解決手段】下部クラッド上にＳｉＮ層を成膜し、該ＳｉＮ層上に、作製すべき光導波路コアの平面形状と同じ形状の紫外線不透過領域を持ち、それ以外の領域は紫外線透過領域となっている露光マスクを通して、紫外線を照射する、ことを特徴とする光導波路作製方法。 （もっと読む）

【課題】近年、光分岐結合回路やアドドロップ回路など多くの機能を備える多機能プレーナ光波回路が開発されている。このような多機能プレーナ光波回路では、光信号の光強度を多機能プレーナ光波回路中の導波路から直接モニタしなければならないこともある。しかし、従来の技術ではプレーナ光波回路中の導波路の任意の位置で光信号の光強度を直接モニタすることができないという課題があった。
【解決手段】本願第一の発明に係るモニタ用光学素子はプレーナ光波回路の導波路に誘電体多層反射膜を挿入して、プレーナ光波回路の導波路から直接光信号を取り出し、光強度を測定することとした。 （もっと読む）

【課題】ガラスの表面または内部に対し微細なパターンを高精度で効率良く、低コストで形成する。
【解決手段】特定のガラス形成酸化物と、アルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移元素及び希土類元素から選ばれる少なくとも１種とを含有するガラス母体に、チタン、鉄、ニッケル、コバルト、マンガン、バナジウム、銅から選ばれる少なくとも１種を添加してなるガラスの表面または内部に、局所的な異質層を形成した後、エッチング剤と接触させて前記異質層または該異質層の周囲部分を除去することを特徴とするガラス材料の加工法。 （もっと読む）

本発明による光結晶の製造方法は、低屈折率物質からなる周期的な3次元構造を有する型板の露出された部位に高屈折率の物質を均一にコーティングし、これに隣接する空気との屈折率または誘電率の差異をさらに大きくすることで、優れた特性の光バンドギャップを有する3次元構造の光結晶を形成する。この際、前記3次元構造体はレイヤー・バイ・レイヤー法によって形成されることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、均一性の高い大表面積の3次元フォトニック結晶の製造方法を提供することである。
【解決手段】
本発明の3次元フォトニック結晶の製造方法は、微粒子を構成単位とする3次元フォトニック結晶の製造方法であって、窪みを有するテンプレート基板（Q）に、微粒子スラリーを供給して、窪みの形状に従った微粒子集積体を有する層（A）を形成し、さらに層（A）の上部に連続的な微粒子集積体層（A'）を形成することを特徴とする。
テンプレート基板（Q）に形成される窪みは、表面が（100）面又は（110面）であるシリコン基板を異方性エッチングすることにより作製される（111）面を表面に持つV字窪みであることが好ましく、その窪みの間隔が、0又は構成単位である微粒子の直径の整数倍であればさらに好ましい。 （もっと読む）

【課題】 衝撃固化現象による成形体に形成された導波路を有する光学素子及びその光学素子を含む光集積デバイスを提供する。
【解決手段】 基板上に供給した超微粒子脆性材料に機械的衝撃力を負荷して前記超微粒子脆性材料を接合させて形成した成形体の光吸収端を、局所加熱により制御し、導波路を形成する。 （もっと読む）

【課題】光学手段の反射又は透過のための端面における散乱損失を低減するとともに、この端面を容易且つ低コストに作成することである。
【解決手段】光学装置としての光導波路ケーブル２は、光導波路としてのコア層２３１，２３２と、コア層２３１，２３２を覆うクラッド層２１，２２と、を光学手段として備え、コア層２３１，２３２及びクラッド層２１，２２は、光を反射するための加工面としてのダイシング面２４１を有し、ダイシング面２４１上に平滑化膜２４２を備える。 （もっと読む）

【課題】平坦性が良好で小型・高密度の多層光導波路を提供すること。
【解決手段】複数のコアと、該コアを囲んで形成されるクラッドとから構成され、かつ、平面方向コア中心間距離（コアピッチ）が６２．５μｍ以上５００μｍ以下である光導波路が、２層以上積層された多層光導波路であって、厚み方向コア間距離（上層コアの下面と下層コアの上面間距離）が８μｍ以上２５μｍ以下、かつ、該厚み方向コア間距離の最大値と最小値の差が５μｍ以下である多層光導波路である。 （もっと読む）

【課題】基板表面にセラミック超微粒子の規則配列単粒子膜を形成する。
【解決手段】セラミック超微粒子膜を形成する基板の表面電位を、セラミック超微粒子分散溶液のゼータ電位とは逆極性でセラミック超微粒子分散溶液中のセラミック粒子と共有結合可能な電位に制御するために、基板を少なくとも２種類の有機化合物溶液中に浸漬するか、または、基板を有機化合物溶液中に浸漬した後、基板に紫外光を照射する。 （もっと読む）

【課題】光デバイスの製造等に有用な新規材料の提供。
【解決手段】有機フォトクロミック化合物を用いて物体表面に所定の立体構造を構築する方法において、前記有機フォトクロミック化合物として、第一の光の照射により、第一のガラス転移温度を有する第一状態に変化する一方、前記第一の光の波長とは異なる第二の光の照射により、前記第一のガラス転移温度よりも低い第二のガラス転移温度を有する第二状態に変化する有機フォトクロミック化合物を選択すると共に、前記有機フォトクロミック化合物を前記物体表面に適用した後、前記第一のガラス転移温度よりも低く前記第二のガラス転移温度と同程度かより高い温度下で、前記有機フォトクロミック化合物を適用した部位の内、所望領域に前記第二の光を照射し、当該部位を平坦化する工程、を含むことを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で、高密度に光半導体素子を実装可能な光配線基板および光配線モジュールを提供する。
【解決手段】 光配線モジュール１を構成する光導波路部材２は、互いに異なる位置へ光を導く複数の光導波体４０を有し、各光導波体４０は、光路変換する反射膜１４を有し、各反射膜１４は、隣接する反射膜１４と、交差方向Ｍおよび光路方向Ｌに互いに間隔をあけて設けられるので、各反射膜１４間の距離を、交差方向Ｍおよび光路方向Ｌに沿う距離よりも大きくすることができ、長手方向Ｘおよび幅方向Ｙへ、各反射膜１４を用いるために光配線基板２Ａに実装される光半導体素子３を複数配列した場合であっても、光路方向Ｌと配列する方向とが異なるので、各光導波体４０が重複することなく、光配線基板２Ａの実装可能な面部の領域を有効に用いることができ、光半導体素子３を密に配列して、光配線基板２Ａを小形化することができる。 （もっと読む）

【課題】２層の絶縁体層に挟まれた半導体層に肉厚部、例えば光導波路を形成する場合に、表面側の半導体層に形成される電気デバイスの設計を容易とする。
【解決手段】二重ＳＯＩ基板１０は、表面側から順に、シリコン層１５、絶縁膜（シリコン酸化膜）１４、シリコン層１３、絶縁膜１２を有する。上層絶縁膜１４の深さ分布を均一とし、下層絶縁膜１２の深さ分布を不均一とし、シリコン層１３に、所定の経路に沿った肉厚部を形成する。Ｓｉの屈折率は３．５であり、ＳｉＯ₂の屈折率は１．５である。シリコン層１３の肉厚部はコアとなり、この肉厚部に対応した絶縁膜１２，１４はクラッドとなり、所定の経路に沿った光導波路１６が形成される。表面側のシリコン層１５の厚さは一様であり、シリコン層１３の各部に作製されるＭＯＳデバイスの特性を容易に一致させることができ、電気デバイス全体としての設計が容易となる。 （もっと読む）

【課題】分岐部に、光導波路の伝搬効率に悪影響を及ぼす気泡のない樹脂製光導波路デバイス及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】下部クラッド層を備えた基板上に、第１の樹脂膜を形成する第１の工程と、前記第１の樹脂膜を光導波路形状にパターニングしてコア層を形成する第２の工程と、前記下部クラッド層及び前記コア層表面に、第２の樹脂膜の材料溶液を、乾燥膜厚が、下部クラッド層上面からコア層の厚みの３〜１０倍となるようにスピンコート法により塗布、乾燥して第２の樹脂膜を形成する第３の工程と、前記第２の樹脂膜を、下部クラッド層の上面から前記コア層の厚みの３倍未満となるように除去して、第２の樹脂膜を上部クラッド層とする第４の工程とを有し、前記第３の工程において、第２の樹脂膜の材料溶液の溶媒の蒸発速度を抑制する手段を設けたことを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高い屈曲性や強靭性を有し、しかも生産性に優れるフレキシブル光導波路及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】１つのコア層形成用樹脂フィルムと、２つのクラッド層形成用樹脂フィルムを用いて作製されるフレキシブル光導波路であって、クラッド層形成用樹脂フィルムの少なくとも１つがクラッド層形成用樹脂と基材フィルムから構成され、該基材フィルムがコア層に対してクラッド層の外側に配置されることを特徴とするフレキシブル光導波路及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】微視的な領域で配向を任意に変えた光学素子を提供すること。
【解決手段】光学素子が、基板(1)又は２つの間隔をおいた基板からなるセルと、基板上の１つまたはそれ以上の配向層(2)と、架橋した液晶モノマー又はオリゴマーの１つまたはそれ以上の異方性層(3)とを有する。液晶層に隣接する配向層の表面は、局所の規定された平行な又は扇状のライン構造のある配向パターン(4,5)を有する。ライン間の平均間隔は、液晶層の厚さより大きくなく、隣接するライン間の角度を３°より大きくない。 （もっと読む）