【課題】Ｓｉベースのフォトニクスプラットフォーム上で、フォトニックデバイス、Ｇｅ導波路一体型光検出器、およびハイブリッドＩＩＩ−Ｖ／Ｓｉレーザの共集積化のための方法を提供する。
【解決手段】パターン化したＳｉ導波路構造を含むＳｉデバイスを備えたＳｉベースのフォトニクス基板を用意する工程、誘電体層、例えば、ＳｉＯ_２層を、平坦化したＳｉベースのフォトニクス基板の上部に堆積する工程、適切なエッチング深さで溝を誘電体層にエッチング形成して、フォトニクス基板のパターン化したＳｉ導波路構造を露出させる工程、露出した導波路を選択エッチングして、Ｇｅ成長用のテンプレートを作成し、薄いＳｉ層をＧｅ成長用のシード層として残す工程、意図的なＧｅ過成長を伴って、シード層からＧｅを選択成長させる工程、Ｇｅ表面を平坦化し、１００ｎｍ〜５００ｎｍの減少した厚さを持つＧｅ層を残す工程を含む。 （もっと読む）

【課題】光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、寸法安定性の良い硬い基板によらずとも光ファイバの位置ずれがしにくい光ファイバコネクタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１上に、光ファイバを固定するための光ファイバ導入溝を有する光ファイバガイド用コアパターン５から構成される光ファイバガイド部材１０と、光信号伝達用コアパターン４とその上に形成された上部クラッド層６とから構成される光導波路２０とが並設され、前記光ファイバガイド用コアパターン５と前記光信号伝達用コアパターン４とが、基板の一方表面上に形成された同一の下部クラッド層３上に形成され、かつ前記光ファイバガイド部材１０の光ファイバ導入溝に固定された光ファイバと、前記光導波路の光信号伝達用コアパターン４とが、光信号を送受可能な位置に接合されてなる。 （もっと読む）

【課題】複数の光導波路を一度に製造する場合において、オーバークラッド層の上面が平坦な光導波路を、生産性よく製造することができる光導波路の製法を提供する。
【解決手段】基板Ａ上を複数の光導波路Ｗに対応する領域に区画し、その領域ごとに、アンダークラッド層１を形成するとともに、隣接し合うアンダークラッド層１の間に、そのアンダークラッド層１と隙間をあけて、ダミーアンダークラッド層Ｄを形成する。ついで、アンダークラッド層１およびダミーアンダークラッド層Ｄの上面にコア２を形成した後、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を一面に塗布する。そして、複数の光導波路Ｗに対応する、感光性樹脂層３ａの部分を選択的に露光し、その露光部分をオーバークラッド層３に形成することにより、アンダークラッド層１とコア２とオーバークラッド層３とからなる複数の光導波路Ｗを形成し、それらを基板Ａから剥離する。 （もっと読む）

【課題】 リブ型光導波路デバイス及びその製造方法に関し、光導波路における光閉じ込め効果を減少させることなく、単結晶コアの側面ラフネスを低減する。
【解決手段】 ＳｉＯ_２からなる下部クラッド層と、前記下部クラッド上に設けられたＳｉ_１−ｘＧｅ_ｘ（但し、０≦ｘ≦０．３）からなる単結晶コアと、前記単結晶コアの側面に拡散防止膜を介して設けられた屈折率緩和層と、前記単結晶コアの上面と前記拡散防止膜及び屈折率緩和層の露出面を覆うＳｉＯ_２からなる下部クラッド層とを有する光導波路を備え、前記屈折率緩和層の屈折率を、前記単結晶コアの屈折率より小さく且つ前記上部クラッド層の屈折率より大きくする。 （もっと読む）

【課題】使用する光信号の波長制約が少なく、かつ光ファイバと光導波路コアとの位置合わせが容易で、光ファイバの位置ずれ・ピッチずれがしにくく、光学素子の実装が容易であり、かつ基板の大きさの制限を受けずに光路変換ミラーを備えられる光ファイバ配線板及び光ファイバ電気配線複合基板を提供する。
【解決手段】本発明の光ファイバ配線板は、光ファイバを固定するための溝を有する光ファイバガイド部材と、クラッド層及びコアパターンを有する光導波路とが、該溝に固定された光ファイバと光信号を送受可能な位置に並設されてなる光ファイバコネクタと、前記溝に固定された光ファイバとが、第１基板上に具備されてなる。 （もっと読む）

【課題】コアパターン層の平坦性に優れ、光伝搬損失を低損失化すると共に、光伝搬損失のばらつきが少ない光導波路を有する光電気複合基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１下部クラッド層、そこに埋め込まれた配線パターン、コアパターン及び上部クラッド層を有する光電気複合基板の製造方法であって、（Ａ）支持体上に第１下部クラッド層を形成し、パターニングする工程と、（Ｂ）第１下部クラッド層のパターン形状の開口部に配線パターンを形成する工程と、（Ｃ）第１下部クラッド層上にコアパターンを形成する工程と、（Ｄ）コアパターンを覆うように上部クラッド層を形成する工程と、（Ｅ）支持体を除去して配線パターンを露出させる工程とを有する光電気複合基板の製造方法、並びに該方法によって製造された光電気複合基板。 （もっと読む）

【課題】容易かつ精度の高い微細加工が可能である光導波路素子の製造方法を提供する。
【解決手段】先端１２ｃを有するテーパ部１２を有するコア４を備えた光導波路素子を製造する方法であって、コア４の材料からなるコア層１４を形成するコア層形成工程と、コア層１４に接する補助層１８を形成する補助層形成工程と、コア層１４にテーパ部１２を形成しコア４を得るテーパ部形成工程とを含む。コア層形成工程は、テーパ部１２の先端１２ｃを含む第１側面領域１６ａを形成する工程である。補助層形成工程は、第１側面領域１６ａに接して、コア４とは異なる材料からなる補助層１８を形成する工程である。テーパ部形成工程は、コア層１４に対し、補助層１８と同時にエッチングを施すことによって、テーパ部１２の先端１２ｃを含む第２側面領域１２ｂを形成する。 （もっと読む）

【課題】光導波路用形成材料およびそれを用いた光導波路を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂を主成分とし、ホウ素系光酸発生剤を上記エポキシ樹脂１００重量部に対して５重量部以上含有する光導波路用形成材料である。そして、基板１と、その基板１上に形成されたクラッド層２とを備え、上記クラッド層２中に所定パターンで、光信号を伝搬するコア部３が形成されてなる光導波路において、上記クラッド層２およびコア部３の少なくとも一方が、上記光導波路用形成材料によって形成されている。 （もっと読む）

【課題】検出感度が高く、小型な光導波路型センサ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に光導波路が形成された光導波路型センサであって、光導波路は、基板の一面上において渦巻状に延設されたコアと、基板の一面上におけるコアと同一層において、コアを挟むようにコアの両側面に接して形成された横クラッドを含んでいる。そして、コアの上面及び下面のうち、少なくとも上面の一部が、光がしみだして被検出対象に吸収される伝播面となっている。 （もっと読む）

【課題】コアとクラッドとの界面に荒れを生じさせることなく、かつ容易に作製しうるステップインデックス型光導波路およびその作製方法を提供することを主な目的とする。
【解決手段】コア部とクラッド部を有する光導波路において、コア部が、クラッド部を構成する母体ポリマー材料に下記の特性を有する化合物の気体分子を浸透させた複合体により構成されていることを特徴とする光導波路：
(i)気化性を有している、
(ii)母体ポリマーよりも屈折率が高い、
(iii)光の伝搬波長において透明である。 （もっと読む）

【課題】機能的な光学コンポーネントを有するシリコン光学ベンチを提供する。
【解決手段】シリコン光学ベンチに光路となるトレンチ５０１−５０３を形成し、その間に機能的なコーテイング１２８が形成された光学コンポーネント１０１−１０３を配置する。光学コンポーネントは、アーム-取付部分および下部を含む光学路部、アーム-取付部分の第１の端部から伸びる第1のアーム１４１と、アーム-取付部分の第２の端部から伸びる第２のアーム１４２を含む。第1のアームは、少なくとも一つのレスティング特徴を有し、第２のアームは少なくとも一つのレスティング特徴を有する。光学路部は、入力表面を有する。第1のアームおよび第２のアームのレスティング特徴が、トレンチシステムのトレンチの短い端で頂部表面に配置されるときに、光学路部はトレンチに垂直に整列配置される。 （もっと読む）

【課題】光の損失を十分に抑制することが可能なミラー面が形成されたコア部を備えるミラー付き光導波路を効率よく製造することが可能なミラー付き光導波路の製造方法を提供すること。
【解決手段】樹脂成分を含有してなる光を伝送するためのコア部を備える光導波路の前記コア部の一部に、開口部を有するマスクを介してレーザービームを照射して、前記コア部の一部の前記樹脂成分を飛散させることによって、前記コア部を伝送する光の伝送方向に対して傾斜したミラー面を前記コア部に形成するミラー付き光導波路の製造方法であって、前記コア部のレーザービームが照射されるべき面の長手方向の略中心軸から該面の幅方向に離れるほど前記レーザービームの照射時間が短くなるように前記レーザービームを照射することを特徴とするミラー付き光導波路の製造方法。 （もっと読む）

【課題】コアまたはクラッドの上層にさらにクラッドを形成する場合において、上層のクラッドの厚みを高精度に制御して、クラッドを平坦化できる積層光回路の製造方法を提供する。
【解決手段】クラッド上に形成されたコアの直上に金属マスクを形成する金属マスク形成工程１０１と、コア及び金属マスクをクラッドで埋め込むクラッド埋込工程１０２と、金属マスクが露出するまでクラッドを研磨して平坦化する研磨工程１０３と、露出した金属マスクを除去する金属マスク除去工程１０４と、平坦化したクラッドとコアとの段差の距離を計測する距離計測工程１０５と、平坦化したクラッド上及び金属マスク除去後のコア上に、段差の距離及びコアと次層のコアとの間の所望の距離に応じた厚さのクラッドを形成し、熱処理によってクラッドを一体成型することにより段差を平坦化する平坦化行程１０６とを含む。 （もっと読む）

【課題】リッジ型光導波路波長変換素子のレーザー光入射面の面垂れやクラックを無くす。
【解決手段】少なくとも、周期分極反転ストライプに直交する溝を形成してリッジを形成する工程と、基板を複数の光導波路波長変換素子チップを含むブロックに切断する工程と、ブロックのリッジ面にホットメルトワックスを供給する工程と、ブロックのリッジ面にダミー基板を搭載する工程と、ブロックとダミー基板を加圧しながらホットメルトワックスを溶かす工程と、ブロックとダミー基板を加圧しながら冷却する工程と、リッジ端面を研削する工程と、リッジ端面を研磨する工程と、ダミー基板を剥離する工程と、ブロックを単個の光導波路波長変換素子チップに分割する工程とを具備する光導波路波長変換素子の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】光電気フレキシブル配線板の製造工程中のそりの低減が図れると共に、製造工程で光導波路形成面の異物混入や異物によるフレキシブル配線板表面の凹凸が低減され、耐屈曲、耐スライド性や光伝搬損失の品質向上が図れる光電気フレキシブル配線板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、フレキシブル配線板の光導波路形成面に前記フレキシブル配線板表面を保護するための保護層を有するフレキシブル配線板において、前記保護層を有する面と反対の面に支持体を接合する工程Ａ、前記保護層を除去する工程Ｂこの順に有する光電気フレキシブル配線板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】低光損失な光導波路を低コストで提供する。
【解決手段】溝を有するアンダークラッドを射出成型により形成する射出成型工程と、前記溝の内部の表面を覆うようにクラッド材料を塗布する塗布工程と、前記クラッド材料が硬化した後、前記溝内に前記クラッド材料よりも屈折率の高い材料からなるコア材料を塗布することによりコアを形成するコア形成工程と、前記コア材料が硬化した後、前記コアを覆うように前記クラッド材料と同じ屈折率の材料からなるオーバークラッドを形成するオーバークラッド形成工程と、を有することを特徴とする光導波路の形成方法を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】アンダーフィル５がフィルム接着面に達することを防止して、基板１に対する外部導波路フィルム３の接続強度の不良を抑制し、外部導波路フィルム３が剥離せず、信頼性の高い光電変換サブマウント基板を提供する。
【解決手段】光電変換サブマウント基板は、基板１と、基板表面の凹設面２０に形成されたコア層２１、及びコア層２１を被覆して封止すると共に上端面が基板表面よりも突出して形成されたクラッド層２２からなる光導波路２と、光導波路２と光結合４する光素子４と、光素子４と光導波路２との間に充填されたアンダーフィル５と、基板表面に端部が接着された外部導波路フィルム３とを備える。光素子４と外部導波路フィルム３の端部との間の基板表面に、光素子４と光導波路２の間から流れ出したアンダーフィル５が外部導波路フィルム３の基板表面との接着面に到達するのを防ぐ流出防止部１０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 屈曲耐久性、捻回耐久性に優れるクラッド層形成用樹脂組成物、それを用いて作製した光導波路及び光モジュールを提供する。
【解決手段】 （Ａ）エポキシ基含有アクリルゴム、（Ｂ）ウレタン（メタ）アクリレート、（Ｃ）分子中にウレタン結合を有しない（メタ）アクリレート及び（Ｄ）ラジカル重合開始剤を含む樹脂組成物で、該樹脂組成物の硬化物のガラス転移温度が１０℃から５０℃の範囲内である、光導波路のクラッド層形成用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】光導波路において、下部クラッド層中に残留する泡に起因する下部クラッド層およびコア溝の形成不良が生じ難い光導波路の製造方法およびそれに用いる型を提供する。
【解決手段】光導波路の製造方法は、ソフトリソグラフィーを利用し、コア溝とコア溝の両側に間隔を空けて略平行に併設されたスペーサ溝に対応する凸部を有する第２の型（凸型）を用いて、基板上に、コア溝とコア溝の両側に間隔を空けて略平行に併設されたスペーサ溝とを有する下部クラッド層を形成する。第２の型は、上記スペーサ溝対応凸部の長手方向に垂直な断面の形状が、スペーサ溝底面に対応する凸部の下端辺がスペーサ溝上端面に対応する凸部上端辺よりも短い逆台形状であり、少なくともコア溝対応凸部側のスペーサ溝対応凸部の辺が傾斜している。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板５の主表面ＳＦに対して４５°を成す傾斜面ＷＡを平坦性および平滑性良く形成するシリコン異方性エッチング方法及び当該方法において使用するシリコン異方性エッチング液を提供する。
【解決手段】シリコン異方性エッチング方法において、２０〜２５質量％の水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液に、ポリオキシアルキレンアルキルエーテルを０．１〜１０ｐｐｍの割合で添加したシリコン異方性エッチング液を用いて、シリコン基板５をエッチング加工する。 （もっと読む）