【課題】 基板処理装置のさらなるコンパクト化を実現することができるようにする。
【解決手段】 搬送路１７１に沿って略水平姿勢で搬送されつつある基板Ｂに所定の処理を施す基板処理装置１０であって、搬送中の基板Ｂに所定の処理液を供給する処理液供給装置としての、供給した処理液を基板Ｂから回収可能に構成された液回収型ノズル装置２０と、前記処理液が供給された後の基板Ｂ上に残留している処理液を除去する処理液除去装置としての、基板Ｂ上の残留処理液を気流によって吹き飛ばすように構成されたエアナイフ３０とが搬送路１７１に沿って直列に配設されている。 （もっと読む）

【課題】 設備費用などのコストの削減および環境への負荷の低減を実現でき、さらに、被洗浄物である基板が導電性であるか絶縁性であるかという電気的特性に関係なく、洗浄対象物も有機物であるか無機物であるかに関係なく、洗浄することができる基板表面の洗浄方法およびこの方法を用いた洗浄装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 イオン濃度増加工程Ｂ１で、イオン解離を促進する触媒によって流体中のイオン濃度を増加させるとともに、電界印加工程Ｂ２で流体に電界を印加して、流体中のイオンからラジカルなどの洗浄活性種を生成させる。洗浄工程Ｂ３で、洗浄活性種を含んだ溶液を被洗浄物である基板の表面に供給することによって基板表面を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】超音波振動子の加熱劣化を抑制できる、高い洗浄効率を備えた超音波洗浄装置を提供すること。
【解決手段】超音波付与ヘッド２１により被洗浄物Ｓの被洗浄面上の洗浄液Ｌに超音波を付与して上記被洗浄面を洗浄する超音波洗浄装置において、上記超音波付与ヘッド２１は、上記被洗浄面と対向するよう設けられ、上記被洗浄面側に位置する下端面２３ａに曲面を備えた超音波レンズ２３と、上記超音波レンズ２３の上端面２３ｃに設けられ、超音波を発振するとともに、この超音波を上記超音波レンズ２３を介して被洗浄面上の洗浄液Ｌに付与する超音波振動子２５と、上記超音波レンズ２３に設けられ、上記洗浄液Ｌに付与された超音波が上記被洗浄面で反射し、上記超音波レンズを介して上記超音波振動子２５に入射するのを防止する切欠き部２４とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 導電部材の乾燥時に変色部分や腐食が発生することを防止することができる洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 洗浄装置１は、導電部材を洗浄する洗浄部５と、洗浄部５で洗浄した導電部材に対して、第二の洗浄としてのすすぎを行うすすぎ部６と、すすぎ後に水切りを行うブロー部７と、水分を完全に取り除く乾燥部８とを有している。すすぎ部６は、洗浄部５で用いられるアルカリ水よりも高温の純水を導電部材に噴き付けることで、導電部材に残留している物質や水滴を取り除く。 （もっと読む）

【課題】液体ＣＯ_２の消費量を抑えつつ基板を搬送しながら基板全体を均一に洗浄する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、ローラ２１にて基板９を搬送方向２２に搬送する搬送機構２、洗浄部４、ＣＯ_２供給源６１およびＮ_２供給源６２を備える。洗浄部４は洗浄部カバー４１に覆われ、洗浄部カバー４１内には搬送方向２２に垂直な方向に２列に配列された複数のノズル４２が設けられる。ノズル４２の各列は搬送方向に垂直な方向に基板９全体に亘って揺動する。各ノズル４２はＣＯ_２供給源６１およびＮ_２供給源６２から液体ＣＯ_２およびＮ_２ガスが供給される二流体ノズルとなっており、これらの流体のノズル４２内の流路への供給量が他のノズルから独立して予め調整されている。各ノズル４２から液体ＣＯ_２とＮ_２ガスとが混合されつつ搬送途上の基板９に噴射されることにより、ＣＯ_２の消費量を抑えつつ基板９全体を均一に洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】 タイリングされた基板の境界のうち、基板を洗浄する際の基板の搬送方向に沿った境界を重点的に洗浄する。
【解決手段】 有機ＥＬ素子が形成されるパネルユニットがタイリングされてなる有機ＥＬディスプレイ用基板において、各パネルユニットの境界のうち、有機ＥＬディスプレイ用基板を洗浄する際の基板の搬送方向に沿った境界にノズルを移動させて洗浄液を吐出する。これにより、境界からはみ出した接着剤を重点的に除去することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】 ラジカル活性種を用いた電子部品の洗浄において、水酸基ラジカル濃度を増加し、さらに水素ラジカルの生成濃度を増加させて、有機物或いは無機微粒子に対する洗浄能力を向上する洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】 搬送ローラ１０９は矢印Ａの方向へ基板１０１を平流し搬送し、搬送路の途中に基板１０１の上方に設けられた混合液供給ノズル１０２より、オゾンを含む第１の洗浄液、及び水素を含む第２の洗浄液を混合した混合液１０４を基板１０１上へ供給する。次いで、基板１０１上へ供給された混合液１０４へ、紫外光照射装置１０３より紫外光１０５を照射することにより、水酸基ラジカル及び水素ラジカルが生成し、基板１０１の洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】カスケード堰で仕切られた複数の酸洗槽に鋼帯を順次通板させる酸洗処理において、酸液が鋼帯表面に付着して前段の酸洗槽から後段の酸洗槽に持ち込まれる酸液移動（鋼帯付着移動）は、カスケード堰の頂部の摩耗（鋼帯の摺接による）の進行と共に顕著となり、酸洗槽の酸濃度・液温のバランスを崩し酸洗効率を損なう。この酸液の移動を長期に亘って抑止する。
【解決手段】カスケード堰1の頂部直上に、大径胴部21_Ａと小径胴部21_Ｂとからなる胴部を有する鋼帯抑えロール2を、アイドル回転自在に配置して鋼帯の上に担持させる。カスケード堰の頂部に摩耗溝11が生じても、鋼帯Ｓは大径胴部と摩耗溝の底面との間に挟み付けられた状態で堰の頂部を通過する。このため堰の頂部の摩耗が進行しても長期に亘り、酸液の鋼帯付着移動の抑止効果が持続し、効率良く酸洗操業を遂行することができる。 （もっと読む）

【課題】 パレットに付着した汚れをより確実に除去することが可能なパレット洗浄装置を提供する。
【解決手段】 パレット洗浄装置は、トレーラ１０２内に構成され、パレット３００を洗浄するものであって、パレット３００を搬送するチェーンコンベア２０１、２０２、２０３と、パレット３００に向けて水を噴射する低圧水噴射装置２０６及び高圧水噴射装置２０７と、これら低圧水噴射装置２０６及び高圧水噴射装置２０７より搬送方向の下流側に設置され、パレット３００に衝撃を加える衝撃付加装置２１０と、この衝撃付加装置２１０より搬送方向の下流側に設置され、パレット３００に向けて送風を行うエア噴射装置２１４とを有するとともに、低圧水噴射装置２０６及び高圧水噴射装置２０７の設置位置から衝撃付加装置２１０の設置位置へ移動中のパレット３００にブラシ掛けを行うローラブラシ２０９を有する。 （もっと読む）

化学薬品の使用量をできるだけ低減し、簡易、かつ、効率よく実施できるアルカリ可溶型感光性樹脂の剥離方法を提供する。
アルカリ可溶型感光性樹脂の付着した被洗浄体（８０）に、ドライアイス噴射装置（４０）内でドライアイス粒子を噴射する。剥離片は電解酸性水槽（６０）及び、回収槽（７０）でフィルター回収を行う。次いで被洗浄体（８０）は電解酸性水噴霧装置（５０）内で剥離残渣の洗浄を行い、水洗槽（９０）にて電解酸性水の中和及び洗浄を行う。なお、アルカリ可溶型感光性樹脂の剥離、及び、回収に使用した電解酸性水は再利用可能であるため、廃液の排出量を大幅に削減できる。 （もっと読む）

流体を帯状に吐出可能なスリット部が形成されたエアーナイフユニットを用いて、基板の主面に付着した付着物を基板の主面から除去する方法で、基板に対して複数のエアーナイフユニットを相対移動させながら、エアーナイフユニットと基板の主面との間に、前記移動方向と直交する方向に略均一な形状を有する流体導入路を形成し、前記エアーナイフユニットの後部に形成されたスリット部から流体を流体導入路に向けて吐出し、次いで、流体導入路を通過させてエアーナイフユニットの前部に対向して形成される壁面あるいはみかけ上の壁面に導き、さらに、流体導入路より大きい流路断面積を有してエアーナイフユニットと壁面との間に形成された流体導出路を介して、基板に付着した基板付着物が前記流体とともに基板の主面から遠ざかるように導出する。 （もっと読む）

【課題】薬液よる基板の薬液処理後、純水処理時における基板表面へのパーティクルの転写を抑制する。
【解決手段】ウエハＷに洗浄処理を行う基板処理方法において、フッ酸（ＨＦ）等の薬液を貯溜した第１処理槽１１にウエハＷを浸漬させつつ薬液によりウエハＷに薬液処理を行う薬液処理工程と、塩酸（ＨＣｌ）を含む液体を第２処理槽２１へ供給し、第２処理槽２１を塩酸を含む液体により洗浄する処理槽洗浄工程と、第２処理槽２１へ純水（Ｈ_２Ｏ）を供給し、薬液処理工程で薬液処理されたウエハＷを第２処理槽２１に貯溜された純水に浸漬させつつ純水によりウエハＷに純水処理を行う純水処理工程と、を有する。 （もっと読む）