【課題】ノズル内の流路における異物の付着を防止し、被処理基板に対する塗布液の塗布
の際に、ノズル吐出口から処理液を均一に吐出する。
【解決手段】吐出口１６ａから塗布液を吐出するノズル１６と、前記ノズル１６の待機期間において前記ノズル１６内の流路が前記塗布液から前記塗布液の溶剤Ｔに置換された状態で保持するメンテナンス手段２６とを具備し、前記メンテナンス手段２６は、前記ノズル１６に前記溶剤Ｔを供給する溶剤供給手段３３，３４と、前記ノズル１６の吐出口１６ａとの間に所定の間隙を形成する液保持板２８の液保持面２８ａと、この液保持面２８ａを洗浄する液保持面洗浄手段５１とを有する。 （もっと読む）

【課題】ロールからベアリングを取り外すことなく洗浄できるロール洗浄装置を提供する。
【解決手段】上面が開口して、左右一対のベアリング１６，１６を支持するベアリング支持部１７，１７が載置されると共に、水が入った外洗浄槽１８と、外洗浄槽１８の水に浸され、かつ、上面が開口してロール１２の下部が浸されるように有機溶剤が入った内洗浄槽２０と、外洗浄槽１８の底面に配された超音波振動子と、回転軸１４に連結され、ロール１２を回転させるモータ２６とを有する。 （もっと読む）

【課題】大型の基板を高い洗浄力で均一に洗浄する。
【解決手段】上ブラシ２０は、回転軸２１を有し、モータ２２の駆動により回転する。軸受ブロック２３ａ，２３ｂは、上ブラシ２０の回転軸２１を回転可能に支持する。ガイド２４ａ，２４ｂは、軸受ブロック２３ａ，２３ｂを回転軸２１の軸方向へ案内する。上ブラシ２０を回転軸２１の軸方向へ移動可能に保持しながら回転するので、回転前に上ブラシ２０にたわみが発生していても、回転中に上ブラシ２０が回転軸２１の軸方向へ変位して、上ブラシ２０のたわみが解消される。従って、回転軸２１の軸振れが防止され、上ブラシ２０が基板１に接触する圧力が一定になる。 （もっと読む）

散布され、電気化学的に活性化された液体（５１、５２、５５、７１、１６０、１６０Ａ、１６０Ｂ、１９０、１９２）を生成するための方法および装置を提供する。装置（６２、１００、１５０、３００、３７０、３８０、４００、５００、６００）は、散布装置（５０、１６１、１６３、３２５、３２６、５０３、５０５、６０３、６０５）と機能発生器（１０、４０、１６２、３２４、５０４、６０４）とを備える。機能発生器（１０、４０、１６２、３２４、５０４、６０４）は、散布装置（５０、１６１、１６３、３２５、３２６、５０３、５０５、６０３、６０５）に流体連通しており、イオン交換膜（２７、４３）によって隔てられた陽極室（２４）と陰極室（２６）とを備える。
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円筒部材の保守装置は、網状のスチールケーブル等の円筒部材（１３）の周囲を閉じるための２つのヒンジで連結されている半ハウジング（１１、１２）から成るハウジング（１０）を備えている。回転螺旋ブラシアセンブリ（２１）及び回転縦ブラシアセンブリ（２２）がハウジング内に配置されており、ハウジングの軸を中心として回転可能である。各回転ブラシアセンブリは、同軸の分割リング（２３、２６）を備え、分割リングの間には、回転円筒ワイヤブラシ（２５、２８）が接続され、それ自体の軸を中心として独立して回転可能である。ノズル（２９）は、円筒部材に洗浄液又はペンキを吹き付けるために、ハウジング内部に配置されている。ハウジングの開口部（３２）は、環境汚染を避けるために、破片、洗浄液、及びペンキを除去するための吸引装置に接続するためのものである。ハウジング上のループ（１８）は、ハウジングを円筒部材に沿って動かすためにケーブルに取り付けるためのものである。
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【課題】小蓋及びその周辺を隈なく効率よく掃除することができる高圧水併用型小蓋掃除装置を提供する。
【解決手段】室炉式コークス炉の各炉室の押出側を密閉する炉蓋１の上部に設けられる小蓋２及びその周辺を掃除するための高圧水併用型小蓋掃除装置であって、小蓋口内面３を掃除する接触式掃除機Ｍと、接触式掃除機Ｍの芯合わせを行うための調芯手段１４と、小蓋口シート面４、ガス道５及びナイフエッジ６の先端部の全周を掃除する高圧水掃除装置Ｗと、を備え、前記調芯手段１４によって検出した接触式掃除機Ｍの作業開始の原点を、高圧水掃除装置Ｗの作業開始の原点としても用いる。 （もっと読む）

【課題】基板表面の異物をより確実に除去することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】この基板処理装置は、ウエハＷを保持して回転させるスピンチャック１と、ウエハＷに処理液を供給する処理液ノズル２と、ウエハＷをスクラブするスクラブブラシ３と、このスクラブブラシ３を移動させるノズル移動機構４と、待機ポット５とを備えている。スクラブブラシ３によってウエハＷの異物を除去するためのスクラブ処理をしていない待機時には、スクラブブラシ３は待機ポット５で待機させられる。待機ポット５には、アルカリ性液体としてのアンモニア水が供給されており、その内部にはアルカリ性液体貯留部が設けられている。このアルカリ性液体貯留部に貯留されたアンモニア水の揮発によりアンモニアガスが発生し、このアンモニアガスが待機状態のスクラブブラシ３に供給される。 （もっと読む）

【課題】 ワークチャックにおける異物の残存率を低減することができるワークチャックの洗浄装置を提供する。
【解決手段】 多数のピン１４が下向きに突設され且つその先端で半導体ウェーハを吸着保持した状態で回転するワークチャック１２と、複数の毛束を突設すると共にワークチャック１２に毛束の先端が当接した状態で回転する表面ブラシ４１と、ワークチャック１２又は表面ブラシ４１の少なくとも一方をワークチャック１２の半径方向に変位させる変位駆動機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】 ワークに対するブラシの接触状態をチェックする機能を設けることにより、接触状態チェックの確実性を高め、また、必要なときにのみメンテナンスを行なうことで、洗浄能力低下による不良品を出さずに、効率的に洗浄精度を維持することが可能なスクラブ洗浄装置を提供する。
【解決手段】 ブラシ２０２の接触状態をチェックするためのチェック用ワーク１０５を洗浄対象ワーク１０１に換えてチャック部材２０１により把持し、洗浄液を供給することなく、かつ接触位置を相対移動させることなく、ブラシ２０２をチェック用ワーク１０５の表面に接触させることにより、チェック用ワーク１０５の表面に接触痕を形成する接触痕形成手段と、チェック用ワーク１０５表面の接触痕の面積及び／又は形状を検査する表面検査部１０７とを備える。 （もっと読む）