【課題】連続走行するシート状物に洗浄液を残留させることがなく洗浄液の残留痕、いわゆるウォ−ターマークを残さず、シート状物の外観不良を発生させることがなく、洗浄を行なうことができるシート状物の洗浄装置や、これを用いた洗浄方法を提供することにある。
【解決手段】実質的に水平に連続走行するシート状物上に設けられ、該シート状物の走行方向に直交する鉛直下向きの上流側ガス流と下流側ガス流とをそれぞれ噴出する上流側ガスノズルおよび下流側ガスノズルと、上流側ガス流および下流側ガス流間のシート状物上面に洗浄液を供給する洗浄液供給ノズルとを有する洗浄装置であって、上流側ガスノズルと下流側ガスノズル間のシート状物上面に残留する洗浄液を除去するガス流を噴出する可動ガスノズルを備えた。 （もっと読む）

【課題】半導体装置、実装基板及び液晶基板において、薄膜材料に限定されることなく、基板表面の端縁及び／又は基板裏面に形成された不要な薄膜を容易に除去することのできる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板１０６の表面の端縁及び／又は基板１０６の裏面に形成された薄膜を除去する基板処理装置であって、被処理基板１０６を支持する基板保持部１０１と、除去すべき薄膜が形成されている被処理基板１０６の領域に向けて高温スチーム又はブラスト材を吹きつける噴射ノズル１０４と、前記噴射ノズル１０４から被処理基板１０６に吹きつけられた高温スチーム又はブラスト材が、被処理基板１０６において薄膜が除去される必要のない領域に侵入することを防止する手段１０２とを備えている基板処理装置。 （もっと読む）

【課題】シリコンウエハー、フォトマスク基板、フォトマスクブランクス等を含む表面から１００ｎｍ以下の微粒子を除去する装置及び方法を提供する。
【解決手段】紫外線洗浄器具は、処理チャンバーの中に設置された紫外線光源１０２を有し、表面１０４の上方に位置させ、処理チャンバー内の様々な処理中に使用してよい。ガラス基板、ガラス表面、シリコン基板、プレート、フォトマスク基板などの表面１０４と紫外線光源１０２との距離は、モータ１１０を使って回転チャック１０６を動かすことによって調節できる。あるいは、紫外線光源１０２を垂直に動かすことによっても距離を調節できる。紫外線光源１０２は、およそ１４０〜４００ｎｍの波長で１ｍＶ／ｃｍ^２以上の強さであって、高圧、低圧水銀ランプ等が用いられる。紫外線光源１０２は、微粒子と表面１０４との間の化学結合を切断するオゾンを発生させ、これが洗浄性能を高める。 （もっと読む）

【課題】 被洗浄物に噴射する液滴の大きさを均一に小さくし、被洗浄物の表面に形成された素子等を破壊することなく、洗浄物の表面に付着している異物等を除去できるようにする。
【解決手段】 噴射用のガスと液体とを混合して液滴を形成し、この形成された液滴を噴射して被洗浄物を洗浄する洗浄方法であって、前記液体に予め気泡発生用のガスを溶解させて過飽和状態の液体とするようにしたものである。 （もっと読む）

【課題】 処理ごとにカップ内の洗浄を行うことにより、乾燥固化が著しい処理液であっても確実に洗浄可能で、装置稼働率を低下させることがない回転塗布装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板Ｗの処理ごとにエッジリンスノズル２１に対する飛散防止カップ７及び整流板１７の位置を変えることによって、飛散防止カップ７の一部が少しずつ洗浄され、ある枚数の基板Ｗに対する処理を終えた時点でその全面を洗浄できる。したがって、ＳＯＧ液が飛散防止カップ７で固化してしまう前に洗浄するので、付着したＳＯＧ液を容易に除去でき、装置稼働率を低下させることがない。その上、飛散防止カップ７の全面を一度に洗浄するのではなく、一部を少しずつ洗浄してゆくので、洗浄液の気化に伴う雰囲気温度の著しい低下が抑制でき、膜厚の面内均一性を低下させることがない。 （もっと読む）

本発明は、基板を次の工程によって処理するための方法に関する。処理すべき基板の局所的な表面領域に液体膜を、少なくとも１つの長尺のノズル装置及び該ノズル装置に隣接して配置された超音波変換装置若しくはメガ音波変換装置を備えたノズルユニットによって形成し、前記超音波変換装置の少なくとも一部分を前記液体膜と接触させ、かつ前記超音波変換装置によって超音波を前記液体膜内に作用させる。 （もっと読む）

【課題】洗浄処理時のウォーターマーク発生をより確実に防止することができる基板洗浄装置を提供する。
【解決手段】洗浄処理ユニットＳＳには、二つのリンスノズル４１，５１が設けられており、それぞれ独自に別駆動される。洗浄用の混合流体を吐出する洗浄リンスノズル４１は、窒素ガスと純水とを混合して純水液滴を含む混合流体を生成吐出する二流体ノズルである。液膜形成のためのカバーリンスノズル５１も純水液滴を含む混合流体を生成吐出する二流体ノズルである。基板Ｗの直接の洗浄処理を担当する洗浄リンスノズル４１だけでなく、カバーリンスノズル５１をも混合流体を吐出する二流体ノズルとしているため、基板Ｗが疎水性基板であっても、その上面に均一な薄い純水水膜が形成され、洗浄処理時のウォーターマーク発生をより確実に防止することができる。 （もっと読む）

【課題】 球体の被洗浄物の全体に超音波を好適に作用して、短時間で一様に洗浄可能な球体用洗浄治具と洗浄方法とを提供すること。
【解決手段】 洗浄治具１は、図示しない昇降装置と接続されて上下方向に揺動可能なロッドの先端に連結されており、ボールレンズ６が挿入可能に設けられた複数の貫通孔８を有して矩形状で樹脂等からなる保持板部１０と、各貫通孔８内に挿入されたボールレンズ６が洗浄槽の下方へ脱落するのを阻止する丸棒部材（支持部、軸部材）１１とを備えている。
貫通孔８は、半径がボールレンズ６の直径よりも小さく、かつ、内径がボールレンズ６の直径よりも大きい円形断面とされ、保持板部１０の板厚方向に直線状に延びて形成されている。これらの貫通孔８は、一つの貫通孔８の周りに６つの他の貫通孔８が隣接し、それぞれの貫通孔８の中心同士を結ぶ直線が略６０度の傾きで交差するように配されている。 （もっと読む）

【課題】 炉蓋の機能上最も重要な箇所であるガス道とナイフエッジの先端部分の付着物除去を好適に行う。
【解決手段】 本発明は、炉蓋の両側面と下面において、ガス道７とナイフエッジ４の先端部分に対しては、高圧水噴射力を利用した掃除を行うと共に、断熱材５に対しては、機械的切削力を利用した掃除を行う。一方、炉蓋の上面においては、両側面や下面に比べて断熱材５へのタール、カーボン等の付着物が少ないため、ガス道７とナイフエッジ４の先端部分に対して、高圧水噴射力を利用した掃除のみを行う。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の製造において、ウェハ表面に付着した異物を確実に除去でき、異物の再付着、配線の溶解等のない洗浄方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造における洗浄方法は、アルミ配線パターンの形成工程後に、アルミ配線パターンが形成された表面に対して、流体をノズル４から吐出させて行う洗浄を使用し、流体は、超純水、または、不活性ガスと超純水又は少なくとも超純水を含む液体とを混合した２流体である。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの表面及び端部の迅速かつ効率的な洗浄及び乾燥を可能にすると共に、ウェーハ表面及び端部に堆積する汚染物を発生し得る多数の水又は洗浄流体の小滴の形成を低減する。
【解決手段】メニスカスを第１の表面から第２の表面へ移動させるシステム及び方法は、ヘッドと第１の表面との間にメニスカスを形成することを含む。このメニスカスは、第１の表面から隣接する第２の表面へ移動させることが可能であり、隣接する第２の表面は第１の表面にほぼ平行である。メニスカスを移動させるシステム及び方法は、メニスカスを基板の端部に沿って移動させるために使用することもできる。
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【課題】本発明は、医療対象物のような対象物を殺菌するための殺菌装置に関する。
【解決手段】殺菌装置は、殺菌チャンバー（８）と、少なくとも１つの洗浄用通路（１）が設けられた通路システム（３）と、を備え、前記洗浄用通路は洗浄液をノズル（２）に搬送するよう構成され、このノズル（２）は実質的に横方向に向いており洗浄液を前記殺菌チャンバー（８）内で散布するようになっている。前記ノズル（２）を支持する前記洗浄用通路（１）は、迅速に着脱可能な連結器を有しており、当該連結器は少なくとも一端が通路システム（３）の静止部分にかみ合うよう協働するようになっている。
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基板の側面に対しても主面に対すると同程度に洗浄力を発揮することのできる安価な洗浄装置、また噴射距離をあまり変えることなく、洗浄中に噴射器の角度を変えることのできる安価な洗浄装置である。基板７０を回転可能に水平に支持するテーブル１０と、基板に洗浄液を噴射する噴射器３０と、噴射器を第一の端部で保持するアーム１６と、アームの第二の端部を水平方向の軸回りに回転可能に保持するとともにテーブルに対して平行方向に案内する支軸１２とを備えた基板洗浄装置１において、前記アーム１６は、第二端部における軸線方向から眺めたときに第一端部がその軸線から離れた位置にあることを特徴とする。
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本発明は、半導体ウエハや液晶基板などの基板を回転させながら、薬液処理、洗浄処理、乾燥処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。本発明はまた、半導体ウエハなどの基板を回転させながら保持する基板保持装置に係り、特に、洗浄装置やエッチング装置などに好適に使用される基板保持装置に関する。本発明の基板処理装置は、基板を回転保持する基板保持部を有し、基板を回転させて基板に流体を供給して処理を行い、前記基板保持部には前記流体を吸引する保持部吸引部が配置されている。また、本発明の基板保持装置は、基板の端部に当接して該基板を回転させる複数のローラを備え、複数のローラは基板の半径方向に沿って移動する。

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