【課題】基板に形成された不要な薄膜その他の不要物を基板に損傷を与えることなく、効率的に除去することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板５０を保持する基板保持部３０と、研磨剤とミストを混合した混合ミストを噴出する噴射部１５と、噴射部１５と前記基板５０とを相対的に移動させる位置制御部２３とを備えており、基板５０の処理対象部に研磨剤を含む混合ミストを噴射（ミスト液を霧状にして研磨剤と一緒に噴射）して、基板５０に形成された不要な薄膜その他の不要物を除去する。 （もっと読む）

電極は経路に沿って端部を縦にして搬送される。電極は、底部外周端で支持されて、概ね垂直に保持される。複数の洗浄ノズルが経路に隣接してその対向する両側に配置される。ノズルからの洗浄スプレイは電極の両側面に当てられる。ノズルは、直線状に配置されてノズルアレイを形成し、電極の底部より先に上部に洗浄スプレイが当たるように角度が付けられる。リンスまたは前洗浄用の分離した部分を洗浄チャンバ内に備えてもよい。使用済みの水を回収して再利用してもよい。
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【課題】照明灯等の表面の膨張した赤錆を除去し防錆処理等を走行しつつ行う洗浄および防錆処理方法を提供することも目的とする。
【解決手段】供給水を所定圧力に加圧する高圧ポンプ１と、加温する温水器２と、高圧ポンプ１，温水器２と接続流路８，９，１０で接続され高圧温水を噴射する噴射ノズル装置４と、粒状の炭酸水素ナトリウムの貯留タンク４と、該タンク４に基端が接続され先端が噴射ノズル５ａに接続され該噴射流中に粒状の炭酸水素ナトリウムを混入させる炭酸水素ナトリウム供給路１１を備えた高圧洗浄装置を用いた洗浄および防錆処理方法であり、噴射ノズル５ａの先端から、粒状の炭酸水素ナトリウムを含み内部でキャビテーションを起こさせた状態の高圧温水を、処理しようとする金属製の対象物に噴射することによって、表面に発生している赤錆の膨張した部分を洗浄して除去し該除去した後に不動態被膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】帯状鋼板等の帯状体の表面に存在する異物を洗浄する際に、洗浄不良や下流側への洗浄液の持ち込み、あるいはこれら両者に起因した押し込み疵の発生や溶接不良を、低コストで確実に事実上解消する。
【解決手段】異物が存在する帯状鋼板２２の表面に向けて、その幅方向を含むとともにその表面に直交する面内でこの表面に対して斜めに洗浄液２３を噴射することにより、帯状鋼板２２の表面に対して斜めに噴射された洗浄液２３が、表面に衝突して表面から離れる方向に反射した後に帯状鋼板２２から離れたまま帯状鋼板２２の幅方向の端部よりも外側へ飛散する際に、異物を飛散する洗浄液２２に随伴させることによって、異物を、帯状鋼板２２の幅方向の端部よりも外側へ飛散させて、帯状鋼板２２から異物を除去する。 （もっと読む）

本発明は、多様な用途として使用されうる噴射ノズルに係り、さらに詳細には、洗浄またはデバリングのために気体または液体を高圧で対象物の表面に噴射させるが、直線運動だけでも効率的に洗浄などを行うことができる噴射ノズルのための技術に関する。噴射ノズルには主な構成として、内部に空洞部が設けられて、供給される物質を複数の噴射孔を介して排出させる噴射ノズルにおいて、前記噴射孔は、噴射ノズルの先端部または外周面に形成されるが、曲率を有して空洞部から外部に向かって次第に断面積が広くなり、かつ曲がりつつ形成される。 （もっと読む）

【課題】成膜用治具に擦過痕などの疵をつけず、除去効率が悪くならず、大掛かりな装置を必要としないで洗浄する。
【解決手段】成膜用治具１を洗浄する装置である。成膜用治具１を設置する洗浄台３と、この洗浄台３に設置された成膜用治具１の洗浄面１ａに電解液７を噴射すべく、洗浄面１ａに対向配置されたノズル体５と、このノズル体５を一方の電極、洗浄台３を他方の電極とすべく、これらノズル体５と洗浄台３の間に電圧を印加する電源８と、ノズル体５に電解液７を供給する電解液供給手段６と、洗浄面１ａを洗浄した後の廃液を回収し、再び電解液７として電解液供給手段６に供給する循環経路１０を備える。
【効果】成膜用治具に擦過痕などの疵をつけず、また成膜用治具の形状に関係なく、簡易な装置で成膜用治具に付着した金属系付着物を洗浄して除去できる。 （もっと読む）

【課題】基板保持部において、前記基板が嵌入される角型の凹部の洗浄処理に要する時間を短縮し、前記基板へのパーティクルの付着を抑えること。
【解決手段】塗布ユニットは、角型の基板Ｇが嵌入される角型の凹部３を備え、鉛直軸周りに回転自在に設けられたスピンチャックＳを備え、このスピンチャックＳを洗浄するときには、回転されるスピンチャックＳに対して前記凹部の辺に沿って洗浄液ノズル６１から洗浄液を供給し、次いで洗浄液が供給された後のスピンチャックＳ対して、ガスノズルから洗浄液の乾燥を促進させるための乾燥用気体を、前記凹部の辺に沿って供給する。 （もっと読む）

【課題】洗剤の使用が不要で且つコンパクトで洗浄性能が高い洗浄装置を提供する。
【解決手段】液体を搬送経路１に流して加圧すると共に脈動流を発生させるポンプ２と、気体を前記搬送経路１を流れる液体に加圧溶解させて該気体が飽和状態となった液体を生成する加圧溶解部３と、加圧溶解部３で生成し気体が飽和状態となった液体を大気圧まで減圧する減圧部４と、前記減圧部４からの液体を被洗浄物６の表面に噴射する洗浄液噴射部５とを備えた。 （もっと読む）

【課題】被処理面以外の面に対する処理液の飛散を防止し、被処理面のみに処理液を用いた処理を施すことができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る表面処理治具１は、半導体ウエハ５０の被処理面５０ａと対向する対向面１ａに形成された環状の溝１０と、溝１０に連通するように形成された、処理液を回収する貫通孔１１とを有する処理液回収部１３を備えている。 （もっと読む）

【課題】ワークピース表面上の絞り剤の残留物を、ワークピース全体を洗浄することなく除去することを可能とする装置及び方法を提供する。
【解決手段】溶接装置１は、ワークピース６上に溶接継目３を形成する溶接手段２と、ワークピースの表面に対して、溶接継目が形成されるべき領域に炭酸ガスと圧縮空気からなるクライオジェニック混合物８を噴射するノズル７と、を備える。溶接手段２とノズル７の距離は、少なくとも５ｃｍである。 （もっと読む）

【課題】混触に危険を伴う組合せとなる薬液の混触を防止することができ、かつ、そのための設定作業に手間を要しない、供給禁止組合せ設定方法、コンピュータプログラムおよび基板処理装置を提供する。
【解決手段】ＣＰＵ６０により、使用薬液メモリ６８，６９，７０から、第１薬液、第２薬液および第３薬液の各薬液名が読み出され、第１薬液、第２薬液および第３薬液の薬液名とバルブ１８，１９，２０，２３，２５，３１との対応関係を表す薬液−バルブ対応テーブルが作成される。そして、薬液−バルブ対応テーブル、および混触に危険を伴う薬液の組合せに関する情報を登録した混触禁止薬液データベースに基づいて、バルブ１８，１９，２０，２１，２３，２５，３１，３７間での同時開成および相前後する開成を禁止／可能とするバルブの組合せが設定される。 （もっと読む）

【課題】処理カップの開口部に薬液を良好に進入させることができる基板処理装置を提供すること。
【解決手段】第１薬液の供給中において、ＣＰＵ６１は、回転数センサ１６から出力された検出値を監視している（ステップＳ７）。そして、回転センサ１６から出力された検出値が回転数範囲外となると（ステップＳ７でＮＯ）、ＣＰＵ６１は、第１薬液表面側バルブ２３を閉じるとともに、その後の開成を禁止し（ステップＳ９）、その第１薬液表面側バルブ２３の開成が禁止された旨の警報を出力した後（ステップＳ１０）、このインターロック処理を終了する。 （もっと読む）

【課題】薬液の消費量を最小限に抑えつつ基板の表面周縁部および裏面から不要物を良好にエッチング除去することができる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】スピンベース１５から所定距離だけ上方に離間させた状態で基板Ｗを略水平姿勢で支持する。基板Ｗの上方に対向部材５が対向位置に配置された状態で、複数のガス吐出口５０２およびガス供給路５７から基板表面Ｗｆと対向部材５の下面５０１との間の空間ＳＰに窒素ガスが供給され、基板Ｗが支持ピンＦ１〜Ｆ６，Ｓ１〜Ｓ６に押圧される。第１ノズル３を供給位置Ｐ３１に位置決めして第１ノズル３から塩酸を回転する基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給するとともに、第２ノズル４を供給位置Ｐ４１に位置決めして第２ノズル４から硝酸を基板Ｗの表面周縁部ＴＲに供給することにより、基板表面Ｗｆで塩酸と硝酸が反応してエッチング液が生成される。 （もっと読む）

【課題】洗浄後にパーティクルが発生する虞がなく、低コストの構成部材の洗浄方法を提供する。
【解決手段】成膜装置の処理雰囲気に設置された成膜装置の構成部材の表面から付着物を除去するための洗浄装置であって、
前記構成部材に対して加圧水を噴射する噴射部３，４を備える （もっと読む）

【課題】銅、ニッケルなどの電解精製における洗浄工程において、カソードの吊手と金属板との接合部の内側に形成されるポケット状部位に残存する電解液を効率的に除去する。
【解決手段】 電解精製した金属板（１）の搬送過程で、洗浄位置に配置した多数の洗浄ノズル（３、９）から金属板（１）に向けて洗浄液を噴霧することにより、金属板（１）の洗浄を行う洗浄装置において、吊手（５）に対応する該洗浄ノズル（９）を該吊手（５）の内側に向けて該吊手（５）の通過する空間に近接して配置するとともに、該洗浄ノズル（９）を主配管（７）に対して可動式として取り付け、可動式の洗浄ノズル（９）から噴霧される洗浄液を該吊手（５）の側方から該吊手（５）の内側へ直接到達させ、かつ該洗浄ノズル（９）と移動中のビーム（１３）との接触によって該洗浄ノズル（９）の該吊手（５）に対する相対位置を変え、該洗浄ノズル（９）を自動的に退避位置に移動させる。 （もっと読む）

【課題】ノズルおよび該ノズルに接続された処理液導入部に残留する処理液をガスによって押し出す際に、該処理液を安定して押し出すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】押出処理が停止され、薬液処理が実行される間、上流側バルブＶ１と下流側バルブＶ２は閉じられ、上流側バルブＶ１および下流側バルブＶ２とに挟まれたバルブ間領域ＶＲは大気圧Ｐ０に調整されている。そして、薬液処理後、薬液押出処理を開始するために上流側バルブＶ１の開放に先立って下流側バルブＶ２が開かれる。この時点では、残留薬液にかかる圧力は大気圧Ｐ０となっているため、残留薬液が押し出されることがない。このため、いきなり元圧力Ｐ１で残留薬液が押し出されるのを防止することができる。 （もっと読む）

【課題】建物の床面や壁面を対象とする有効適切な蒸気洗浄具を提供する。
【解決手段】蒸気洗浄機の付属品として使用されて被洗浄面に蒸気を吹き付けて洗浄作業を行うための蒸気洗浄具であって、被洗浄面としての床面１等に蒸気を吹き付けるためのノズル３と、被洗浄面に対してケレン作業を行って付着物２０を削り落としたり掻き落とすためのスクレーパー４とを、柄を兼用する蒸気管２の先端部に装着し、蒸気管の基端部に蒸気の供給停止操作を行うための蒸気噴射ガン７等の操作機構を設ける。ノズルおよびスクレーパーを装着する蒸気管の先端部を装着部２ｂとしてそこに屈曲部を設け、その装着部の軸線方向を蒸気管の本体部２ａの軸線方向に対して傾斜させる。ノズルからの蒸気の噴射方向を可変とし、蒸気管の本体部の長さを調節可能とする。 （もっと読む）

【課題】少ない洗浄液で効率よく被洗浄物を洗浄できる洗浄装置を提供する。
【解決手段】超音波が印加された洗浄液を洗浄ヘッド２０から噴射してガラス基板Ｇを洗浄する場合において、洗浄ヘッド２０を外部ヘッド２４と内部ヘッド２６とで構成する。洗浄液は、外部ヘッド２０に形成された供給口２８から供給され、外部ヘッド２４と内部ヘッド２６との間に形成される流路３２を通って噴射口２２から噴射される。外部ヘッド２４を内部ヘッド２６に対して前後移動させると、流路３２の断面積が変化し、噴射口２２から噴射される洗浄液の流量が調整される。これにより、ガラス基板Ｇのサイズや汚れの程度、求められる洗浄の程度に応じて適切な流量で洗浄液を噴射することができ、必要最小限の洗浄液でガラス基板Ｇを洗浄することができる。 （もっと読む）

【課題】処理液を基板に供給して処理する基板処理装置において、処理中における基板の帯電を抑制する。
【解決手段】基板処理装置１は、基板２に向けて処理液の液滴を吐出する吐出口４６を有する吐出手段４１、および、吐出手段４１の外壁４１１に設けられた誘導電極４４を備える。処理液供給ユニット４１３は導電線４９を介して接地される。誘導電極４４は電源４５に接続され、処理液供給ユニット４１３と誘導電極４４との間に電位差が付与されることにより、電荷が誘導された処理液の液滴が生成される。基板処理装置１では、電荷が誘導された処理液の液滴により基板２を洗浄することにより、洗浄中および洗浄後における基板２の帯電を抑制することができる。また、外壁４１１に誘導電極４４が配置されることにより、外壁４１１の内部で液滴が生成される吐出手段に対しても、簡単な構成で誘導電極を配置できる。 （もっと読む）

【課題】少ない洗浄液で効率よく基板を洗浄でき、コンパクトな構成の基板洗浄方法及び装置を提供する。
【解決手段】垂直な姿勢で保持されたガラス基板Ｇに向けてノズル列３２をから超音波が印加された洗浄液を噴射しながら、ノズル列３２をガラス基板Ｇに沿って昇降させる。超音波は、ガラス基板Ｇの表面で集束するように印加する。これにより、少ない洗浄液で効率よく基板を洗浄することができる。また、大型のガラス基板を洗浄する場合であっても装置構成をコンパクトにすることができる。 （もっと読む）