【課題】基板からレジストを良好に除去することができ、かつ、そのレジストの除去に用いた処理液の再利用を図ることができる、基板処理装置および基板処理方法を提供すること。
【解決手段】ミキシングバルブ８には、過硫酸生成槽１２において濃度４ｍｏｌ／ｌの低濃度硫酸を電気分解して生成される過硫酸と、温度１２０℃、濃度９６ｗｔ％の高温高濃度硫酸とが供給される。ミキシングバルブ８に過硫酸および高温高濃度硫酸が供給されると、これらが混合され、高温高濃度硫酸が過硫酸で希釈されることによる希釈熱が生じ、この希釈熱および高温高濃度硫酸が有する熱により、その過硫酸および高温高濃度硫酸の混合液は、高温高濃度硫酸の液温以上の高温に急速に昇温する。高温に昇温した混合液は、その後直ちにミキシングバルブ８からノズル３に送られ、ノズル３からウエハＷの表面に向けて吐出される。 （もっと読む）

【課題】 初期コストおよびランニングコストを上昇させず、かつ、フットプリントを増大させることなく乾燥時の基板へのパーティクルの付着およびウォーターマークの発生を確実に防止することができる液処理装置および液処理方法を提供すること。
【解決手段】 ウエハＷに処理液を供給しながら基板に対し液処理を行い、その後乾燥処理する液処理装置１００は、ウエハＷを水平にかつ回転可能に保持する基板保持部２と、基板保持部２を回転させる回転機構３と、ウエハＷに処理液を供給する処理液供給機構８５と、ウエハＷの乾燥処理の際にウエハＷの上方の少なくとも周縁部に乾燥ガスを供給する乾燥ガス供給機構１０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】処理液供給手段を収納する収納室から処理液のミストや粒子が発生するのを防止して、基板の処理又は乾燥を均一に行う。
【解決手段】液回収チャンバ３０及び上チャンバ４０により形成された処理室内で、回転テーブル１０が、基板１を水平に支持して回転する。ノズル２１を収納する収納室５０が処理室につなげて設けられ、ノズル２１が、収納室５０から処理室内にある基板１の上方へ移動し、基板１の表面へ処理液を供給した後、収納室５０へ戻る。シャッター５３は、ノズル２１が収納室５０内にあるとき、収納室５０を処理室から遮蔽する。収納室５０を処理室から遮蔽するので、処理室内で基板１の回転により生じた空気の流れによって、収納室５０から処理液のミストや粒子が発生するのが防止される。 （もっと読む）

【課題】 チューブ内に注入する洗浄剤がスケール面の全体に行き渡り、且つ大量に供給され、発生するガスの影響を受けない循環ループを形成し、チューブ内に洗浄剤を連続的に循環させることにある。
【解決手段】 熱交換器（Ｘ）のチューブ（Ｙ）内に付着するスケールを除去で、有機酸洗浄液を該チューブ内に循環して供給し、チューブ内のスケールを粗取りし、チューブ内を水洗浄し該洗浄液を回収し、エアブローでチューブ内面を乾燥し、チューブ内面を噴射素材を吹き付けるスケール除去方法であり、その装置は、洗浄液を保有するタンク（１）に循環ポンプ（２）が接続され、該ポンプの吐出口は、一または複数個の排出口を持った分配器（３）に接続され、該分配器の排出口には、一または複数本のチューブに接続され、該チューブの一端がろ過器（４）と接続され、該ろ過器の一端をタンクに接続し、洗浄液の循環ループを形成スケール除去装置から構成される。 （もっと読む）

【課題】蒸気による基板処理および処理液による基板処理を同一処理チャンバ（処理ユニット）内で行うことができるようにする。
【解決手段】処理ユニット１１は、基板Ｗを保持して回転させるスピンチャック２１と、基板対向面３６を基板Ｗの表面に接近させることによって基板Ｗ表面付近の空間を制限するとともに、複数の蒸気吹き出し孔３７を有する遮断板３０と、この遮断板３０を上下動させる遮断板昇降駆動機構３１と、遮断板３０に蒸気を供給する蒸気供給源４０と、基板Ｗに処理液を供給する処理液ノズル７５および処理液供給管３５とを備えている。遮断板３０を下降させると、遮断板３０と処理容器６９とによって、基板Ｗを取り囲む実質的な密閉空間が形成される。処理容器６９内の雰囲気は、排気管６２などによって排気される。 （もっと読む）

【課題】 枚葉式の回転式基板処理装置において、使用した薬液の回収率を高める。装置価格を引き下げる。振動を抑える。薬液と廃液の雰囲気分離を行う。
【解決手段】 基板１を水平に支持して回転させる回転機構１０の周囲に、基板１から飛散する液体を受けるカップ２０を設ける。カップ２０に、筒状で昇降式の上段液体ガイド３０及び下段液体ガイド４０を組み合わせる。上段液体ガイド３０は、下方の待機位置で下段液体ガイド４０に重なって、両ガイド間に形成される液体導入口を閉じ、待機位置から上方への回収位置へ移動して、基板１から飛散する第１の液体をカップ２０の外へ導く。下段液体ガイド４０は、待機位置から上方への回収位置へ移動して、基板１から飛散する第２の液体をカップ２０内へ導く。 （もっと読む）

【課題】作業者の健康被害や環境汚染が生じる虞れなく、書籍清浄作業の時間を短縮し得ると共に書籍清浄作業の際に必要とされる人員を削減し得る書籍清浄装置を提供する。
【解決手段】書籍40を載置して運搬可能な台車部１と、台車部１が出し入れ自在な洗浄ケーシング２と、書籍40を載置した台車部１が洗浄ケーシング２に収納された状態にて書籍40を清浄にする清浄手段３と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】構造が簡単で、安価に製造することができ、大きなワークであってもその隅々までも確実に洗浄するワーク洗浄装置を提供する。
【解決手段】工作機械のワーク洗浄装置１は、テーブルとワーク段取台とにワークを選択的に位置させるパレット交換手段を備えた工作機械を囲む筐体１２の上部に取付部材１４が設けられ、取付部材１４に基端部を水平旋回可能に支持され、先端側を前記ワーク段取台の上方を越えて該ワーク段取台の外周側の位置に移動、固定可能とした支持アーム１５と、支持アーム１５の先端部に鉛直状に支持された透明カバー１７と、ホース１９によって洗浄流体供給源に接続されており、作業者が手動で操作する洗浄流体吐出ノズル１８とを備え、透明カバー１７には把手１７ｂと円弧状の凹部１７ｃが設けられた構成とされている。 （もっと読む）

【課題】基板の処理内容に応じて基板を良好に処理することができる基板処理装置および方法を提供する。
【解決手段】第１支持ピンＦ１〜Ｆ１２が基板裏面に当接して基板を支持しながら基板表面に供給される窒素ガスによって基板Ｗを保持する第１保持モードと、第２支持ピンＳ１〜Ｓ１２が、基板Ｗが水平方向に移動した際に基板Ｗの端面に当接して基板Ｗの水平方向の移動を規制しつつ、基板裏面に当接して基板を支持しながら基板表面に供給される窒素ガスによって基板を保持する第２保持モードと、第１および第２支持ピンＦ１〜Ｆ１２、Ｓ１〜Ｓ１２が基板裏面に当接して基板を支持しながら基板表面に供給される窒素ガスによって基板を保持する第３保持モードを有し、基板の処理内容に応じて保持モードを選択的に切り換える。 （もっと読む）

【課題】基板上のパーティクルを効果的に除去することができ、しかも基板へのダメージを許容範囲とすることができる基板洗浄方法を提供すること。
【解決手段】基板の表面に液体と気体とからなる２流体スプレーを供給する工程（ステップ３）を含む基板洗浄方法であって、基板の表面に液体と気体とからなる２流体スプレーを供給する工程は、液体として純水とイソプロピルアルコールの混合液を用い、その混合液中のイソプロピルアルコールの濃度を１０〜６０体積％とし、パーティクルの除去率を８０％以上とする。 （もっと読む）

【課題】清浄装置の全体としての設置面積を縮小し得るとともに、被処理物に対する清浄媒体の吹付けの陰となる部分の少ない清浄装置を提供し、設置面の有効利用及び清浄もれの少ないより的確な清浄処理の実施を図る。
【解決手段】処理室１を挟んで両側に案内レール４上をそれぞれ往復移動可能な搬入側搬送台車５及び搬出側搬送台車６を配設するとともに、処理室１内に搬送台車上の被処理物８を持上げて支持する持上げ支持手段１０を設け、被処理物８を搬入側搬送台車５にて処理室１内に搬入して持上げ支持手段１０に受渡し、該搬入側搬送台車５を処理室１から退出させたうえで所期の清浄処理を実施し、その清浄処理済みの被処理物８を持上げ支持手段１０から搬出側搬送台車６に受渡して処理室１から搬出する。 （もっと読む）

【課題】荷室にタンクとポンプとポンプ駆動用内燃機関とを設置した洗浄作業用バン型自動車において、洗浄作業中のポンプの作動音や内燃機関の運転音が車外に大きく伝わることを効果的に回避でき、静粛性を求められる作業場所においても洗浄作業を支障なく行えるようにする。
【解決手段】荷室Ｃｒに、タンクＴと、ポンプＰと、ポンプ駆動用の内燃機関Ｅと、内燃機関Ｅから延びる排気管Ｅｘに介装される排気消音器Ｍとが収納、固定され、車体Ｆの、荷室Ｃｒ下方の床部Ｆｆには、ポンプＰの吐出側より延出する圧送管Ａを挿通させて該圧送管Ａを車外に引き出すための圧送管挿通部Ｈａと、排気消音器Ｍより下流側の排気管Ｅｘを挿通させて該排気管Ｅｘの下流端を車外の大気に開放するための排気管挿通部Ｈｂとが設けられる。 （もっと読む）

【課題】 過硫酸イオンを用いた洗浄システムにおいて、洗浄の継続が可能な洗浄システムを得るとともに、スループットの改善を図る。
【解決手段】 過硫酸溶液を洗浄液として被洗浄材３０を洗浄する枚葉式洗浄装置１と、電解反応により、溶液に含まれる硫酸イオンから過硫酸イオンを生成して過硫酸溶液を再生する電解反応槽２０、２５と、洗浄槽１と電解反応槽２０、２５との間で、過硫酸溶液を循環させる循環ライン１０ａ、１０ｂ、１１ａ、１１ｂと、被洗浄材３０に紫外光を照射する紫外線照射手段５を備える。硫酸溶液を繰り返し利用して過硫酸溶液を電解反応装置によってオンサイトで再生して洗浄に使用できる。洗浄に際し、洗浄液に紫外線が照射された硫酸ラジカルの生成が促進されて洗浄効果が向上する。作業時間を短縮してスループットを改善することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの清浄度を著しく向上させ、フォトマスクの異物や汚れに起因した、パターンの黒欠陥、白欠陥、及び規格外のパターンの発生などを回避するために行っている、清浄なフォトマスクへの交換頻度を減少させることのできるカラーフィルタ用フォトマスクの洗浄装置を提供する。
【解決手段】アルカリ洗浄液を用いてウエット洗浄を行う洗浄液洗浄部Ａ、光洗浄を行う光洗浄部Ｂ、表裏反転する反転部Ｃ、上記洗浄液洗浄部、光洗浄部、反転部の各々の間でフォトマスクを搬送する搬送部Ｄを具備する。紫外線の主となる波長が１６５ｎｍ〜１７５ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】 プラント解体工事における高圧水での洗浄時に、プラント内部に付着・堆積した残留汚染物を簡単かつ確実に除去できるようにする。
【解決手段】 高圧水での洗浄に先だって、プラント内に薬液ミストを充満させ所定時間放置する。このミストは希硫酸または水酸化ナトリウムを混合してなり、プラント内壁の付着汚染物を好ましく分解する。プラント内部には小型の送風機を設置して、微弱な出力でプラント内のミストを対流させる。薬液ミストにはさらに着色料を混合して、作業員がミストに暴露するのを防止するとともに、高圧水での洗浄漏れが生じないようにする。 （もっと読む）

【課題】同じチャンバー内で、特に、マスク基板の端面全体、及び、ペリクルが貼り付けられていた領域も確実に洗浄することができるマスク基板用の洗浄装置を提供する。
【解決手段】チャンバー２と、該チャンバー内に、少なくとも、前記マスク基板５を支持して回転可能な基板支持手段３と、該基板支持手段により支持された基板に対して洗浄液を供給する基板洗浄液供給手段６，７と、前記基板支持手段により支持された基板の上面５ａ及び端面５ｂに対して回転しながら又は回転せずに摺接可能な洗浄ブラシ８と、前記チャンバーから洗浄液の廃液を排出するための廃液口１０とを備え、前記基板支持手段は、前記マスク基板５の周囲を支持する複数の支持ピン４を有し、該支持ピンにより支持されている基板を該支持ピンに対して相対的に回転させ、該基板の周囲を他の位置で支持し直すことができるものであることを特徴とするマスク基板用の洗浄装置１。 （もっと読む）

【課題】スリット状の吐出口を有する吐出部を用いて円板状の基板の中央付近の多くの領域を均一に洗浄し、かつ、洗浄液の使用量を低減する。
【解決手段】基板洗浄装置１は、円板状の基板９を保持する保持部２、基板９を回転する回転機構３、吐出部４、および、吐出部４を走査方向に移動する走査機構５を備える。吐出部４はスリット状の吐出口４１を有し、洗浄液を基板９の主面上の直線状の吐出領域に吐出する。基板洗浄装置１では、基板９の回転を停止した状態で吐出領域を基板９の主面内で走査して洗浄する走査洗浄工程が、基板９を所定角度だけ回転させつつ繰り返し行われ、その後、吐出部４が基板９の外縁部に停止した状態で洗浄液を吐出しつつ基板９を回転させる回転洗浄工程が行われる。これにより、基板９の全体を洗浄しつつ中央付近を均一に洗浄し、かつ、洗浄液の使用量を低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 基板を洗浄、乾燥する際のウォーターマークの発生と当該基板に設けられたパターンの倒れの発生を抑制する基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】 基板処理装置１は、貯留された純水にウエハＷを浸漬して処理する液処理槽６（内槽３０）と、ウエハＷを乾燥させるチャンバ５と、液処理槽６とチャンバ５との間でウエハＷを搬送するためのウエハガイド４と、水蒸気とＩＰＡ蒸気をチャンバ５に供給する流体ノズル７１と、内槽３０に貯留された純水中に浸されたウエハＷをチャンバ５に向けて引き上げる前にチャンバ５内に水蒸気を供給し、ウエハＷを引き上げてチャンバ５に収容したら、水蒸気の供給を停止してＩＰＡ蒸気の供給を開始する制御部９９を有する。 （もっと読む）

【課題】小蓋及びその周辺を隈なく効率よく掃除することができる高圧水併用型小蓋掃除装置を提供する。
【解決手段】室炉式コークス炉の各炉室の押出側を密閉する炉蓋１の上部に設けられる小蓋２及びその周辺を掃除するための高圧水併用型小蓋掃除装置であって、小蓋口内面３を掃除する接触式掃除機Ｍと、接触式掃除機Ｍの芯合わせを行うための調芯手段１４と、小蓋口シート面４、ガス道５及びナイフエッジ６の先端部の全周を掃除する高圧水掃除装置Ｗと、を備え、前記調芯手段１４によって検出した接触式掃除機Ｍの作業開始の原点を、高圧水掃除装置Ｗの作業開始の原点としても用いる。 （もっと読む）

【課題】 洗浄後の金属製ワークにおける錆の発生を従来よりも抑えることが可能な金属製ワークの洗浄システム、洗浄方法及び製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】 本実施形態によれば、ＯＲＰが負の値となった酸化還元電位水により金属製ワークＷｋを洗浄することで、水道水を洗浄水として使用する従来の洗浄システム及び洗浄方法に比較して、洗浄後の金属製ワークＷｋにおける錆の発生を長期間に亘って抑制することができた。より具体的には、酸化還元電位水のＯＲＰを−５００ｍＶ以下及び／又は溶存水素量を１．０〜２．０ｐｐｍとし、ｐＨ７．０〜７．８とし、更に、ノズル２０２に供給される酸化還元電位水の水温を、３８度以下及び／又は、金属製ワークＷｋのうち酸化還元電位水が衝突している部分の温度を２８度以下とすることで、洗浄後の金属製ワークＷｋにおける錆の発生を、４日〜２５日間に亘って抑制することができた。 （もっと読む）