【課題】ウエーハの直径に数mmの誤差があっても吸引領域にウエーハを確実に吸引保持することができるチャックテーブルを提供する。
【解決手段】ウエーハを保持するチャックテーブルであって、多孔性部材によって円盤状に形成された主吸引保持部材と吸引保持部材の外周に隔壁を介して配設されウエーハの大きさの誤差を調整するための環状の補助吸引保持部材とからなる吸着チャックと、吸着チャックを嵌合する円形状の凹部を上面に備えた枠体とを具備し、枠体の底壁には主吸引保持部材に対応する位置に主吸引通路が設けられているとともに、環状の補助吸引保持部材に対応する位置に補助吸引通路が設けられており、補助吸引通路は盲栓が着脱可能に装着できるように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 ワークの表面に対し、接触による問題がない位置にパッドを接触させることができる保持具を低コストで提供することである。
【解決手段】 ベルヌーイの原理を利用して本体に設けた保持面１ａにワークＷを保持する保持具を前提とし、上記本体から外方に突出させた支持部材を設け、この支持部材には、ワークＷに接触して上記保持面１ａとワークＷとの間隔を保持するための複数のパッド１２を設け、上記本体よりも外方に突出するワークＷの内側にはパッド１２が接触しない構成にした。 （もっと読む）

【課題】 吸着部と隔離部との間の接合がより強い真空吸着部材を提供する。
【解決手段】 真空吸着部材（１）は、多孔質材料をそれぞれ含んだ複数の吸着部（３ａ，３ｂ）と、複数の吸着部（３ａ，３ｂ）の間に設けられる隔離部（４）とを備える。隔離部（４）は、少なくとも一部が吸着部の孔部内に入り込むことにより複数の吸着部（３ａ，３ｂ）に接合されている。真空吸着装置は、この真空吸着部材（１）と複数の吸着部（３ａ，３ｂ）を支持するとともに、内部に複数の吸着部（３ａ，３ｂ）に対応する複数の吸引孔（６）を有する支持部（５）を有する。 （もっと読む）

【課題】所望の形状に基板を変形でき且つ固定できる基板固定装置を提供する。
【解決手段】吸引孔１２が形成された基板支持面１５を覆うように載置板２を取り付けるとともに、吸引孔１２が連通する減圧室１１ａ〜１１ｃを負圧にする真空ポンプＰを設ける。そして、調整弁Ｖａ〜Ｖｃの開度を調整することによって、減圧室１１ａ〜１１ｃ内を異なる負圧とし、吸引孔１２の吸引力を部分的に異なるものとして、基板を変形させた状態で載置板２上に吸着固定する。ここで、所望形状に滑らかに基板を変形させる観点からは、前記弾性多孔質部材の厚みは０．１ｍｍ〜５ｍｍの範囲であるのが好ましい。また、前記弾性多孔質部材の弾性率は１０〜２５Ｎ／ｍｍ^２の範囲であるのが好ましい。さらに、前記弾性多孔質部材の気孔率は２０〜５０％の範囲であるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】基板を容易に離脱させることができる基板保持具および基板保持方法を提供する。
【解決手段】本発明の基板保持具は、Ｗ基板を真空吸引により保持する。この基板保持具は、基板Ｗの吸着面を有する基板保持ステージ１と、真空源および流体供給源に選択的に連結される流体通路１４，２３とを備える。基板保持具の吸着面は、凸部６ａ，６ｂ，６ｃによって囲まれた複数の閉区画１２を有し、流体通路１４，２３は、これらの閉区画１２にそれぞれ独立して連通する複数の連通路１４，２３ｂを有している。 （もっと読む）

【課題】切断精度を向上する。
【解決手段】基板テーブル４は、加工対象の基板１１０を切断予定線Ｌ１に沿って切断するレーザ加工装置に設けられ、基板１１０を固定する。複数の吸着孔Ｈ１、Ｈ２は、基板テーブル４の基板１１０と接触する表面に形成される。基板テーブル４は、切断予定線Ｌ１を含む帯状の第１領域Ｒ１と、第１領域Ｒ１を挟む第２領域Ｒ２に分割される。第１領域Ｒ１には第２領域Ｒ２よりも高い密度で吸着孔Ｈ１が形成され、第１領域Ｒ１に形成される吸着孔Ｈ１の径は、第２領域Ｒ２に形成される吸着孔Ｈ２の径よりも小さい。 （もっと読む）

【課題】さまざまな大きさおよび形状の物体を支持し、検査する真空テーブルおよび方法を提供する。
【解決手段】真空テーブルは、平坦な上面と第１の組の穴とを含む真空プレート１０と、空気が吸引される少なくとも１つの空洞部を含む支持要素３０と、支持要素３０と真空プレート１０の間に位置決めされた交換可能アダプタ２０とを備え、交換可能アダプタ２０が第２の組の穴を含み、第２の組の穴が、第１の組の穴の対応する穴よりも実質的に小さく、第２の組の穴と第１の組の穴が少なくとも部分的に重なり合い、真空プレート１０が交換可能アダプタ２０よりも実質的に厚い。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、部分吸引、すなわち、被吸着物の寸法・形状に合わせて、吸着部材表面のうち必要な領域のみの吸引を可能とする真空吸着盤を提供することを課題とする。
【解決手段】 被吸着物と接触する吸着面に多数の吸着穴を設けた真空吸着盤であって、通気穴を有する第一の永久磁石を前記吸着穴の各々の内部の底部に固定し、第二の永久磁石を、前記吸着穴内部において可動であるように前記第一の永久磁石の上部に配置し、前記第一の永久磁石と前記第二の永久磁石の対向面が互いに反発する磁極を有することを特徴とする、前記真空吸着盤。 （もっと読む）

【課題】特異形状の基板を、一般的な吸着テーブルを使用しながらも、十分な吸引力、かつ低コストで吸着、保持することを可能とする。
【解決手段】通気性を有さないチャックテーブル３１の裏面に、外周部を残して凹所３５を形成し、凹所３５の底面から表面の保持面３３にわたって、厚さ方向のみに連通する多数の通気部材３６を埋設し、吸着エリアを形成する。凹所３５に、保持する基板Ｗ１と同寸・同形状の孔５１ａが形成された目張り部材５１ａを嵌合して底面に密着させ、基板Ｗ１の非載置領域３３ａに存在する通気部材３６を塞ぐ。この状態でチャックテーブル３１の裏面側を真空引きし、基板Ｗ１のみに対して真空引き作用を生じさせる。 （もっと読む）

【課題】比較的に簡単な方法で吸着エリアを変えることが可能な真空吸着テーブルを提供する。
【解決手段】テーブル本体２０の径方向ｄ１が、テーブル受け部３０の吸引路３４の延び方向に一致している場合、当該最大径ｄ１の同心円上の両端吸着孔２２，２２、及び、それら両端吸着孔２２，２２の間に位置する吸着孔２２だけが吸引路３４に連通する。従って、最大径ｄ１の同心円上の両端吸着孔２２を囲む領域Ｅ１が、ワークＷを吸着可能な吸着エリアとなる。回転駆動機構１２がテーブル本体２０をテーブル受け部３０に対して相対的に回転させると、両端吸着孔２２，２２が径ｄ４の同心円上に位置する吸着孔群が、吸引路３４に対応した位置にあり、当該径ｄ４の同心円上の両端挿通孔２２を囲む領域Ｅ２が、ワークＷを吸着可能な吸着エリアとなる。 （もっと読む）

【課題】被加工材の端面加工を容易にするとともに、設備コストを節減することができる易削性被加工材の加工テーブルを提供する。
【解決手段】易削性の被加工材２９を加工する際に載置して固定するための加工テーブル１であって、ブロア２１により負圧が与えられる負圧空間４が上面に開放するよう形成された負圧生成基台５と、上記負圧生成基台５上に上記負圧空間４を覆うように載置され、上記負圧空間４に連通する連通路１９を有する吸引凹部１８が複数形成されたアタッチメント板６を備え、上記アタッチメント板６に対し、マウント部材２０と多孔質吸引板３０とを切り換えて設備し、被加工材２９の吸引固定方法を変更するように構成した。 （もっと読む）

【課題】外周部に環状の補強部が設けられ凹部が形成されウエーハであっても破損させることなく吸引保持することができるウエーハの保持パッドを提供する。
【解決手段】表面に複数のデバイスが形成されたデバイス領域とデバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを備えたウエーハを保持するウエーハの保持パッドであって、外周余剰領域に対応する環状の吸引保持面を備え該吸引保持面に吸引孔が開口された保持部と、保持部を支持する支持部とを具備している。 （もっと読む）

【課題】真空引き保持具への被加工物の取り付けを簡便に行えるようにし、被加工物の形態や最終的な加工状態に合わせて取り付けなければならない煩雑さを解消する。
【解決手段】固定盤２の表面部分に球面状の凹部４を複数設け、これらの底面に垂直吸引孔９を設けて内部の水平吸引孔７ａ，７ｄに繋げる。水平吸引孔７ａ，７ｄの出口に空気配管プラグ８ｂを固定し真空ポンプに繋ぐ。固定盤２の上一面に薄くて曲がり易いシリコンシート３を敷き、この上に被加工物Ｗを置く。加工するときは真空ポンプを作動させて凹部４から空気を排出すると、シリコンシート３は凹部４の球面に吸着され、シリコンシート３と被加工物Ｗとの間の真空度が高まり、被加工物Ｗがシリコンシート３を介して固定盤２に固定される。 （もっと読む）