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Fターム[3C034DD15]の内容

研削盤の構成部分、駆動、検出、制御 (11,657) | 目的 (2,044) | テーパ補正 (21)

Fターム[3C034DD15]に分類される特許

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【課題】中心から外周に向けて徐々に厚くなるように保護膜を被覆する保護膜被覆機構を備えるとともに、被加工物を均一な厚みに研削することができる研削装置を提供する。
【解決手段】被加工物10を保持する円錐状の保持面を備えたチャックテーブル532と、研削手段と、研削送り手段と、支持面に液状樹脂を滴下し被加工物を回転させて支持面に保護膜210を被覆する保護膜形成手段とを具備する研削装置であって、保護膜210の厚みを計測する厚み計測手段と、対面態を調整する対面状態調整手段と、保護膜210の厚み情報を記憶するメモリを備え、厚み情報に基づいて対面状態調整手段を制御する制御手段とを具備し、制御手段は、保護膜210の厚み情報に基づいて保護膜210の外周から中心に至る勾配を求め、外周から中心に至る勾配とチャックテーブル532の円錐状の保持面における外周から中心に至る勾配に基づいて対面状態調整手段を制御する。 (もっと読む)


【課題】設備を大型化することなく、短時間で高精度な心出しを行うことができる心出し装置を提供すること。
【解決手段】レンズLを心出しする心出し装置1Aを構成するにあたり、レンズ保持具2と、レンズを回転させるときの回転中心線CLと直交する面内でレンズ保持具を変位させる面内方向移動機構(XYステージ4a)、および回転中心線と直交する面に対するレンズ保持具の傾きを調整する傾き調整機構(αβステージ4b)を有する位置調整部4Aと、先端に当該位置調整部が取り付けられたレンズ保持軸5と、回転中心線に対するレンズの偏心を一方のレンズ面La側から検出する偏心検出部6Aと、回転中心線に対するレンズの面振れを他方のレンズ面Lb側から検出する面振れ検出部7とを設ける。 (もっと読む)


【課題】加工熱が発生してもチャックテーブルを常に水平に保持することが可能な加工装置を提供する。
【解決手段】被加工物を保持するチャックテーブル44と、加工手段26とを備えた加工装置であって、該チャックテーブル44を固定的に支持する固定支持部80と、該チャックテーブル44を上下方向に移動可能に支持する可動支持部90と、該固定支持部80の温度上昇値を計測する計測手段96と、該可動支持部90の温度上昇値を計測する計測手段98と、温度上昇値に対する該保持面の高さ位置変化量データを記憶した記憶手段102と、該計測手段96,98で計測された温度上昇値と、該記憶手段102に記憶されている該高さ位置変化量データに基づいて該第1及び第2可動支持部90を駆動して、該保持テーブル44の傾きを該加工手段26と平行に補正する制御手段100と、を具備したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】軽量・コンパクト・簡素な構成の変位センサ装置を、既存の設計によるスピンドルヘッドに容易に装備できるスピンドル装置を提供する。
【解決手段】このスピンドル装置は、スピンドルヘッドのハウジングの外に突出した回転軸のクイル303aに対向する変位センサ装置20を備えたものであり、この変位センサ装置20は、導電部を渦巻状に形成したコイルを有し、かつ、その渦巻面をクイル303aと対向させて当該クイルのまわりを取り囲むフレキシブルプリント基板22によって構成される。 (もっと読む)


【課題】板状被加工物に変形が生成されている場合には、変形を自動的に強制して吸引保持させることができる加工装置を提供する。
【解決手段】搬送機構12は搬送プレート32と、搬送プレート32の下面に配設され、板状被加工物2を吸引保持する吸引保持板34、及び吸引保持板34を囲繞し且つ吸引保持板34の下面を越えて突出する弾性囲繞部材36と含む。吸引保持された板状被加工物2が支持機構10の吸引支持板26上に位置されると、搬送機構12の弾性囲繞部材36の下端が支持テーブル24の上面に接触されて、密閉空間Rが形成され、板状被加工物2の裏面と吸引保持板34の表面との間に間隙が生成されている場合には、吸引されることによって密閉空間Rに負圧が生成され、これによって大気圧により搬送プレート32が下降し弾性囲繞部材36が収縮され、板状被加工物2が吸引支持板26上に押圧され、板状被加工物2の変形が矯正される。 (もっと読む)


【課題】被研削物を研削面に押し当てて研削する際、被研削物の姿勢を適切に制御し、研削精度を向上できる研削装置、研削装置用の研削ヘッド及び研削方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被研削物を研削面に押し付けて研削する研削装置用の研削ヘッドであって、前記被研削物を表面に保持する弾性の保持手段と、前記保持手段を研削方向に沿って引っ張るための引張手段と、前記保持手段を介して前記研削面に対して前記被研削物を押し付ける押圧手段と、を備える。 (もっと読む)


【課題】磁気ヘッド用の研磨装置及び研磨方法の提供。
【解決手段】回転するラップ加工定盤14と、該ラップ加工定盤14にロウバー13を空気圧により加圧するエア加圧機構部11と、圧縮空気をエア加圧機構部11に供給する加圧力制御部70と、エア加圧機構部11が供給する圧縮空気の加圧力を加圧制御信号を用いて指令するラップ制御部100とを備え、加圧機構部11がラップ制御部100より目標とする加圧力に対応した値の加圧制御信号V1が出力されたとき、標準応答時間経過後に目標加圧力により被研磨部材を加圧する研磨装置であって、目標加圧制御信号V1の1.4倍の第1加圧制御信号V2を加圧力制御部70に出力した後、目標加圧制御信号の値に戻す第2加圧制御信号V1を加圧力制御部70に指令することにより、応答時間を短縮するもの。 (もっと読む)


【課題】ウェーハの裏面を研削する研削加工装置において、研削手段の回転軸の傾きの調整を容易にすることで、生産効率およびウェーハの品質の向上を図る。
【解決手段】研削ユニット30に回転軸30aを傾かせる傾斜調整機構100と、様々な研削条件に対応した角度調整値を記憶する研削条件記憶手段110を設ける。ウェーハ1の研削条件を研削条件記憶手段110で選択することで、研削ユニット30の角度調整値が読み取られる。この角度調整値に基づいて、傾斜調整機構100の、前後調整用スペーサ101と左右調整用スペーサ105とを動かすことで、研削ユニット30がウェーハ1の研削条件に対応した傾斜角度に調整される。研削ユニット30の角度を調整した後、研削ユニット30によりウェーハ1を研削することで、所望の厚さのウェーハ1が得られる。 (もっと読む)


【課題】被加工物を高い精度で研磨することのできるラッピング装置及びラッピング方法を提供する。
【解決手段】アダプタ12aは、ラップベース11により支持された第1の支持部と、被加工物100の被加工面がラッピング面に接するように被加工物が取り付けられる第2の支持部と、第1の支持部と第2の支持部との間に延在するアーム部120aとを有する。高さ調整機構16は、ラッピング面からアダプタの第1の支持部までの高さを変更する。アダプタ12aの傾きを検出する傾き検出器18がアダプタに設けられる。高さ調整機構により第1の支持部の高さを調整することで、ラッピング面に対するアダプタ12aの傾きを調整する。 (もっと読む)


【課題】チャックテーブルの傾き角度を調整してウェーハ厚さを所望の状態に調整可能な研削加工装置において、ウェーハ厚さを把握しながらウェーハを研削する工程での、厚さ測定にかかる手間を軽減して生産効率を高める。
【解決手段】二次研削位置の近傍に、二次研削されたウェーハ1のみの厚さを径方向に複数ポイント測定する仕上げ厚さ測定装置80を配設し、該装置80で測定されたウェーハ1の厚さからウェーハ1の径方向の厚さ分布を把握する。把握した径方向の厚さ分布に基づき、傾き角度調整機構70によってチャックテーブル20を傾斜させて砥石37に対するウェーハ1の角度を適宜調整し、二次研削後のウェーハ厚さを所望の状態にする。 (もっと読む)


【課題】種々の形状のワークの修正研磨の行えるワークの片面研磨装置を提供する。
【解決手段】ワークの片面研磨装置は、ワーク保持ヘッド20と、上面に研磨パッドが貼付された定盤とを具備し、ワーク保持ヘッド20のヘッド本体22内に形成された加圧室33と、該加圧室33に加圧流体を供給する加圧源と、加圧室33内に位置してヘッド本体22に取付けられ、保持プレート26の少なくとも周方向の複数個所を部分的に押圧する複数のアクチュエータ40a、40c、40eと、該アクチュエータの保持プレート26への押圧力を調整する調整手段とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】試料の研磨面における研磨痕や応力ムラの発生を抑え、試料表面の極めて広い範囲において十分な平坦度が得られて分析評価の可能な領域の大幅な拡大化を実現し、信頼性の高い薄膜化された試料を得る。
【解決手段】試料保持部2は、試料10が固定される試料台11と、試料台11を研磨表面1aに対して移動自在とし、試料台11を研磨表面1a内の任意の位置で固定する試料台設置機構と、試料台11に固定された試料10の研磨表面1a内における研磨方向に対する設置角度を調節する角度調節機構13と、試料台11を研磨表面1aに対して水平となるように調節する水平調節機構14とを備えて構成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は、溝付きローラの位置調整を容易に行うと共に、ワークの両面を高精度に加工することを課題とする。
【解決手段】ワーク27の第1の面27Aの第1の所定位置F1〜F5からセンサまでの第1の距離データ及びワーク27の第2の面の第2の所定位置M1〜M5からセンサまでの第2の距離データに基づいて、複数の溝付きローラ62,63,64,65,66の溝62A,63A,64A,65A,66Aにより形成されるローラ拘束面Jが所定の面に対して略平行となるように、複数の溝付きローラ62,63,64,65,66の軸方向の移動量G2又は移動量G3を求め、この移動量G2又は移動量G3に基づいて、複数の溝付きローラ62,63,64,65,66の位置を自動調整後に、ワーク27の両面を加工する。 (もっと読む)


【課題】研磨対象物である基板が外れてしまうことを防止し、安定した研磨を実現することができる基板保持装置を提供する。
【解決手段】トップリング1は、ウェハを保持してウェハを研磨パッド101に押圧するトップリング本体2と、トップリング本体2の外周部に設けられ、研磨パッド101を押圧するリテーナリング3とを備えている。リテーナリング3は、磁性体からなるピストン406と、ピストン406に当接する面に磁石420を有するリング部材408とを備えている。 (もっと読む)


【課題】3点支持式の薄片研摩装置の板厚分布の修正を研摩を中断することなく、自動的に行なう。
【解決手段】研摩ヘッド2に固定され、先端が研摩定盤に接して研摩ヘッド2と研摩定盤の間隔を制御可能に保持するアクチュエータ4a付きの2個のマイクロメータと、研摩ヘッド2の研摩試料10上に設けられ、研摩試料10の厚さを測定する3個の膜厚測定器3a〜3cとを備え、膜厚測定器3a〜3cの測定値に基づき研摩試料10の平行度を修正するようにアクチュエータ4aを制御する。研摩中に研摩試料10の板厚分布を3個の膜厚測定器3a〜3cで検出し、その板厚分布を研摩中にアクチュエータ4aを制御して修正するから、平行度の高い薄片試料を作製することができる。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハの研削工程時の研削条件の調整を、非熟練作業員でも簡便かつ確実に行うことができる半導体ウェーハの製造方法を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハの製造方法であって、少なくとも、原料ウェーハを研削する研削工程を有し、該研削工程により研削されたウェーハ面のナノトポグラフィを測定し、このウェーハ面の複数の直径または半径上のナノトポグラフィ測定値を平均して平均値成分を求め、前記平均する前のナノトポグラフィ測定値から前記平均値成分を差し引いて残差成分を求め、前記平均値成分および残差成分に基づいて前記研削工程の研削条件を調整することを特徴とする半導体ウェーハの製造方法。 (もっと読む)


【課題】半導体ウェーハの研削工程時の砥石のチルト/シフト調整を、非熟練作業員でも定量的に簡便かつ確実に行うことができる半導体ウェーハの製造方法および研削装置を提供する。
【解決手段】半導体ウェーハの製造方法であって、少なくとも、原料ウェーハを砥石で研削する研削工程を有し、該研削工程により研削されたウェーハ面のナノトポグラフィを測定し、このウェーハ面の複数の直径または半径上のナノトポグラフィ測定値を平均して平均値成分を求め、該平均値成分の凹凸量と該凹凸を平坦化するための前記砥石のチルト調整量および/またはシフト調整量との相関関係を計測して関係式を予め求め、該予め求めた関係式に基づいて以後の研削工程において前記砥石のチルト調整および/またはシフト調整を行うことを特徴とする半導体ウェーハの製造方法および研削装置。 (もっと読む)


【課題】簡単な構成で容易に板状被研削物を均一な厚さに研削する。
【解決手段】研削砥石27がチャックテーブル10の回転中心X上に載るようにチャックテーブル10の回転中心Xと研削ホイール25の回転中心Yとをオフセットして配置する。第1のエアーベアリング13に1対のチャック側圧力ポートを設け、第2のエアーベアリング26に1対の砥石側圧力ポートを設ける。第1のエアーベアリング13のハウジング12は、ウェーハ9の研削砥石27に対する当たり面の傾斜角を調整可能に構成する。1対のチャック側圧力ポートと1対の砥石側圧力ポートとで検出した圧力差PAC、PBWに基づいて、第1のエアーベアリング13のハウジング12を傾斜させる。 (もっと読む)


【課題】 大口径ウェハの研磨においても、仕上がり研磨面の平坦性を向上させることができる保持ヘッド、研磨装置および研磨方法を実現する。
【解決手段】 本発明の保持ヘッド、研磨装置および研磨方法は、研磨パッドを有する研磨テーブルとウェハ14とを相対的に動かし、研磨剤を供給しながらウェハ14の研磨面15を研磨パッドに接触させることにより研磨面15に研磨処理を施す研磨装置の保持ヘッド11と、研磨面15に対向するウェハ14の裏面近傍の保持ヘッド11内部に設けられた空洞A〜空洞Cを満たす温水12a〜12cと、研磨面15における温度プロファイルが所望の形状になるよう温水12a〜12cの温度を制御する温度制御装置12を有する。 (もっと読む)


【課題】移動に際して移動体の姿勢が移動軸方向に対して傾き難くすることができる移動体構造、及び、ワークに高精度な研削加工を施すことができる研削盤を提供する。
【解決手段】基台(ベッド)10と、基台10に所定の移動軸方向Xに移動自在に組付けられた移動体(砥石台)20と、基台10に対して移動体20を移動させる駆動装置12と、移動体20の移動軸方向Xに対する傾きを監視する姿勢監視手段(リニアスケール)13,14と、姿勢監視手段13,14での監視結果に基づき、移動軸方向Xの軸線であり、駆動装置12から移動体20に駆動力が付与される作用点を含む軸線である駆動軸線Kの線上以外の部位において、基台10と移動体20との間に制動力または推進力を付与することで、移動軸方向Xに対する移動体20の傾きを修正する姿勢修正手段(制動装置)40とを備える。 (もっと読む)


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