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Fターム[3H131BA03]の内容

非容積形送風機 (1,972) | 真空ポンプの構成の目的 (607) | 分子の付着、堆積防止 (34)

Fターム[3H131BA03]に分類される特許

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【課題】反跳したパーティクルの処理室内への侵入を防止することができる反射装置を提供する。
【解決手段】反射装置36は、排気マニホールド16の内部に配置され、TMP18に対向するように配置された円板状の第1の反射面部材41と、該第1の反射面部材41の周縁に配置され且つTMP18の回転軸43を指向するように面角度が設定された円環状の第2の反射面部材42とから成る反射板38を備える。 (もっと読む)


【課題】ねじ溝ポンプ及び又はねじ溝ポンプ部を有する複合分子ポンプにおいて、ねじ溝
ポンプ部のロータとステータとの間の微小な間隙を更に狭めることなしに、高いポンプ効
率が得られるようにする。
【解決手段】ねじ溝ポンプ部3のロータ3aの表面及び該ロータ表面と対向するステータ
3bの表面の少なくとも一方の表面にセラミックスの粒子のブラストを行なって、該表面
に0.01乃至0.1ミリメートルの高さの微細な凹凸3a1を有する粗表面に形成した
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【課題】排気効率の低下を防止することができる粒子捕捉ユニットを提供する。
【解決手段】パーティクルPが飛来する空間に晒されるパーティクルトラップユニット40を構成する第1のトラップユニット40aは、複数の第1のステンレス鋼44aからなる第1のメッシュ状層44と、複数の第2のステンレス鋼45aからなる第2のメッシュ状層45とを備え、第1のステンレス鋼44aの太さは第2のステンレス鋼45aの太さよりも小さく、第1のメッシュ状層44における第1のステンレス鋼44aの配置密度は第2のメッシュ状層45における第2のステンレス鋼45aの配置密度よりも高く、第2のメッシュ状層45は第1のメッシュ状層44及びパーティクルPが飛来する空間の間に介在し、第1のメッシュ状層44及び第2のメッシュ状層45は焼結によって焼き固められて互いに接合している。 (もっと読む)


【課題】反跳したパーティクルの処理室内への侵入を防止することができる反射装置を提供する。
【解決手段】反射装置36は、排気マニホールド16の内部に配置され、TMP18に対向するように配置された円板状の第1の反射面部材41と、該第1の反射面部材41の周縁に配置され且つTMP18の回転軸43を指向するように面角度が設定された円環状の第2の反射面部材42とから成る反射板38を備える。 (もっと読む)


【課題】効率的に真空ポンプを加熱できる真空ポンプを提供する。
【解決手段】吸気口を有するケーシングと、回転体に設けられた円筒状ロータ部と、円筒状ロータ部の外周側に隙間を介して配置された円筒状のステータとを含むドラッグポンプ部と、排気口を有するベースと、ベースに埋設した、ステータを加熱する抵抗加熱ヒータとを備える。 (もっと読む)


【課題】粘性流れ範囲内においてのみならず、分子流れ範囲内においてもまた、圧縮および排気速度を有する真空ポンプ段を提供する。
【解決手段】粘性流れ範囲内においてのみならず、分子流れ範囲内においてもまた、圧縮および排気速度を有する真空ポンプ段を提供するために、ロータ部分が構造要素(114、116)を有し、これらの構造要素により、分子流れ範囲内においてはゲーデ(Gaede)に基づくポンプ作用が発生され、およびより高い圧力範囲内においてはサイド・チャネル原理に基づくポンプ作用が発生されることが提案される。 (もっと読む)


【課題】ポンプ内部の反応生成物の堆積を防止する。
【解決手段】ターボ用コントローラ50は、定格回転数のDCモータ42の電流値が所定の閾値を超えたか否かを判断する。閾値は、反応生成物がターボ分子ポンプ本体1に流入した際の、ターボ分子ポンプの負荷に対応しており、電流値と閾値との比較によって、反応生成物流入を常時監視し得る。反応生成物のターボ分子ポンプへの流入が開始すると、電流値は急激に上昇し、閾値を超える。内部温度がポンプ設定温度閾値以上であれば、反応生成物の堆積は生じることはないが、ポンプ設定温度閾値未満であれば堆積が生じる可能性がある。そこで、ターボ用コントローラは、定格回転数運転時に電流値が閾値以上となり、かつ内部温度が閾値未満のときに、インターロック動作を実行する。 (もっと読む)


【課題】付着性粒子がポンプ内に付着するのを低減し、ロータ回転への影響を排除することができるターボ分子ポンプの提供。
【解決手段】ターボ分子ポンプは、多段の回転翼32が形成され、高速回転するロータ30と、回転翼32に対してポンプ軸方向に交互に配置された複数の固定翼33と、ポンプ吸気口210とロータ30との間に設けられ、気体通過領域を形成するように配置されると共に付着性粒子を捕捉する複数のバッフルプレート41と、複数のバッフルプレート41を冷却する冷却ユニット42と、を備える。付着性粒子は冷却されたバッフルプレート41に衝突すると付着するので、付着性粒子がポンプ内部へ侵入するのを抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】回転体のアンバランス修正作業を効率良く行うことができるアンバランス修正方法の提供。
【解決手段】本発明によるアンバランス修正方法では、被膜材料を含む電極の一部を放電により溶融して回転体に堆積させ、回転体のアンバランスを修正するものであって、回転体の動的不釣り合いを測定するアンバランス測定工程(S10)と、測定された動的不釣り合いに基づいて放電時間および回転体に対する電極の移動範囲を制御して、被膜材料から成るアンバランス修正用被膜を回転体に形成する被膜形成工程(S40)と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ねじ溝ポンプ部を有する分子ポンプにおいて、ねじ溝ポンプ部のステータの温度を所定の高温に保つことができると共に排気ガス中の付着凝固性を有するプロセスガスが分子ポンプ内の排気ガス通路に凝着せず、しかも排気ガスの熱が該分子ポンプのベース部等に伝達することがなく、更に分子ポンプの全長を短くすることができるような構造の分子ポンプを提供する。
【解決手段】ねじ溝ポンプ部ロータ4bの外側にステータ3aを有するねじ溝ポンプ部3をベース部8上に立設して有する分子ポンプ1において、該ねじ溝ポンプ部3を囲繞するケーシング5と前記ステータ3aとの間に円筒状の排気ガス室6cを介在させると共に前記ケーシング5の側壁部5cに排気口5aを設けて、前記ねじ溝ポンプ部3の排気ガスが前記排気ガス室6cを介して前記排気口5aへ連通するように形成した。 (もっと読む)


【課題】被処理体に付着する異物粒子数を低減させた真空処理装置を提供する。
【解決手段】排気系の調圧バルブとターボ分子ポンプの間の空間に、中心部にガスが通るための通路を設けた部材と、該部材の外周にターボ分子ポンプの回転ブレードと逆向きに傾斜した固定ブレードを複数枚設置して構成された異物粒子飛散防止ユニットを設置した。 (もっと読む)


第1ポンピングステージと第2ポンピングステージは、入口から出口までの流路を形成し、この流路は、第1入口に入った分子が第1及び第2ポンピングステージを通って出口まで流れるように、且つ第2入口に入った分子が中間ステージ容積及び第2ポンピングステージを通るように配置されており、
第1及び第2ポンピングステージの各々は、ターボ分子サブステージ及び分子吸収サブステージを備えている。 (もっと読む)


【課題】真空ポンプの下流側から上流側へ気体を一部戻すことで、真空ポンプの排気性能を調整する技術を前提に、可能な限り生成物の悪影響を低減させることができる真空ポンプを提供すること。
【解決手段】逆流経路50の逆流経路入口52を圧縮段204に設けてあり、逆流経路出口54を排気段202に設けてある。少なくとも1段の固定翼40又は回転翼32が、逆流経路入口52より排気口90側に存在している。また、逆流経路50の逆流経路出口54の位置が、少なくとも1段の回転翼32又は固定翼40が吸気口10側に存在してる位置としている。換言すると、逆流経路出口54は、少なくとも1段の回転翼32又は固定翼40より、下流(排気口90側)に設置してある。 (もっと読む)


【課題】モレキュラードラッグポンプ部における反応生成物の堆積を防止する。
【解決手段】ロータ3は、高真空側に設けられた複数段の回転翼31と、低真空側に設けられた回転円筒部32とを有し、ステータは、回転翼31との間で第1のガス通路PA1を形成する複数段の固定翼21と、回転円筒部32との間で略円環状の第2のガス通路PA2を形成する固定円筒部24とを有する。そして、第2のガス通路PA2の入口部にポンプ本体Tの外部からパージガスを供給するパージガス供給手段26〜28,13,81〜83を備える。 (もっと読む)


【課題】 分子ポンプのねじ溝真空ポンプ部から排出された排気ガスが、該分子ポンプの冷却されているベアリングハウジング部に触れて凝縮し、該ベアリングハウジング部の外周部に凝着することがあるので、このような不具合を防止する構造の分子ポンプを提供する。
【解決手段】 円筒状のロータ14の円筒部14aの外側及び内側にそれぞれステータ13as及び13bsを配置してねじ溝ポンプ部13を形成し、該ねじ溝真空ポンプ部13の内方にベアリングハウジング部5を設けた複合分子ポンプ11において、該ベアリングハウジング部5の外周部に少許の間隙6cを存して設けた熱遮蔽板6で該ベアリングハウジング部5を覆い、該熱遮蔽板6と前記内側ステータ13bsとの間を排気ガス通路7に形成すると共に、前記外側ステータ13asを加熱する電熱ヒータ10aを設けた。 (もっと読む)


【課題】真空ポンプ等の構成変更等をすることなく、また真空ポンプ等の機械的劣化を引き起こすことなく、稼働停止後における真空ポンプの確実な再起動を容易に可能とし、信頼性の高い真空処理を実現する制御装置及び真空処理装置を提供する。
【解決手段】制御装置10は、例えば制御部3に対して外付けで着脱自在に接続されるものであり、制御部3の補助真空ポンプ2の稼働制御に言わば割り込んで、回転停止期間内において、上記した停止期間運転モードを挿入し、当該停止期間運転モードを実行する。停止期間運転モードでは、回転停止期間内において、補助真空ポンプ2のロータ12の1回又は複数回の間欠運転が規定されている。 (もっと読む)


【課題】真空処理室内での異物の混入を効果的に抑制することができる真空ポンプ、半導体装置の製造装置及び半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】固定翼領域11に、ハウジング1の外側からハウジング1の内側を加熱する第1のヒータ21が設けられ、スペーサ領域12に、ハウジング1の外側からハウジング1の内側を加熱する第2のヒータ22が設けられている。ヒータ21による加熱の設定温度は95℃であり、ヒータ22による加熱の設定温度は115℃である。この設定温度は温度制御部により制御される。温度制御部は、固定翼領域11及びスペーサ領域12に夫々設けられた温度センサに基づいて設定温度を制御する。 (もっと読む)


【課題】ロータ温度をより正確に推定することができるターボ分子ポンプの提供。
【解決手段】ターボ分子ポンプにおいて、ロータ2の温度とモータ6の平均電流との相関関係が予め記憶部35に記憶されている。そして、演算部31は、モータの平均電流を算出し、算出されたモータ平均電流と相関関係とに基づいてロータ2の温度を推定する。記憶部35には固定要因(ターボ分子ポンプの設定温度、圧力調整バルブの設定温度、ガス種)の異なる複数の相関関係が記憶されており、設定部36により入力設定された固定要因に応じた相関関係を用いる。 (もっと読む)


【課題】 ターボ分子ポンプに取り付けられた電気ヒータの前段に絶縁トランスを設置するに際して、ヒータOFFにおける絶縁トランスの残留磁束をほぼ零にする。さらに、ヒータON時における突入電流を防止する。
【解決手段】 ヒータ129をトライアック78の位相制御でソフトOFFさせることにより、ヒータOFF時における絶縁トランス80の残留磁束をほぼ零まで逓減させる。また、ヒータ129をONする瞬間には、トライアック78を位相制御でソフトONさせることにより、ヒータON時における絶縁トランス80の磁束飽和を防止し、このことにより突入電流の発生を阻止する。 (もっと読む)


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