【課題】 極薄の基板を用いた有機電子デバイスを簡便な方法で製造すること。
【解決手段】 基板の第一の表面上に高分子溶液から高分子膜をキャスティング成膜する第一工程と、基板の第一の表面の裏側にある第二の表面をエッチングして基板の厚みを薄くする第二工程と、キャスティング成膜した高分子膜の表面に有機電子デバイスを形成する第三工程を用いて有機電子デバイスを製造することとした。これにより、可撓性を有する有機電子デバイスの高性能化、高信頼性化が実現できる。 （もっと読む）

【課題】取り扱いが容易で、光学的特性に優れ水及び酸素の捕捉能が高いトップエミッション型有機ＥＬデバイス用の捕捉剤を提供すること。
【解決手段】
トップエミッション型有機ＥＬデバイス用捕捉剤は、下記式で表される化合物からなっている。
Ｒ^１Ｒ^２Ｒ^３Ｍ
但し、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、各々、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、環式アルキル基、アリール基、アルコキシ基、カルボキシル基、チオレート基及び２級アミノ基からなる群より選ばれた１種のものであって、互いに同じでも異なっていてもよいが、補足剤として１つ以上のＭ−Ｃ結合を有するように選ばれたものである。ここで、Ｍはアルミニウム又はボロンである。 （もっと読む）

【課題】封止材を接着剤を介して固着する密着タイプの封止方法で封止した有機ＥＬパネルを製造する時に、有機ＥＬ素子の性能劣化を生じさせない有機ＥＬパネルの製造方法及び有機ＥＬパネルの提供。
【解決手段】基板上に第１電極と、前記第１電極の上に形成された発光層を含む少なくとも１層の有機化合物層を有する有機エレクトロルミネッセンス層と、第２電極とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子を接着剤層を介して封止部材により密着封止構造を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第２電極は少なくとも２層を有する多層構成を有し、少なくとも２回に分けて積層し形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】封止材を接着剤を介して固着する密着タイプの封止方法で封止した有機ＥＬパネルを製造する時に、有機ＥＬ素子の性能劣化を生じさせない有機ＥＬパネルの製造方法及び有機ＥＬパネルの提供。
【解決手段】基板上に第１電極と、発光層を含む少なくとも１層の有機化合物層を有する有機エレクトロルミネッセンス層と、第２電極とをこの順番で有する有機エレクトロルミネッセンス素子の、前記第２電極の上及び周面を接着層を介して封止部材で密着封止した密着封止構造を有する有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法において、前記第２電極と前記接着層との間に、隣接する層との接着力が前記第２電極と前記有機エレクトロルミネッセンス層との接着力よりも低い接着界面を有する応力緩和層を形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を使用した薄型・軽量な有機ＥＬ素子を得る有機ＥＬ素子の製造方法及びこの製造方法で製造された有機ＥＬ素子の提供。
【解決手段】ガラス基板の上に第１電極と、発光層を含む少なくとも１層の有機化合物層を有する有機エレクトロルミネッセンス層と、第２電極層とを有する少なくとも２つの有機ＥＬ素子を、接着剤を介して可撓性封止部材により密着封止した構造を有する有機ＥＬ素子の製造方法において、前記可撓性封止部材に前記有機ＥＬ素子の外部取り出し電極に対応する箇所に少なくとも１つの孔を設ける孔形成工程と、前記接着剤の配置工程と、前記接着剤を介して前記可撓性封止部材と前記有機ＥＬ素子とを貼合する貼合工程と、前記接着剤の硬化処理工程と、前記有機ＥＬ素子を分断する分断工程とを有することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】製造が簡単で歩留まりが高く、ドライプロセス以外にウエットプロセスを混在させて材料選定の制限を少なくすることができるカラー表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電性基板１１上に赤色透明有機ＥＬ発光層１２を形成し、その上に透明電極１３を形成した赤色ＴＯＬＥＤ１０と、透明導電性基板２１上に緑色透明有機ＥＬ発光層２２を形成し、その上に透明電極２３を形成した緑色ＴＯＬＥＤ２０と、透明導電性基板３１上に青色透明有機ＥＬ発光層３２を形成し、その上に透明電極３３を形成した青色ＴＯＬＥＤ３０とを各透明導電性基板１１、２１、３１と、各々重ねて積層する。 （もっと読む）

【課題】金属配線の腐食を抑え、信頼性を高めることができる表示装置を提供する。
【解決手段】駆動パネル１０は、駆動用基板１１上に回路部，被覆層１３および表示部を順に有し、封止パネル２０と接着層３０を間にして貼り合わせられた貼合領域を有する。駆動パネル１０の一辺は封止パネル２０からはみ出した端子領域となっており、この端子領域には、回路部に電気的に接続された複数の金属配線５１が延設されている。貼合領域において被覆層１３は、隣り合った金属配線５１の間に配線間分離領域１３Ａを有する。水分や不純物イオンが被覆層１３を介して隣り合った金属配線５１の間に浸入することが防止される。複数の金属配線５１の間においては、無機絶縁膜４０が駆動用基板１１に接しており、密着性が高まる。 （もっと読む）

【課題】製造が簡単で歩留まりが高く、ドライプロセス以外にウエットプロセスを混在させて材料選定の制限を少なくすることができるカラー表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電性基板１１上に赤色透明有機ＥＬ発光層１２を形成し、その上に透明電極１３を形成した赤色ＴＯＬＥＤ１０と、透明導電性基板２１上に緑色透明有機ＥＬ発光層２２を形成し、その上に透明電極２３を形成した緑色ＴＯＬＥＤ２０と、透明導電性基板３１上に青色透明有機ＥＬ発光層３２を形成し、その上に透明電極３３を形成した青色ＴＯＬＥＤ３０とを各透明導電性基板１１、２１、３１と、各々重ねて積層する。 （もっと読む）

【課題】高度に安定な多層有機分子光電素子、及び単純化溶液法による多層有機分子光電素子の製造方法の提供。
【解決手段】下記のステップを含む多層有機分子光電素子の製造方法。（１）透明な基板上に有機分子Ａを含む溶液を塗布するステップ。（２）有機分子Ａの層上にバッファ剤を含む溶液を塗布するステップ。（３）一時的バッファ層上に有機分子Ｂを含む溶液を塗布するステップ。（４）任意選択で一時的バッファ層を除去するステップ。（５）２以上の有機分子層を持つ光電素子を得るため、（２）、（３）、及び（４）を繰り返すステップ。 （もっと読む）

【課題】より長い発光寿命を有する有機ＥＬ発光装置および電子機器、有機ＥＬ発光装置
の製造方法を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ発光装置１０は、トップエミッション型の有機ＥＬ発光装置であっ
て、光透過性を有する陽極５ｃ，５ｄ，５ｆと有機発光層７を含む機能層Ｋと半透過反射
性を有する陰極９とが順次積層された発光素子Ｌが複数形成された素子基板１と、複数の
発光素子Ｌに対応する各色要素１２ｒ，１２ｇ，１２ｂが形成された封止基板２とが接着
層１１を介して接合されている。接着層１１に面する素子基板１側と封止基板２側の両方
に、光透過性が高く気体透過性が低い酸化窒化シリコンからなるガスバリア層１６，１７
を設けた。 （もっと読む）

【課題】水分および酸素に対する耐久性の強い有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】第１の基板上に電極、１層の発光層を含む有機化合物層、および背面電極を有する有機発光部上に無機膜層を有する有機電界発光素子であって、第二の基板を前記無機膜層面と重ね合わせ、第２の基板の前記無機膜層と対峙する面と前記無機幕層との間隙を樹脂によって充填して樹脂封止層を形成し、かつ前記第１の基板と前記第２の基板の周辺端部が乾燥剤を含有する封止接着剤で被覆されている。 （もっと読む）

【課題】ブラックマトリックス（隔壁）を損傷させることなく、支持基材表面を親インク化することができる表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】支持基材１の表面に所定パターンのブラックマトリックス（隔壁）２を形成した後、アルゴン，ヘリウム，ネオン，キセノンおよび窒素からなる群から選ばれる少なくとも一つのガスと二酸化炭素ガスとからなる雰囲気ガス中で大気圧プラズマ処理することにより親インク化し、その後、ブラックマトリックス（隔壁）２が形成されていない、支持基材１の表面部分に、インクジェット法によりインクを供給する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ダークスポット等の欠陥のない良好な画像表示が可能な有機ＥＬ素子用バリア性基板および有機ＥＬ表示装置を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基板と、上記基板上に形成され、蒸着膜である第１無機絶縁層と、上記第１無機絶縁層上に形成され、超微粒子で形成された膜である第２無機絶縁層とを有することを特徴とする有機ＥＬ素子用バリア性基板を提供することにより、上記目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】 極薄の基板を用いた有機電子デバイスを簡便な方法で製造すること。
【解決手段】 基板の第一の表面を研磨する第一工程と、第一の表面に保護高分子層を設ける第二工程と、基板の第一の表面の裏側にある第二の表面をエッチングにより除去して基板の厚みを薄くする第三工程と、エッチングされた第二の表面上に高分子材料を含んだ高分子層を設ける第四工程と、保護高分子層を除去する第五工程と、保護高分子層が除去された第一の表面に有機電子デバイスを形成する第六工程と、第二の基板に支持高分子を形成する第七工程と、第二の基板をエッチングにより厚みを薄くする第八工程と、第六工程で作製されたデバイス基板と第八工程で作製された封止基板とを相対向させ、樹脂封入剤で間隙を封入し貼り合わせる第九工程と、支持高分子を除去する第十工程を備えることとした。 （もっと読む）

【課題】 サイズや形状の変更を容易にして生産性を向上したエレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 チューブ１１内に、陽極層形成液、正孔輸送層形成液、発光層形成液、陰極層形成液を順次導入・導出し、各内周面１１ｂ，１３ａ，１４ａ，１５ａ上の全体に、順次均一な膜厚の陽極層液状膜、正孔輸送層液状膜、発光層液状膜及び陰極層液状膜を形成するようにした。そして、これら陽極層液状膜、正孔輸送層液状膜、発光層液状膜及び陰極層液状膜を順次乾燥・焼成あるいは乾燥して、陽極層１３、正孔輸送層１４、発光層１５及び陰極層１６を形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】軽量で、割れにくく、曲げることが可能であり、且つ、水蒸気及び酸素等に対し、十分なバリア性を有するディスプレイ用基板を提供し、該基板を用いたディスプレイ素子を提供する。
【解決手段】（１）ガラス基材３を、第１の樹脂基材１と第２の樹脂基材２で被覆し封止してなる基板であって、該基板の外表面が、実質的に同一の樹脂で形成されていることを特徴とするディスプレイ用基板。（２）ディスプレイ素子を構成する対向基板の少なくとも一方に、上記（１）記載のディスプレイ用基板を用いること。 （もっと読む）

【課題】
低電圧で駆動させることができ、かつ長期間に亙って安定な導電特性を維持できる透明導電性基板、及びこの透明導電性基板を用いる有機ＥＬ素子等の光学的素子を提供する。
【解決手段】
基板と、該基板表面に形成された透明導電膜と、及び該透明導電膜上に、式（１）：Ｒ_ｎ−Ｓｉ−Ｘ_４−ｎ（式中、Ｒは置換基を有していてもよいＣ１〜２０の炭化水素基等を表し、ｎは１〜３の整数を表す。）で示されるシラン系界面活性剤、及び該シラン系界面活性剤と相互作用し得る触媒を含む有機薄膜形成用溶液から形成された有機薄膜の層を有することを特徴とする透明導電性基板、並びに、互いに対向する２つの電極間に発光層を必須の層として設けた光学的素子において、前記電極の少なくとも一方が、前記透明導電性基板からなることを特徴とする光学的素子。 （もっと読む）

【課題】基板上に薄膜層が形成されてなる薄膜デバイスにおいて、基板薄型化が進行しても、基板分断の際に意図せぬ割れが発生したり、分断後の強度低下が著しくなってしまうのを抑制する。
【解決手段】基板上に薄膜層が形成されてなる薄膜デバイスを、前記基板となる板材１０１で当該基板の所望厚さよりも大きな厚さを有するものに対して、前記所望厚さよりも深いスクライブ溝１０２を形成する工程と、前記板材１０１の前記スクライブ溝１０２の形成面側に当該板材の厚さが前記所望厚さとなるまでエッチングを行う工程と、を経て製造する。 （もっと読む）

【課題】 塗布膜に大気中にてプラズマを照射することにより、加熱処理や減圧雰囲気を必要とすることなく、高品位の透明導電膜を安定的に形成することができ、さらに、塗工法を用いたことにより量産性及びコスト面で優れている透明導電膜の形成方法及び透明導電膜を提供する。
【解決手段】 本発明の透明導電膜の形成方法は、導電性塗料を基材７上に塗布して塗膜８を形成し、この塗膜８上に大気圧下にて反応ガスを導入し該反応ガスをプラズマ化させて弱電離プラズマ状態のプラズマであるプルームＰ’を発生させ、このプルームＰ’を塗膜８に照射して塗膜８を改質することにより、基材７上に透明導電膜９を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】転写用基板であるドナー要素に成膜した転写層を無駄なく利用すること。
【解決手段】本発明は、支持基板２１に発光層２３が成膜されて成る転写用基板（ドナー要素２０）において、支持基板２１には、転写対象となる素子作成用基板との位置合わせを行うアライメントマークＭ１〜Ｍ３が、異なる合わせ関係に対応して複数設けられている。このドナー要素２０を用いて転写を行うには、複数のアライメントマークＭ１〜Ｍ３のうち一つを用いて素子作成用基板との位置合わせを行って転写した後、別の素子作成用基板に対して別のアライメントマークを用いた位置合わせを行って転写を行う。これを繰り返すことで、ドナー要素２０に成膜した発光層２３を無駄なく利用できるようになる。 （もっと読む）