【課題】複数の発光層の間に中間導電層を設けた発光素子を作成する場合、従来の手法では、透明性を維持する必要性があるため、材料の制約が非常に大きく、素子の作製プロセスも複雑なものとなっていた。
【解決手段】本発明に係る発光素子は、画素電極、第１の発光層、中間導電層（電子注入を担う層及び正孔注入を担う層からなり、その少なくとも一方が島状）、第２の発光層、対向電極が順次積層されてなることを特徴とする。これにより、中間導電層として使用可能な材料の選択幅を大幅に広げ、発光効率が高く、消費電力が小さく、信頼性の高い有機ＥＬ素子に代表される発光素子及び該発光素子を用いた表示装置を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】 低熱膨張性・平坦性・絶縁性・薄型・軽量・フレキシブル性・耐衝撃性・配線加工性を兼ね備えたディスプレイ用基板を提供する。
【解決手段】 金属薄板上に樹脂層及び配線密着層を有するディスプレイ用基板である。好ましくは、前記配線密着層の表面粗さは、Ｒｙ：１．０μｍ以下、Ｒａ：０．１μｍ以下であるディスプレイ用基板であり、更に好ましくは、配線密着層は二酸化珪素または窒化珪素からなるディスプレイ用基板であり、更に好ましくは、前記樹脂層は、ガラス転移温度が１５０℃以上、熱膨張係数が６０×１０^−６／℃以下、厚みが２〜５００μｍであるディスプレイ用基板である。
好ましくは、本発明で用いる好ましい金属薄板は鉄−ニッケル系合金であり、２０〜３００℃迄の熱膨張係数が１１×１０^−６／℃以下、厚みは２０〜５００μｍであるディスプレイ用基板である。 （もっと読む）

【課題】この発明は、有機ＥＬ素子にダメージを与えることなくリーク箇所を排除することができる有機ＥＬ装置の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス基板１の表面上に陽極２、有機発光層３及び陰極４を順次積層して有機ＥＬ素子Ａを形成する。ここで、例えば導電性を有する異物５が陽極２上の有機発光層３及び陰極４の中に存在すると、作動時にこの異物５を介して陽極２と陰極４との間でリークが発生する虞がある。そこで、不活性なガス雰囲気中において陽極２と陰極４との間に電圧を印加して通電することによりリーク電流を流して異物５周辺に位置する陰極４を破裂させて陰極４と異物５との間の導通を切断する。その後、有機ＥＬ素子Ａの表面上を封止膜６により覆って封止し、これにより有機ＥＬ装置が製造される。 （もっと読む）

【課題】シャッターに付着した付着物が剥離して蒸着源に入るのを可及的に防止することが可能な蒸着装置、蒸着方法、有機ＥＬ装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着源により蒸着材料を気化させて、基板の蒸着面に膜形成を行う蒸着装置において、前記蒸着源と前記基板との間に、蒸着レートを調整するためのシャッターを備え、前記シャッターの前記蒸着源側の面に、付着する蒸着材料の剥離を防止するために、微細な凹凸を形成したものである。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス発光ダイオードの画素構造及びその駆動方法を提供する。
【解決手段】本発明は、アクティブマトリクス有機発光ダイオードディスプレイに応用し、四個のトランジスタと一つのストレージコンデンサ、及び、三つの信号ラインを利用する。第一トランジスタと第二トランジスタはP型トランジスタで、それぞれ、第一及び第二スキャンラインにより制御される。第三トランジスタと第四トランジスタは、電流ミラーを構成し、各画素中で、有機発光ダイオードを通過する電流を、データライン書き込みの電流と等しくし、これにより、各画素間の有機発光ダイオード輝度は、しきい電圧の影響を受けず、均一になる。 （もっと読む）

【課題】 成膜室の容積を小さくして同成膜室の雰囲気を速く減圧にすることのできるコンパクトな真空成膜装置、薄膜素子の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに基板搬送室２と独立させるためのゲートバルブＧＢを備えた。また、各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに吸排気口１２及び吸排気口１２から配管を介して各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃ内の雰囲気を個別に減圧または大気圧に制御する真空ポンプに接続した。 （もっと読む）

【課題】 電界発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 基板の一面上に形成された薄膜トランジスタ層と、前記薄膜トランジスタ層の一面上に形成された一つ以上の絶縁層と、前記絶縁層の上部に配置され、第１電極層、第２電極層、及びこれら間に配置される電界発光部を含む画素層と、を備え、前記画素層には、前記第１電極層の下部に配置され、前記ＴＦＴ層のソース／ドレイン電極のうち一つと直接接触する反射層を備えるが、前記反射層は、この反射層を通じて第１電極層とソース／ドレイン電極との間に直接的な接触が発生する貫通部を備え、この貫通部は前記絶縁層のビアホールより小さいサイズを有することを特徴とする電界発光ディスプレイ装置である。 （もっと読む）

【課題】 RGB画素毎に特性が均一な有機ＥＬ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 第１、第２及び第３の画素領域を備えた基板と、前記基板上に前記各画素領域毎にそれぞれ形成されている第１の電極層と、基板全面に前記第１の電極層上に形成されている正孔注入層と、前記第１の電極層上に前記第１、第２及び第３の画素領域上に形成されている第１の正孔輸送層と、隣接する２つの画素領域の前記第１の正孔輸送層上に形成されている第２の正孔輸送層と、前記隣接する２つの画素領域のいずれか一つの画素領域の前記第２の正孔輸送層上に形成されている第３の正孔輸送層と、前記各正孔輸送層上に形成されている第１、第２及び第３の有機発光層と、前記各有機発光層上に形成されている第２の電極層とを含むことを特徴とする有機ＥＬ素子及びこの製造方法によって、素子特性が均一で、製造時の タック・タイムを少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】予め、対向基板側に厚さ方向に貫通する開口部を対向基板の所望の位置に形成することで、アクティブ基板と対向基板とを張り合わせた後に一方の基板のみを切断することなく、張り合わせた基板の切断を可能とする。
【解決手段】第１基板１１上に薄膜デバイス層１２を形成する工程と、第２基板２１に厚み方向に貫通させた開口部２２を形成する工程と、前記第１基板１１と前記第２基板２１とを張り合わせる工程と、化学処理および研磨処理および紫外線照射処理の少なくとも一つの処理を含む工程により、前記張り合わせた基板のうち少なくとも一方の基板を完全または部分的に分離または除去する工程とを備えた薄膜デバイスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】軽量薄型で表示品位の良い自発光型表示装置の提供。
【解決手段】ベンゾオキサゾール構造を有する芳香族ジアミン類と、芳香族テトラカルボン酸無水物類とを反応させて得られるポリイミドベンゾオキサゾールを主成分とする線膨張係数が２×１０^-6〜１６×１０^-6ｃｍ／ｃｍ／℃であるフィルムの表面に、導電層を形成し、この導電層上に自発光型素子を形成したものを構成要素として含むことを特徴とする表示装置である。好ましくは５ＧＰａ以上の引張弾性率と３００ＭＰａ以上の引張破断強度を有するポリイミドベンゾオキサゾールからなるフィルムを支持体とする。 （もっと読む）

【課題】 機能液滴吐出ヘッドの移動開始時および終了時においても、機能液滴吐出ヘッドに供給する機能液の水頭圧を適切に調整可能な圧力調整弁を備えた液滴吐出装置等を提供することを課題とする。
【解決手段】 機能液滴吐出ヘッド４１と、機能液タンク８１と、弁体１０６をダイヤフラム１０５の表面に対し直交する方向に進退させて連通流路１０３を開閉し、２次室１０２を圧力調整する圧力調整弁９１と、機能液滴吐出ヘッド４１および圧力調整弁９１を搭載するキャリッジ１４と、主走査を行う際に、ワークＷを主走査方向に移動させるＸ軸テーブル１２と、副走査を行う際に、キャリッジ１４を介して機能液滴吐出ヘッド４１を副走査方向に移動させるＹ軸テーブル１３と、を備え、圧力調整弁９１は、ダイヤフラム１０５の表面が副走査方向と略平行になるようにキャリッジ１４に搭載されている。 （もっと読む）

【課題】ＯＬＥＤ表示装置の解像度の低下を押さえつつ、消費電力を低減する。
【解決手段】ＲＧＢ信号は、Ｍ値算出回路１２に供給される。このＭ値算出回路１２は、ＲＧＢ信号の変化度合いからＷ（白）ドットの影響度合いを決定するＭ値を決定する。そして、ＲＧＢ→ＲＧＢＷ変換回路１０が、Ｍ値算出回路１２から供給されるＭ値を利用してＲＧＢ→ＲＧＢＷ変換を行う。入力ＲＧＢ信号のエッジ部分などではＷの使用率を少なく、変化の少ない平坦部分ではＷの使用率を多くして、解像度を維持しつつ消費電力を低減する。 （もっと読む）

【課題】長期にわたって良好な表示性能を維持することができる表示素子及び光学デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】 基板主面１００Ａに形成され、画像を表示するための複数の表示素子を備えた有効部１０６と、基板主面１００Ａの少なくとも有効部１０６を覆うように配置された封止体３００と、を備え、封止体３００は、少なくとも２層のバッファ層３１１及び３１２と、バッファ層３１１及び３１２より大きなパターンであってしかも各バッファ層３１１及び３１２を被覆するバリア層３２０、３２１、３２２と、を積層した構造を有し、第１バッファ層３１１は、第２バッファ層３１２とは異なる膜厚を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】 表示領域と、パッド部と、表示領域の外側に配置された封止部と、を備える基板と、基板と共に封止部の封止材を通じて、少なくとも表示領域を密封する封止基板と、を備える電界発光ディスプレイ装置において、基板側に、封止部の対応位置の少なくとも一部に凹溝部が形成されたことを特徴とする電界発光ディスプレイ装置である。これにより、湿気及び酸素が封止領域に流入される経路を増大させて、透湿及び透酸素をより効果的に実現して封止寿命の延長に耐久年限を相当に延ばせる。 （もっと読む）

【課題】 より高精細なパターンの形成が可能な、液滴吐出法を用いた半導体装置の作製方法の提供を課題とする。
【解決手段】 パターンが形成されたモールドを絶縁膜に押し付けた状態で絶縁膜の硬化を行なった後、モールドを取り外すことで、絶縁膜に凹部を形成し、導電材料を有する液滴を吐出することにより、凹部に導電膜を形成し、導電膜を覆うようにゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上に島状の半導体膜を形成することを特徴とする半導体装置の作製方法。 （もっと読む）

【課題】 表示パネルに配設されたデータラインに寄生する容量成分に起因する表示データの書込不足を抑制して、適正な輝度階調で発光素子を発光動作させ、表示画質の改善を図ることができる表示装置及びその駆動制御方法を提供する。
【解決手段】 表示装置１００Ａは、複数の表示画素ＥＭが２次元配列された表示パネル１１０と、各走査ラインＳＬに走査信号Ｖselを印加することにより、行ごとの表示画素ＥＭを選択状態に設定する走査ドライバ１２０と、各データラインＤＬへ表示データに応じた階調電流Ｉpixを供給するデータドライバ１３０と、階調電流Ｉpixの供給に先立つタイミングで、プリチャージ電圧Ｖpcgを各データラインＤＬに印加するプリチャージ回路１４０と、プリチャージ電圧Ｖpcgの印加に先立つタイミングで、リセット電圧Ｖrstを各表示画素ＥＭに印加するリセット回路１５０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ成膜法により薄膜を形成する際に、容易に均一に成膜することができる成膜方法等を提供する。
【解決手段】 任意のパターンを有するマスク１３０を基板１０上に配置し、プラズマ化学気相成長法により基板１０上にフルオロカーボンを付着させて、薄膜４０を形成する成膜方法において、弱磁性体により形成されたマスク１３０を用いる。
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【課題】塗布工程において、簡単な方法で乾燥ムラを低減することが可能な薄膜形成方法、有機ＥＬ装置の製造方法および液滴吐出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の薄膜形成方法は、基板の塗布領域にインクジェット法により薄膜を形成する薄膜形成方法において、薄膜形成材料を溶媒または分散媒に溶解または分散させた液状体を、高圧雰囲気下、例えば、溶媒または分散媒の蒸気圧以上の雰囲気で、前記塗布領域にインクジェット法で塗布することにより、塗布工程において、簡単な方法で乾燥ムラを低減する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、極力材料の無駄が発生しない蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 蒸着装置１０ａは、各基板１４間を移動し、材料を加熱蒸発させ、各基板１４に対して蒸発物を堆積させるための蒸発源１２を備える。基板１４を真空チャンバーＡ，Ｃに出入したりアライメントしたりする間に他の基板１４を蒸着する。材料の無駄が非常に少なく、製造されるＯＬＥＤの製造コストを下げることができる。 （もっと読む）

【課題】 製造コストをかけることなく、十分な光電流を得ることができる表示装置を提供する。
【解決手段】 表示装置は、各画素ＴＦＴごとに２個ずつ設けられる画像取込み用のセンサとを有する。センサ内のフォトダイオードＤ１，Ｄ２を構成するｐ+領域４６とｎ+領域４８の間に、低濃度のｐ-領域４７またはｎ-領域を形成し、このｐ-領域４７またはｎ-領域の基板水平方向長さをｐ+領域４６やｎ+領域４８よりも長くするため、ｐ+領域４６とｎ+領域４８の間に形成される空乏層５３がｎ-領域に長く伸び、その結果、光電流が増えて光電変換効率がよくなるとともに、S/N比が向上する。 （もっと読む）