【課題】
効率的なアニール処理を行うことが可能な半導体製造装置および半導体製造方法を提供する。
【解決手段】
実施形態の半導体製造装置は、マイクロ波の照射により成長するグレインを少なくとも一部に有する基板を載置するサセプタと、前記基板に対してマイクロ波を照射する照射部と、前記照射部が照射する前記マイクロ波の周波数を、前記グレインの共鳴周波数に近づけるように、前記照射部を制御する制御部とを備える。 （もっと読む）

【課題】被加熱物を収容する加熱室内で吸収されずに反射するマイクロ波を、加熱室に供給する水蒸気を生成する蒸気生成供給部に供給する。マイクロ波の損失を効果的に低減して被加熱物を適正に加熱するマイクロ波加熱装置を提供すること。
【解決手段】内部に被加熱物を収容して、マイクロ波発生手段のマグネトロン３０で発生するマイクロ波を供給して加熱調理する主加熱室３３と、前記主加熱室に水蒸気を生成して供給する蒸気生成供給部３７とを備え、前記マイクロ波発生手段の動作時に前記主加熱室で吸収されずに前記マイクロ波発生手段側に反射するマイクロ波を、前記蒸気供給生成部に供給して蒸気生成用の熱源とするように構成したので、マイクロ波の損失を抑えて被加熱物を適正に加熱することができる。 （もっと読む）

【課題】被処理体に対してマイクロ波を照射しながら、これとは別個独立して被処理体の温度制御を行うことができるマイクロ波照射装置を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗに対してマイクロ波を照射して処理をするマイクロ波照射装置２において、真空排気が可能になされた処理容器４と、被処理体を支持する支持台６と、処理ガスを導入する処理ガス導入手段１０６と、マイクロ波を導入するマイクロ波導入手段７２と、被処理体を加熱する加熱手段１６と、被処理体を冷却ガスにより冷却するガス冷却手段１０４と、被処理体の温度を測定する放射温度計６４と、放射温度計の測定値に基づいて加熱手段とガス冷却手段とを制御することにより被処理体の温度を調整する温度制御部７０とを備える。これにより、被処理体に対してマイクロ波を照射しながら、これとは別個独立して被処理体の温度制御を行う。 （もっと読む）

【課題】バイオマス中に含まれる有用成分を劣化させることなく高品質で且つ高い回収率で回収することが可能であるマイクロ波を利用した抽出装置を提供すること。
【解決手段】処理対象物が収容されるタンクと、マイクロ波を発生するマイクロ波発生装置と、前記マイクロ波発生装置により発生したマイクロ波を前記タンク内に導く導波管と、前記マイクロ波による加熱により前記タンクから蒸発した前記処理対象物中の成分を凝縮するコンデンサと、前記コンデンサにより凝縮された液体を回収する回収器とを備えており、前記タンクは、前記導波管の接続部にマイクロ波を透過するマイクロ波透過材を備えており、前記マイクロ波透過材は、前記タンクの内面から外面に向かうにつれて大径となる円錐台形状をなしていることを特徴とするマイクロ波を利用した抽出装置である。 （もっと読む）

【課題】軸部材の熱変形を許容しながら、回転する軸部材の周囲からのマイクロ波およびガスの漏洩を抑制可能なシール部材およびマイクロ波加熱炉を提供することを課題とする。
【解決手段】シール部材４は、挿通孔２０９ｂと軸部材７０との間の隙間からのマイクロ波ＭおよびガスＧの漏洩を抑制する。軸部材７０は、軸本体７０１とフランジ部７００とを有する。シール部材４は、導体製であって、壁部材２０９とフランジ部７００との間に介装され、壁部材２０９の表面において挿通孔２０９ｂの周囲に固定される環状のホルダ４３と、導体製であって、ホルダ４３の内周面に配置され、軸本体７０１に径方向に摺接する環状の第一マイクロ波シール部４０と、導体製であって、フランジ部７００に軸方向に摺接する環状の第二マイクロ波シール部４１と、ホルダ４３の内周面に配置され、軸本体７０１に径方向に摺接する環状のガスシール部４２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、加熱室の底面兼載置台と加熱皿に載置した被加熱物を効果的に加熱することができる加熱調理器を提供する。
【解決手段】本発明の加熱調理器は、被加熱物を底面兼載置台に載置する加熱室と、上面に前記被加熱物とは別の被加熱物を載置する加熱皿と、マイクロ波を発生する高周波供給手段４０と、高周波供給手段４０が発生したマイクロ波を放射するためのアンテナ４３と、被加熱物に対する加熱処理に関する情報を受け付ける操作部２３と、操作部２３からの前記加熱処理に関する情報に基づき、被加熱物に対する加熱処理を制御する制御手段１６０と、を備え、制御手段１６０が、操作部２３によって受け付けた、前記加熱室の底面兼載置台１１ａに載置された第１の被加熱物及び前記加熱皿３０に載置された第２の被加熱物に対する加熱処理に関する情報に基づいて、アンテナ４３の放射指向性の強い部位の向きを制御する、ものである。 （もっと読む）

【課題】加熱効率を向上させて調理時間の短縮を図ることのできる蒸気発生機能付高周波調理器を提供する。
【解決手段】加熱室の被加熱物取出口を開閉するドアと、前記加熱室のドアとは反対側の奥側底面に配設された水溜凹所を有する蒸発皿を加熱することで蒸気を発生する蒸気発生部４１と、前記加熱室に供給する高周波を発生するマグネトロンと、前記マグネトロンからの前記高周波を前記加熱室に放射する回転アンテナ３２、３３とを備え、前記回転アンテナを設置した空間のドア側に高周波反射部材３４ａ、３４ｂを設けた構成としてある。これにより、回転アンテナ３２、３３からドア側に向けて放射される高周波の一部は高周波反射部材３４ａ、３４ｂによって加熱室奥側に反射され、ドア側部分に放射される高周波が少なくなり、レッドスポットの虞が容易に回避できる。 （もっと読む）

【課題】陶磁器をマイクロ波によって加熱し、陶磁器から遠赤外線、赤外線波長の放射に転換し、熱効率を上げて調理および化学反応、化学合成、金属加工、金属結晶、金属の焼結、夜勤を行う技術の提供。
【解決手段】陶磁器にマイクロ波を照射し、陶磁器の内部に、磁性体およびマグタイト、ジルコニア、炭化珪素、酸化クロム、酸化チタン、ゼオライト、酸化アルミニウム等を粉体にして、陶磁器に焼結し、マイクロ波の波長を遠赤外線、赤外線の波長に転換し加熱する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波加熱によりセラミック等を焼成する際に、焼成炉内に雰囲気ガスを供給しても収縮、ばらつきが小さく、高寸法精度に焼成可能なマイクロ波焼成方法を提供する。
【解決手段】マイクロ波発信器１７と接続されたマイクロ波の導入管３が設けられた焼成炉本体２と、焼成炉本体内部に配置されたマイクロ波を透過する断熱材１１から成る囲いと、断熱材から成る囲いの内部に配置されたマイクロ波によって発熱する筐体１０と、筐体内部に雰囲気ガス４を導入する雰囲気ガス供給手段と、筐体内部と焼成炉本体外部とを連通する排出手段７とを有するマイクロ波焼成炉１において、筐体側面に隣接して、雰囲気ガスが筐体に達する前にマイクロ波によって加熱される材質から成る雰囲気ガスを加熱するための雰囲気加熱部分６を具備した。 （もっと読む）

【課題】金属線などの被加熱物にマイクロ波エネルギーを十分かつ効率よく吸収させることができるようにし、また、複数本の金属線などの複数の被加熱物を同時に加熱することができるようにする。
【解決手段】 マイクロ波発振器と円形導波管を有して構成されたマイクロ波加熱炉とを接続導波管を介して接続したマイクロ波加熱装置において、マイクロ波加熱炉は閉塞された両方の端部にそれぞれ被加熱物を挿通可能な貫通孔を有し、上記マイクロ波加熱炉に伝送モードがＴＭ_０１のマイクロ波を伝搬し、上記マイクロ波加熱炉に発生した壁面電流を上記被加熱物に変位電流として導くことにより上記被加熱物を加熱する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波を用いた被加熱物内部からの誘電加熱作用と、マイクロ波の照射により発熱する発熱材の伝導熱を用いて被加熱物表面を直接熱加熱する場合に、被加熱物へ誘電加熱を可能な限り低下させ、マイクロ波でほとんど直接加熱だけの加熱を実現する高周波加熱装置を提供する。
【解決手段】フェライトを主成分とする電波吸収体である発熱体２７ｂをその底面に備えるとともに、金属製の被加熱物載置皿２７は、加熱室１０の左右壁面１３、１４に設けられたレール部２８に係止することで取り付けられる。
アンテナ２１の電波放射手段２２を右側壁面１１に向けた状態でマイクロ波を照射させることで、被加熱物載置皿２７の上方側への電波の回り込みを抑制するとともに、効率よく電波吸収体である発熱体２７ｂにマイクロ波を吸収させる。 （もっと読む）

【課題】被加熱物を高品質に加熱することができる高周波加熱装置を提供する。
【解決手段】被加熱物（図示せず）を収納する加熱室１０に供給する高周波を発生するマグネトロン１６と、加熱室１０内の蒸気充満度に応じて変化する高周波の伝搬波長に感応して信号を出力する加熱室環境検出手段２６ａ、２６ｂと、加熱室環境検出手段２６ａ、２６ｂの検出信号に基づいてマグネトロン１６を制御する制御手段３２とを備えたもので、被加熱物が昇温されることで被加熱物自身から出てくる蒸気で加熱室１０内が充満するにつれて、加熱室１０内を伝搬する高周波の伝搬速度が遅くなり実効的な伝搬波長が小さくなるので、例えば、加熱室環境検出手段２６ａ、２６ｂで、高周波の伝搬波長が所定値以下になった時に内部に高周波を取り込むようにし、この時の信号により被加熱物の加熱進行度合を判定しマグネトロン１６を制御することで、被加熱物を最適な品質で加熱できる。 （もっと読む）

【課題】ガス加熱装置を提供する。
【解決手段】被加熱流体を発熱体に接触させることにより加熱流体を製造する装置において、容器内部に設置されたマイクロ波吸収性に優れた発熱体と、該容器外部に設置された前記発熱体を加熱するマイクロ波加熱手段とを有することを特徴とするガス加熱装置、発熱体が、マイクロ波照射による自己発熱により８００℃以上に発熱することが可能なセラミック材料から構成される前記のガス加熱装置、及び前記のガス加熱装置のガス流入口に水蒸気あるいは水蒸気を含む混合ガスを導入し、容器内部に設置された発熱体に該ガスを接触させることにより過熱水蒸気又は水素含有ガスを製造することを特徴とする高温ガス製造方法。
【効果】本発明により、８００℃以上の過熱水蒸気を長時間、安定して供給することができる。 （もっと読む）

【課題】スペースを節約する方法で、マイクロ波発生装置から被照射調理物へマイクロ波ビームを伝送する。
【解決手段】調理装置（２）は、調理室（１）と、マイクロ波発生装置と、マイクロ波発生装置に接続され、かつマイクロ波発生装置によって発生されるマイクロ波ビームが調理室（１）の内部で出射可能である調理室（１）の内部の少なくとも１つの同軸−またはストリップ伝送路を備える。少なくとも１つの同軸−またはストリップ伝送路が調理装置（１）の少なくとも１つの部材の中に支柱または固定支持体（７）の形態で調理室（１）の内部にまたは調理室の中に収容可能の少なくとも１つの付属部品（７、８）の中に組み込まれ、支持体（７）が差し込み可能の調理容器、プレート、板および／または槽の担持に利用され、かつ／または付属部品（７、８）が棚、可動オーブンラックまたは可動板ラックを含む。 （もっと読む）

【課題】 原材料の内部・外部を均一に加熱して高品位の活性炭や機能性材料を製造することを可能ならしめるハイブリッド反応炉の提供。
【解決手段】 内部加熱法のマイクロ波加熱と通常の外部加熱法を併用したハイブリッド加熱方法を採用した。これにより、原料を内部と外部から均等に加熱して、炭化・賦活することにより高品位活性炭を製造することを可能とした。
また、分解生成するガスを外部加熱のエネルギー源として利用することで、消費エネルギーを大幅に削減することを可能とした。
さらに、高表面積活性炭を製造するために強アルカリ賦活に適した反応炉を採用し、金属製撹拌翼を採用することで、原料及び照射マイクロ波をかき混ぜ、更に効果的にマイクロ波の均一照射及び均一加熱を実現した。 （もっと読む）

【課題】単一の分布で加熱するときのような局所加熱を抑制して、被加熱物の加熱均一化を図って出来映えを向上したマイクロ波加熱装置を提供すること。
【解決手段】蒸気供給部１５からの水蒸気Ｓやミスト供給部４７からのミストＦなど、少なくとも二種類の水粒子を制御部５１によって加熱途中に加熱室１１内に供給することにより、誘電率分布をいろいろな状態に変化させることとなる。よって加熱室１１内のマイクロ波分布をいろいろな状態に変化させることとなる。 （もっと読む）