【課題】装置の大型化を抑えつつ、加熱対象である固体の少なくともの周囲部分に対するマイクロ波の照射を均一化させることが可能なマイクロ波加熱装置、導波管を複数用いたマイクロ波加熱装置および吸着再生装置を提供する。
【解決手段】 吸着剤１０を加熱対象とした吸着再生装置１００であって、第１マイクロ波発振器４０、第２マイクロ波発振器６０および環状導波管２０を備えている。環状導波管２０は、第１マイクロ波発振器４０、第２マイクロ波発振器６０で生じたマイクロ波を内部に導入できるように各第１マイクロ波発振器４０、第２マイクロ波発振器６０にそれぞれ接続されている。環状導波管２０は、吸着剤１０が配置される側に開口した複数のスリットＳを有している。環状導波管２０は、加熱対象の吸着剤１０の径方向外側を覆うように配置されている。 （もっと読む）

【課題】
マイクロ波を使用して誘電体からなる被加熱物を加熱、乾燥するマイクロ波加熱装置に関し、特に導波管を使用したマイクロ波加熱装置に関する。被加熱物が幅の広い紙やフィルムを加熱及び乾燥、あるいは糸状な物を多数同時に加熱及び乾燥する場合に、マイクロ波加熱装置の導波管形マイクロ波加熱炉の電界分布を一様化させて、均一に加熱、乾燥するマイクロ波加熱装置を提供する。
【解決手段】
周波数が３００ＭＨｚ〜３０ＧＨｚの範囲のマイクロ波周波数で、導波管を使用したマイクロ波加熱装置において、マイクロ波発振機１とアイソレータ２と位相器３と導波管形マイクロ波加熱炉４とダミーロード５から構成され、位相器３を連続的に可変し位相を可変させ電界の位置を動かし、導波管内の電界を一様にする事を特徴とするマイクロ波加熱装置である。電界を一様にすることにより、被加熱物の発熱量Pも一様になるので、均一な加熱をする事が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 導入できるマイクロ波の周波数帯域と出力レベルが極めて広く、共振負荷に対して効率よくマイクロ波を導入できる新しい手段を提供する。
【解決手段】 マイクロ波装置は、マイクロ波を発生する電圧制御型固体発振器１と、その出力を増幅するマイクロ波増幅器３と、その出力が入射されるTM010モード円筒形空胴共振器２と、この空胴共振器２に結合し内部の電磁界を検出する検出素子７と、この検出素子７の出力信号によって発振器１の発振周波数を空胴共振器２の現在の共振周波数に一致させるように制御する帰還制御手段８と、空胴共振器２内にそれの中心軸とほぼ同心的に配置され内部にマイクロ波被照射体Ｓを保持するマイクロ波透過性で円筒管状の被射照体保持部材とを具備する。 （もっと読む）

【課題】照射するマイクロ波の電場と磁場とを各々独立して制御しつつ同時に照射可能なマイクロ波照射装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波照射装置１０１は、被照射物１２を収納しうる内部空間１９を有するアプリケータ部１と、第１のモードで第１のマイクロ波を内部空間１９へ出力し内部空間１９の所定箇所（被照射物１２のある箇所）で大きい電界および小さい磁界を生じさせる第２のマイクロ波発生部３と、第１のマイクロ波と偏波面が交差する第２のモードで第２のマイクロ波を内部空間１９へ出力し所定箇所で大きい磁界および小さい電界を生じさせる第１のマイクロ波発生部２とを具備している。 （もっと読む）

【課題】複数の給電部を加熱室壁面に最適配置し夫々の給電部からの放射マイクロ波の周波数および位相差を最適化することで、様々な被加熱物を高効率に加熱する装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波発生部１は発振部２、電力分配部３、増幅部５ａ、５ｂ、被加熱物を収納する加熱室８、加熱室８の壁面に配置されマイクロ波発生部１の出力が伝送されそのマイクロ波を加熱室８内に放射供給する給電部７ａ、７ｂ、マイクロ波伝送路に挿入した位相可変部４ａ、４ｂを備え、給電部７ａ、７ｂから出力されるマイクロ波の位相差および発振周波数の可変制御とにより、様々な被加熱物に対して反射電力を最小に抑制しこう高率な加熱を実現させることができる。 （もっと読む）

【課題】商用電源とマイクロ波発生装置を電気的にフローティングし電波漏洩を防止し、またＤＣ電圧でマイクロ波発生装置を駆動する場合、電流波形が歪み電流の高調波成分を多く含むというＥＭＣ上の課題を解消し、増幅器に電力を供給する絶縁型の電源回路の後段に出力可変でＰＦＣ機能とＤＣ−ＤＣコンバータ機能を用いて制御によって高周波で電力を変圧器で伝達し入力電流を正弦波状にする。
【解決手段】整流ブリッジ１９と整流フィルター平滑回路２２で得たＤＣ電圧を絶縁変圧器２４でマイクロ波発生装置をフローティングさせパワーＭＯＳＦＥＴ３３と制御ＩＣ３０でスイッチングして高周波で絶縁変圧器２４を通じ電力伝達し入力電流波形を正弦波状に保ちながらマイクロ波発生装置に電力を供給する。 （もっと読む）

【課題】広く一般的に利用されるマイクロ波加熱法において、強誘電体の持つキュリーポイント相転移を利用し、加熱対象を急速かつ均一に所定の温度に加熱するマイクロ波加熱方法を提供する。
【解決手段】強誘電体にマイクロ波を照射し、強誘電体のキュリーポイントの前後での誘電特性の変化により加熱温度を制御するマイクロ波加熱の温度制御方法の構成とした。 （もっと読む）

【課題】金属線などの被加熱物にマイクロ波エネルギーを十分かつ効率よく吸収させることができるようにし、また、複数本の金属線などの複数の被加熱物を同時に加熱することができるようにする。
【解決手段】 マイクロ波発振器と円形導波管を有して構成されたマイクロ波加熱炉とを接続導波管を介して接続したマイクロ波加熱装置において、マイクロ波加熱炉は閉塞された両方の端部にそれぞれ被加熱物を挿通可能な貫通孔を有し、上記マイクロ波加熱炉に伝送モードがＴＭ_０１のマイクロ波を伝搬し、上記マイクロ波加熱炉に発生した壁面電流を上記被加熱物に変位電流として導くことにより上記被加熱物を加熱する。 （もっと読む）

【課題】 高温領域まで昇温可能であると共に、プロセスチャンバー内へのマイクロ波の漏洩を抑止し得る半導体基板用マイクロ波加熱セラミックスヒータの提供。
【解決手段】 マイクロ波Ｍを導く直線状のストレート部１ａ、及びストレート部の端部に連設された円形皿状を呈し、マイクロ波を照射する出口部１ｂからなり、プロセスチャンバーの底部に出口部が挿着される導波管１と、導波管の出口部内に設けられ、マイクロ波を均一に照射するためのアンテナ４と、導波管の出口部の開口端に載置される円板状を呈し、上面に半導体基板を載置するセラミックスプレート６と、セラミックスプレート１にその周面及び上面に近接して埋設され、マイクロ波を反射、吸収する金属メッシュ７とを備える。 （もっと読む）

マイクロ波加熱システムであって、マイクロ波アプリケータに配置される負荷を加熱するための複数の前記アプリケータと、制御手段と、制御可能な周波数および出力レベルを有するマイクロ波エネルギを生成するための１台のマイクロ波発振器と、前記各アプリケータに前記マイクロ波発振器を接続するよう配置されるマイクロ波スイッチとを含むシステムである。各マイクロ波アプリケータは時間フレームにおける加熱タイムスロットを専用に与えられ、前記時間フレームは加熱される複数のアプリケータのための複数のタイムスロットを含む。マイクロ波加熱中、連続した時間フレームにおいて、マイクロ波エネルギがマイクロ波アプリケータにそれぞれのタイムスロットで与えられる。
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【課題】マイクロ波の照射を処理物の上下面のみならず側面からも照射可能にし、処理物の乾燥ムラまたは加熱ムラを確実に防ぐマイクロ波照射処理装置を提供する。
【解決手段】処理槽１０内に処理物１を搬入して上下面の両方から導波管１６を介してマイクロ波発生器１２ａ、１３ａで発生させたマイクロ波を導入及び照射して乾燥または温度を上げるマイクロ波照射処理装置であって、処理物１を前面から後面に搬送して処理するコンベア１１の処理槽１０を備え、この処理槽１０にマイクロ波を上下面の両方から照射可能な第１照射手段１２と、この第１照射手段１２に加えて処理物１両方の側面からも照射可能な第２照射手段１３とを備える。ここで、マイクロ波発生器１２ａ、１３ａには、処理槽１０に導波管１６を介して各方向からそれぞれ同時または別々にマイクロ波を照射可能に制御する制御手段１９を接続する。 （もっと読む）