【課題】中間電極と集束電極又は電子源との間で放電が発生した場合に、放電電流を低減することにより、この放電が引き金となって発生する２次放電を防止し、高耐圧化された放射線管及びそれを用いた放射線発生装置を提供する。
【解決手段】電子銃構造体５が接続された陰極２と、ターゲット１２が設けられた陽極３と、の間に、絶縁性の管状側壁４が電子銃構造体５を囲んで配置された放射線管であって、管状側壁４には、管状側壁４の中心軸方向の中間部に電位規定部材１３が設けられ、電位規定部材１３は、電気抵抗部材１４又はインダクタ１５を介して電位規定手段と電気的に接続され、陰極２の電位よりも大きく、かつ陽極３の電位よりも小さい電位に規定されることを特徴とする放射線管。 （もっと読む）

【課題】ターゲット供給装置の絶縁破壊を抑制する。
【解決手段】このターゲット供給装置は、ターゲット物質を出力するための貫通孔が形成されたノズル部と、ターゲット物質が通過するための貫通孔が設けられ、ノズル部を覆うように設けられるカバーと、カバーによって画定される空間を排気するための排気機構と、を備えてもよい。ターゲット物質を出力するための貫通孔が形成されたノズル部と、ノズル部に対向して配置された電極と、ターゲット物質と電極との間に電圧を印加するための電圧生成器と、少なくともノズル部と電極との間の空間を排気するための排気機構と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】シンクロトロンを必要としない、小型、軽量、小電力で強力なＸ線レーザを実現する装置および方法を提供する。
【解決手段】クレーザデバイス１００は、Ｘ線光子および／またはガンマ線光子を放出する励起された利得媒質原子を有する利得媒質１２０と、利得媒質１２０に当接する伝送媒質１３０と、１つまたは複数のより低い屈折率層を備え、伝送媒質１３０に当接する反射鏡１４０とを含む。伝送媒質１３０は、利得媒質１２０、および反射鏡の中の材料のうちの少なくとも１つの材料より高い屈折率を有する。Ｘ線光子および／またはガンマ線光子は、内部全反射を介して伝送媒質１３０に閉じ込められ、エバネセント波を通して励起された利得媒質原子と複数回相互作用して増幅された誘導放出を生み出し、高強度のインコヒーレントまたはコヒーレントなＸ線ビームおよび／またはガンマ線ビームの形成をもたらす。 （もっと読む）

【課題】小型で取り扱いが簡単なステレオＸ線放射装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線管装置は、アノード４の後端よりも更に外側には配置した電磁石７に通電すると瞬時にアノード４の後端を吸着する機構を備える。これにより左右のアノード４,４は軸方向外方に移動する。その結果２つのＸ線発生源間の距離が瞬時に拡大したことになる。 （もっと読む）

【課題】大電流量の電子ビームの発生を抑制して電子源の損傷を防止できるＸ線源を提供する。
【解決手段】Ｘ線源10は、透過ターゲット17を備えた真空容器14内に、電子源22を収納する。電源回路12の高電圧電源29から電子源22に高電圧を印加し、電子源22から透過ターゲット17に照射する電子ビーム21を発生させる。高電圧電源29と電子源22との間に保護手段36を設置し、保護手段36により電子ビーム電流量を制限する。 （もっと読む）

【課題】複数の異なるエネルギーのＸ線を放射すると共に、生成したＸ線のエネルギーのばらつきを抑制する。
【解決手段】Ｘ線検査装置１０に備えられるＸ線発生装置１４は、粒子加速装置２０が複数の異なるエネルギーのＸ線を発生させるための荷電粒子ビームを生成し、ターゲット２２に荷電粒子ビームが照射されることによってＸ線を放射する。単一エネルギー制御装置は、ターゲット２２に荷電粒子ビームが照射されることによって、ターゲット２２に流れる電流の計測値及びターゲット２２から放射されるＸ線の線量の計測値から求められる単位ターゲット電流当たりのＸ線線量に基づいて、異なるエネルギーのＸ線毎に粒子加速装置２０を制御する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光源装置の稼働率を向上させる。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ光源１１０と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ光源１１０から出力されるレーザ光L1を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバ１００と、前記チャンバ１００に設けられ、前記チャンバ１００内の所定の位置にターゲット物質２００を供給するターゲット供給部１２０と、所定条件が成立した場合に、前記タ―ゲット供給部１２０に対してリカバリ動作の実行を指示するリカバリ制御部３０１と、前記リカバリ制御部３０１からの指示に応じて前記リカバリ動作を実行するリカバリ部４００と、前記ターゲット供給部１２０から前記チャンバ１００内に供給されるターゲット物質２００の位置を計測する位置計測部３０２と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】実用的に十分な極端紫外光の出力を確保することのできるＥＵＶ光源装置を提供すること。
【解決手段】エネルギービーム照射機１１から第１のレーザービームを放電電極２ｂ上の原料Ｍの表面に照射し原料Ｍの表面に凹所を形成する。制御部６は、スイッチＳＷをＯＮし、パルス電力供給部３のコンデンサＣ２を充電し、放電電極２ａ，２ｂ間の電圧を立ち上げる。その後エネルギービーム照射機１１から第２のレーザービームを上記凹所に照射し、原料Ｍを気化させる。気化した原料が放電電極２ａに到達すると、放電電極２ａ，２ｂ間で放電が開始してプラズマが加熱され、高温プラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。凹所に対してレーザビームを照射しているので、プラズマの空間的な広がりを小さくすることができ、ＥＵＶ光の出力を高いものとすることができる。 （もっと読む）

本発明は、単色Ｘ線を生成するための高速ピコ秒パルス化レーザと共に使用し得る、ファブリーペロ型の増幅光共振器に関する。本発明は、平均出力Ｐ_ＭＯＹで高い安定性を有する強力集束されるポンプ化レーザビームを得るために使用し得るファブリーペロ型の増幅光共振器に関する。本発明は、より具体的には、高速ピコ秒ポンプ化レーザビーム（１２）と同期電子ビームとの間のＣＯＭＰＴＯＮ反応によって単色Ｘ線を生成するためのファブリーペロ型の増幅光共振器（４０）に関し、共振器は真空下に配置し得る閉塞囲壁（４２）を含み、閉塞囲壁を通じて電子ビーム管（４６）が延び、囲壁（４２）は、レーザビーム入力手段と、２つの平面光反射器（Ｍ１，Ｍ２）を維持し且つ位置決めするための手段と、相互作用地点で電子ビームと集束し得る２つの球面光反射器（Ｍ３，Ｍ４）を維持し且つ位置決めするための手段とを含む。光反射器（Ｍ１乃至Ｍ４）を維持し且つ位置決めするための手段は、光反射器（Ｍ１乃至Ｍ４）が四面体の頂点を実質的に定めるよう配置される。

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出口開口まで圧力下で液体物質を推進させることによって、相互作用領域を通って伝搬するターゲット噴流を形成するステップと、少なくとも１つの電子ビームを、前記ターゲット噴流と相互作用して前記電子ビームがＸ線放射を発生するように、前記相互作用領域内のターゲット噴流上に向けるステップとを含む、Ｘ線放射を発生させる方法であって、前記ターゲット噴流の横方向における前記電子ビームの半値全幅が前記ターゲット噴流の横寸法の約５０％以下である、方法。この方法を実施するシステムもまた開示される。
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【課題】レーザ生成プラズマと、パルスレーザビームによる照射のために照射サイトに送出された固形粒子又は液滴又は液滴に埋め込まれた固形粒子の形態の個別のターゲットとを用いるＥＵＶ光の発生のためのシステムを提供する。
【解決手段】選択パルス繰返し数で望ましいターゲット点火サイトに集束されるレーザパルスを供給するパルスレーザと、レーザパルス繰返し数に調整された選択間隔で個別のターゲットを供給するターゲット形成システムと、ターゲット形成システムと望ましいターゲット点火サイトとの中間にあるターゲットステアリングシステムと、ターゲットステアリングシステムがターゲットを望ましいターゲット点火サイトに向けることを可能にする、ターゲット形成システムとターゲットステアリングシステムとの間のターゲットの移動に関する情報を提供するターゲット追跡システムとを含むことができるＥＵＶ光源機器及び方法。ターゲット追跡システムは、レーザ発射制御信号の作成を可能にする情報を提供することができ、かつ、ターゲットの投射送出経路上の点と交差するように向けられた視準光源を含んでそれぞれの点を通るターゲットの通過を検出するそれぞれ対向配置の光検出器を有する液滴検出器、又は座標軸に整列した複数の感光素子の線形アレイを含む検出器を含むことができ、光源からの光は、ターゲットの投射送出経路と交差し、そのうちの１つは、平面遮断検出装置を含むことができる。液滴検出器は、各々が異なる光周波数で作動する複数の液滴検出器、又は視野と視野を撮像するピクセルの２次元アレイとを有するカメラを含むことができる。機器及び方法は、点火時にターゲット点火サイトで又はその近くにプラズマ封じ込み場をもたらす静電プラズマ封じ込み機器を含むことができ、ターゲット追跡システムは、静電プラズマ封じ込み機器の制御を可能にする信号を提供する。機器及び方法は、低圧トラップを備えた中間壁を有してＥＵＶ光の通過を可能にして低圧トラップにわたる差圧を維持する容器を含むことができる。機器及び方法は、パルス駆動されてターゲット追跡システムからの出力を用いて制御することができるプラズマをターゲット点火サイトに閉じ込めるための磁場をターゲット点火サイトの近くに作り出す磁気プラズマ封じ込み機構を含むことができる。 （もっと読む）