【課題】光学素子の光学特性を安定させる。
【解決手段】ホルダ装置は、圧力差のある２つの空間を隔離する圧力隔壁に取り付け可能であり、且つ、透過型の光学素子を保持可能なホルダ装置であって、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して低圧側の空間に配される第１部と、前記２つの空間のうち前記光学素子に対して高圧側の空間に配される第２部とを含むホルダ部と、前記第２部と前記光学素子の間を封止する第１封止部材と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定してＥＵＶ光を生成する。
【解決手段】チャンバ装置は、ＥＵＶ光の生成が内部の所定の領域で行われるチャンバと、前記チャンバ内に配置され、前記所定の領域で生成されたＥＵＶ光を集光する集光ミラーと、前記集光ミラーに付着したデブリのエッチングが可能なエッチングガスを供給する少なくとも１つのエッチングガス供給部と、を備えてもよい。前記集光ミラーは、該集光ミラーのミラー面の中央部から外れた領域で該集光ミラーを貫通するように開口する少なくとも１つの第１貫通孔を含んでもよい。前記集光ミラーは、前記少なくとも１つの第１貫通孔が前記オブスキュレーション領域に実質的に対応する領域内に位置するように前記チャンバ内に固定されてもよい。前記エッチングガス供給部は、前記第１貫通孔の少なくとも１つに配置されてもよい。 （もっと読む）

【課題】安定してＥＵＶ光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質にレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって、前記ターゲット物質に照射する前記レーザ光を出力するレーザ装置と、前記レーザ光の波面を調節する波面調節器と、前記ターゲット物質で反射された前記レーザ光を結像させる結像光学系と、結像された像を撮像する像検出器と、前記像に基づいて前記波面調節器を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源（２０）の内部部品（３０）を、プラズマ形成位置（２８）で生成され、最初は内部部品（３０）に向けられたイオン（２０６ａ、２０６ｂ）から保護するシステムを提供する。
【解決手段】内部部品（３０）とプラズマ形成位置（２８）との間に挿入され、プラズマ形成位置（２８）から内部部品（３０）へと延びる線に実質的に沿って位置合わせされた表面を有する少なくとも１つの箔板（１８０）と、イオン（２０６ａ、２０６ｂ）を箔板表面（２０８ａ、２０８ｂ）内へと偏向させる磁場（Ｂ２）を発生させる磁気源（２００ａ、２００ｂ）とを備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマから放射された高エネルギ放射線のビーム束における特性の調整用の方法および機構を提供する。
【解決手段】集光光学系によって合焦されるビーム束内において、放射線の強度分布が、中間焦点１６の前の光軸１３に垂直な測定面１５２における収束ビーム束１５の断面にわたって取得され、かつ強度値が、光軸１３と同心の異なる半径を備えて整列された測定装置２の複数の受信領域用の画定されたセクタにおいて記録され、かつ測定量および制御変数が、集光光学系１４を整列させるために、異なるセクタの強度値の比較から決定される。 （もっと読む）

【課題】安定したパルスレーザ光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質に第１レーザ光を照射する第１レーザ装置と、前記第１レーザ光の照射によって拡散した前記ターゲット物質に第２レーザ光を照射して極端紫外光を生成する第２レーザ装置と、前記第１レーザ光の照射後、前記第２レーザ光の照射前に、該第２レーザ光よりもエネルギーの低い第３レーザ光を照射する第３レーザ装置とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光を放射するプラズマを生成するための理想的な面状放電を発生させることが可能なプラズマ光源を提供する。
【解決手段】プラズマ光源であって、互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極１０と、各同軸状電極１０に対して極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備え、各同軸状電極１０は、単一の軸線Ｚ−Ｚ上に延びる棒状の中心電極１２と、中心電極１２の中心軸Ｚに対して軸対称な面上に設けられた複数の外部電極１４と、中心電極１２及び各外部電極１４の間を絶縁する絶縁体１６とを有し、中心電極１２と各外部電極１４との間隔Ｇは、相手の同軸状電極１０に面する側からその反対側に向かうに連れて増加している。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内を移動するデブリがＥＵＶ集光ミラー等の光学素子の反射率又は透過率を低下させることを防止して、長期間安定に極端紫外光を発生することができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、チャンバ内のプラズマ発光点に供給されたターゲットにレーザ光を照射して第１のプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内にガスを供給するガス供給装置と、プラズマ発光点が中心となるように配置されたＲＦアンテナを含み、ガス及び電気的に中性のターゲット物質を励起して、電気的に中性のデブリを帯電させる第２のプラズマを生成する高周波励起装置と、帯電したデブリの移動方向を制限する磁場を発生する磁場発生装置と、チャンバ内を排気することにより、第１のプラズマから放出され第２のプラズマにおいてガス化されたデブリをチャンバ外に排出する排気装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の集光位置を安定化する。
【解決手段】このアライメントシステムは、ガイドレーザ光を出力するガイドレーザ装置と、レーザ光及びガイドレーザ光の少なくとも一方の進行方向を調節する調節機構と、レーザ光及びガイドレーザ光の進行方向を実質的に一致させる光路結合部と、光路結合部の下流側に配置され、レーザ光及びガイドレーザ光を検出する第１の光検出部と、第１の光検出部による検出結果に基づいて、調節機構を制御する第１の制御部と、光路結合部の下流側に配置され、レーザ光及びガイドレーザ光の進行方向を調節するビームステアリング機構と、ビームステアリング機構の下流側に配置され、少なくともガイドレーザ光を検出する第２の光検出部と、第２の光検出部による検出結果に基づいて、ビームステアリング機構を制御する第２の制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に配置された要素の特性や性能が劣化することを抑制する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置および前記レーザ装置から出力されるレーザ光を集光するための集光光学系と共に用いられるチャンバ装置であって、レーザ装置から出力されたレーザ光を通過させる入射口が設けられたチャンバと、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するように構成されたターゲット供給部と、チャンバ内でターゲット物質にレーザ光が照射することで発生したターゲット物質のデブリを付着させるデブリ入射面を含む回収部と、回収部から流出したデブリを回収する回収容器とを備え、デブリ入射面は、前記デブリが入射する方向に対して垂直でない方向に傾いていてもよい。 （もっと読む）

【課題】装置の構成を簡易にすることができ、且つ効放射線の発生効率を向上させることができる放射線発生装置及び放射線発生方法を提供する。
【解決手段】
混合液６１を格納する燃料格納部２０と、混合液６１に圧力を印加する圧力印加部１０と、混合液６１の噴流を形成する噴流形成部３０と、混合液６１の噴流が形成される反応部４４と、反応部４４における圧力を噴流形成部３０の内部圧力よりも低く設定する圧力調整部４１と、粒子群６３ａにレーザ光Ｌ１を照射する光源部４５とを備える。燃料粒子６３は、レーザ光Ｌ１が照射されることにより所望の放射線を発生させる。反応部４４ａでは、複数の燃料粒子６３が噴流の方向に沿って移動し、液化ガス及び液体が複数の燃料粒子６３から離間する方向に移動することにより粒子群６３ａが形成される。 （もっと読む）

【課題】ターゲット供給装置の性能を安定させる。
【解決手段】ノズル部８６の下方に設けられ、第１の開口領域が形成された電極８８と、ターゲット物質と電極８８との間に電圧を印加する電源と、を備える。電極８８の第１の開口領域は、ターゲット物質がノズル部８６から重力方向に滴下するときにターゲット物質が第１の導電部材とは離間して通過するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】流体流を生成する機構、およびそのような機構内における汚染制御方法を提供する。
【解決手段】本発明の第一の態様によれば、放射源であって、所定の体積の燃料を保持するように構成されたリザーバと、リザーバに流体連通し、かつ燃料流を軌道に沿ってプラズマ形成位置に向けて誘導するように構成されたノズルと、プラズマ形成位置の燃料流にレーザ放射を誘導して使用中に放射生成プラズマを生成するように構成されたレーザと、磁界を生成する磁界生成エレメントおよび電界を生成する電界生成エレメントを備える燃料汚染制御機構と、を備え、汚染の移動を制御するために、磁界生成エレメントおよび電界生成エレメントは、使用中、磁界および電界が、燃料内の汚染の位置または潜在位置において確実に重なり合うように、かつ磁界および電界の線束が当該位置において確実に非平行になるように、ともに構成される、放射源が提供される。 （もっと読む）

【課題】ノズルの内面に堆積される燃料の汚染の結果である予期しないまたは意図的でない障害または制限の影響を未然に防ぐかまたは軽減することができるシステムおよび方法を提供する。
【解決手段】本発明の第１態様によると、燃料の体積を保持するように構成されたリザーバと、リザーバと流体接続されており、かつ燃料の流れを軌道に沿ってプラズマ形成配置に向かって誘導するように構成されたノズルと、レーザ放射をプラズマ形成配置における流れに誘導して使用中に放射生成プラズマを生成するように構成されたレーザと、ノズル出口の上流で放射源の燃料流路に配置された汚染フィルタアセンブリとを含む放射源が提供される。汚染フィルタアセンブリのフィルタ媒体は、フィルタ媒体を少なくとも部分的に囲う１つ以上の物体によって提供されるクランプ力によって汚染フィルタアセンブリ内の適切な位置で保持される。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置において、ＥＵＶ集光ミラーによってＥＵＶ光が集光される位置のずれを低減する。
【解決手段】この極端紫外光生成装置は、ターゲット物質に少なくとも１つのレーザ光を照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する極端紫外光生成装置であって、ターゲット物質に照射される少なくとも１つのレーザ光が入射する開口部を有するチャンバと、チャンバが搭載された基準部材と、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、ターゲット供給装置によって所定の領域に供給されるターゲット物質に少なくとも１つのレーザ光を集光してターゲット物質をプラズマ化するレーザ光集光光学系と、基準部材に固定され、プラズマから放射される極端紫外光を反射して集光する集光ミラーとを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】燃料が予期しないまたは意図的ではない障害または制限に遭うことなくノズルを通過することができる放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、リザーバ、ノズル、レーザおよび正のレンズを含む。リザーバは、燃料の体積を保持するように構成される。リザーバと流体接続されたノズルは、燃料の流れを軌道に沿ってプラズマ形成配置に向かって誘導するように構成される。レーザは、レーザ放射をプラズマ形成配置における流れに誘導して、使用中、放射生成プラズマを生成するように構成される。正のレンズ構成は、燃料の流れの軌道の少なくとも潜在的な広がりをプラズマ形成配置に向かって合焦させるように構成され、レンズは電界生成要素および／または磁界生成要素を含む。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置において、ターゲットの大きさやターゲットの位置の安定性を向上させる。
【解決手段】この極端紫外光生成装置は、ターゲット物質を貯蔵するターゲット貯蔵部と、ターゲット物質を出力するノズル部と、ターゲット物質との間に直流電圧が印加されたときにターゲット物質のターゲットを生成する電極と、ターゲットを検出して検出信号を出力するターゲット検出器と、内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲット物質と電極との間に印加される直流電圧を調節する直流電圧調節器と、ターゲット貯蔵部に貯蔵されているターゲット物質に印加される圧力を調節する圧力調節器と、ターゲット検出器から出力される検出信号に基づいて、直流電圧調節器と圧力調節器との内の少なくとも１つを制御する制御装置とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】有効利用する波長において、ＥＵＶ光源、特に、ＥＵＶプラズマ光源の光源パワー及び光源位置を十分な精度を持って測定することができる測定手段を備えたＥＵＶ照明システムを提供する。
【解決手段】少なくとも一つのＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光源（３）と、特に、有効利用する波長の範囲で、ＥＵＶ光源（３）の、又はＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動及び／又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）とを備えたＥＵＶ照明システムにおいて、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）がＥＵＶ光源（３）から、又はその中間像（７）の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲がＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置される。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質の出力位置の安定性が向上し、チャンバ外の異物がチャンバ内に侵入することを抑制し得るとともに、チャンバ内のターゲット物質がチャンバ外に放出されることを抑制し得るノズルのクリーニング機構を提供すること。
【解決手段】ＥＵＶ光生成装置１のノズル７１２のクリーニング機構９は、ＥＵＶ光２５２の生成が行われるチャンバ２内にターゲット物質２７１を出力するためのノズル７１２を、チャンバ２内で物理的にクリーニングしてもよい。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの軌道を擾乱させることなく、ドロップレットターゲットをレーザ照射位置に高速に供給する機構と、プラズマから発生したイオン（帯電したデブリ）を磁場の作用によりトラップする機構とを両立させる。
【解決手段】極端紫外光源装置は、（ｉ）内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、（ii）チャンバ内にターゲット物質を噴射するターゲットノズルと、（iii）ターゲットノズルから噴射されるターゲット物質を帯電させる電荷供給装置と、（iv）電磁石、超伝導磁石、及び、永久磁石の内のいずれかを含み、チャンバ内にミラー磁場を形成する１組の磁石と、ターゲット物質の軌道において該ミラー磁場の磁束線が略直線状且つターゲット物質の進入方向に対して略平行となるように、補助的な磁場を形成する少なくとも１つの補助磁場形成装置とを含む磁場形成装置とを有する。 （もっと読む）