【課題】 非周期構造を持つ多層膜ミラーでありながら、膜厚分布が精密に管理可能なＥＵＶ用ミラーの提供すること。
【解決手段】 基板１１と、基板１１上に形成された非周期的な多層膜を含んだＥＵＶ光用の有効領域１３とを備えるＥＵＶ用ミラーに、基板１１上の有効領域１３とは異なる領域に形成された周期的な多層膜によって構成される第１の評価領域１４を設ける。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射線生成の副生成物として作り出される粒子によって生じる問題に影響を受けないリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】該リソグラフィ装置は放射線のビームを供給する照明システムと、パターニング構造を支持する支持構造を配備する。該パターニング構造は放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成されている。該装置はまた、基板を支持する基板支持と、パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムを配備する。該照明システムは極紫外線を生成する放射線生成システムと、極紫外線を収集する放射線収集システムを配備する。極紫外線生成の副生成物として作りだされる粒子はほとんど粒子移動方向に移動する。該放射線収集システムは粒子移動方向と大きく異なる収集方向に放射する極紫外線を収集するように調整される。 （もっと読む）

【課題】放射源を改善する。
【解決手段】放射源は、放射を生成するように構成される。放射源は、プラズマ燃料から放射放出プラズマを生成するための使用に際して、放電を生成するように構成された第１電極（１１；６１）および第２電極（１２；６２）を含む。放射源は、また、前記第１電極（１１；６１）および前記第２電極と関連付けられた燃料リリース領域へプラズマ燃料を供給するように構成された燃料供給源と、前記燃料供給源により供給された燃料の前記燃料リリース領域からのリリースを誘発させるように構成された燃料リリース装置と、を含む。前記燃料リリース領域は前記第１電極（１１；６１）および前記第２電極から離隔される。 （もっと読む）

印加された軸方向磁場を含めることのできる自己磁場閉じ込め型リチウムプラズマが、二酸化炭素レーザによって亜臨界密度において照射されて、１３．５ｎｍの波長で極紫外光子を高効率、高出力、かつ小型光源で生成する。
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【課題】放電電流の電流密度を高くして極端紫外光の発光強度および輝度を大きくし、か集光点化し、露光精度の向上を図る。
【解決手段】容器１内に極端紫外光を放射するための液体原料を供給する手段１８と、エネルギービームを原料に照射して気化する手段３と、気化した原料を放電により加熱励起して高温プラズマを発生させるための所定距離離間して配置された一対の放電電極と、放電電極間にパルス電力を供給する手段１７と、放電電極間における放電により生成された高温プラズマから放射される極端紫外光を集光する手段１３と、集光された極端紫外光を取り出す取出部１４とを有する極端紫外光光源装置において、一対の放電電極は、各々が回転軸７，９と直交しかつ該回転軸の周りを回転する円盤状の回転電極６，８を備え、回転軸７，９および回転電極６，８を貫通する仮想直線Ａを中心として、一方の回転電極８が他方の回転電極６に対して回動変位している。 （もっと読む）

【課題】スズを使用して極端紫外光を発生させる際に、スズ化合物を十分に除去すること。
【解決手段】内部が排気されたチェンバー（２）と、前記チェンバー（２）内に設定されたプラズマ生成領域（２ｂ）に導入されたスズを加熱、励起してプラズマを発生させるプラズマ発生装置（６）と、前記スズのプラズマから放出される極端紫外光（９）が導出される極端紫外光導出部（１１）と、前記スズのプラズマから発生するスズ酸化物が付着した付着部（１０ａ）に対して真空紫外光（１５ａ）を照射する真空紫外光源装置（１５）と、を備え、前記真空紫外光（１５ａ）により前記付着部（１０ａ）に付着したスズ酸化物をスズに還元することを特徴とする極端紫外光源装置（１）。 （もっと読む）

【課題】放電電流の電流密度を高くしてＥＵＶ光の発光強度および輝度を大きくし、かつ集光点化し、露光精度の向上を図る。
【解決手段】容器１内にＥＵＶ光を放射させるための液体等の原料を供給する手段１８と、エネルギービームを原料に照射して気化する手段３と、気化した原料を放電により容器内で加熱励起して高温プラズマを発生させるための所定距離だけ離間した一対の放電電極６，９と、放電電極間にパルス電力を供給する手段１７と、放電電極間における放電により生成された高温プラズマから放射されるＥＵＶ光を集光する手段１４と、集光されたＥＵＶ光を取り出す取出部１５とを有する極端紫外光光源装置において、一対の放電電極６，９は回転機構が接続されて回転する円盤状の放電電極であり、少なくとも一方の円盤状の放電電極の周縁部の他方の放電電極と対向する位置に、複数の突起７，１０が形成されている。 （もっと読む）

【課題】放電チャンネルの位置を画定可能とし、当該放電チャンネルにおける高温プラズマ原料の密度を適宜設定できるようにすること。
【解決手段】高温プラズマ原料２１を例えば滴下しレーザビーム２３を照射して気化させる。レーザビーム２３は１対の電極１１，１２間の放電領域を通過して高温プラズマ原料２１に照射され、気化した原料の少なくとも一部が放電領域に到達したとき、放電電流が所定の閾値となるように電極１１，１２間にパルス電力を印加する。これにより、電極間で放電が開始し、プラズマが加熱励起されてＥＵＶ放射が行われる。放射されたＥＵＶ放射はホイルトラップ３を通過してＥＵＶ集光鏡２により集光され取り出される。レーザビーム２３を照射しているので、高温プラズマ原料の空間密度分布を所定の分布に設定することが可能となり、また放電チャンネルの位置を画定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】放射源から生成される汚染物質を照明システムまたは他の構造から排除または低減する。
【解決手段】パターニングデバイスからのパターンを基板上に投影するように構成されたリソグラフィ装置が開示される。このリソグラフィ装置は、照明システム（ＩＬ）と、照明システム（ＩＬ）の内壁（６４）と外壁（６２）との間から、または、放射源（ＳＯ）がある場合には、照明システム（ＩＬ）の内壁（６４）と放射システム（ＳＯ）の内壁（６２）との間からガスを排出するポンプシステム（７８）に接続されたアウトレットとを含む。 （もっと読む）

閉ループ流路を形成する封入構造体と、流路と流体連通することができるプラズマ部位でプラズマを発生させるシステム、例えば、レーザ生成プラズマシステムとを含むことができる装置及び対応する使用方法を本明細書で説明する。この装置に対して、ガスは、イオン阻止緩衝ガス及び／又はエッチャントを含むことができる封入構造体に配置することができる。ポンプを設けて、閉ループ流路を通してガスを押し進めることができる。流路を流れるガスから熱を除去する１つ又はそれよりも多くの熱交換器を設けることができる。一部の構成では、フィルタを使用して、流路を流れるガスからターゲット種の少なくとも一部分を除去することができる。 （もっと読む）

本発明は、ガス放電光源のための電極素子１、２及び電極素子１、２の一方又は双方を持つガス放電光源に関する。電極素子１、２は、回転軸２２のまわりに回転方向に回転可能な電極ホイール７であって、２つの側面２５の間に外周面２４を持つ電極ホイール７を有する。電極ホイール７の外周面２４及び側面２５の一部をカバーする電極ホイールカバー８が備えられる。カバー８は、カバー８と、外周面２４及び側面２５の径方向外側部分との間に、円周方向に冷却チャネル１２を形成するように構成され、更に、カバー８と前記円周方向に冷却チャネル１２を延長した位置における外周面２４との間にギャップ２３を形成するように構成される。ギャップ２３は、冷却チャネル１２よりも小さな流れ断面を持ち、電極ホイール７の回転の間に、外周面２４に形成される液体物質の膜の厚さを制限する。ギャップ２３の代わりに、カバー８は、冷却チャネル１２を通って流れる該液体物質からの斯かる膜の形成を抑制するように構成されても良い。冷却チャネル１２は同時に、冷却チャネル１２を通って循環する該液体物質により、電極ホイール７の冷却を可能とする。カバー８の提案される設計により、電極ホイール７の効率的な冷却が実現され、斯かる電極素子を持つガス放電光源を動作させるための高い電力を可能とする。
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本発明は、ガス放電光源用の電極デバイスに関しており、また、当該ガス放電光源を作動させる方法に関している。電極デバイスは、回転軸3の周りで回転可能な電極車輪1と、前記電極車輪1の回転の間、電極車輪1の外周表面18の少なくとも一部に適用される液体材料の膜の厚みを限定するために配置されたワイパー・ユニット11 と、を有する。ワイパー・ユニット11は、外周表面18とワイパー・ユニット11の拭き取り端19との間にギャップ17を形成するよう、及び回転の間、電極車輪1の側面から外周表面18への液体材料の移行を禁止又は少なくとも減じるよう、設計され、配置されている。提案された電極デバイスがあると、電極車輪1は、液滴の形成も無く、より高い回転速度で回転することができ、結果として、斯様な電極デバイスをもつガス放電光源のより高い出力パワー及びより高いパルス周波数を生じる。
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【課題】プリパルスを用いずに放射線を効率よく発生することができ、デブリの発生を抑えることができる放射線源用ターゲットを提供する。
【解決手段】極端紫外光源粒子１０は、高分子電解質の積層膜から成る泡状構造体１１と、泡状構造体１１に担持されたスズ層１２とから成る。極端紫外光源粒子１０の径を大きくすれば単独の極端紫外光源粒子から成るターゲットとすることができ、極端紫外光源粒子１０の径を小さくして多数を液化不活性ガス等に分散させれば、その分散液の液滴をターゲットとすることができる。このようなターゲットは、１パルスのレーザー光により丁度プラズマ化できる程度の量のプラズマ源物質を有し且つパルスレーザー光の径に対応する大きさにすることにより、極端紫外光を効率よく発生することができる。スズの代わりに金や銅等を使用すれば、極端紫外光以外の放射線を発生する放射線源用ターゲットが得られる。 （もっと読む）

【課題】バッファガスの有効性を改善することができる放射源、放射を生成する方法、及びリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】チャンバ１およびプラズマ生成物質の供給源４を含む放射源ＳＯであって、放射源ＳＯは、チャンバ１に導入されるプラズマ生成物質がレーザビーム７と相互作用し、それによって放射放出プラズマを生成する相互作用点１３を有しており、放射源ＳＯは、バッファガスをチャンバ１に送出するように構成され、かつ相互作用点１３に隣接する出口１２を有する導管１１をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】コレクタミラーの変形および劣化を防止することができる極端紫外線を生成するモジュールおよび方法を提供する。
【解決手段】極端紫外線を生成するモジュール（１）は、点火物質の小滴を所定のターゲット点火位置に供給する供給源と、所定のターゲット点火位置に焦点が合わされ、所定のターゲット点火位置に配置されるそのような小滴（４）に衝突することによりプラズマを生成して小滴を極端紫外線生成プラズマに変化させるレーザ（６）とを含む。さらに、このモジュールは、極端紫外線を反射して極端紫外線を焦点（ＦＰ）に合わせるミラー面（１４）を含むコレクタミラー（１２）を含む。流体供給源（２）は、ミラー面に対して横断方向においてミラー面から離れるように流れるガス流（ＧＦ）を形成してプラズマによって生成された粒子デブリを軽減する。 （もっと読む）

【課題】 ホイルトラップを設けることなく、高速イオンや高速原子を捕捉し、高速イオンや高速原子によるＥＵＶ集光鏡のダメージを抑制できるようにすること。
【解決手段】 放電ガスをプラズマ生成部２に供給し、高電圧パルス発生部１１の放電回路１１ａから第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に高電圧パルス電圧を印加する。これにより高温プラズマが発生し波長１３．５ｎｍの極端紫外光が放射される。この極端紫外光は集光反射鏡４により集光されＥＵＶ光取出部６から出射する。また、第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に放電が発生するタイミングと略同一タイミングで第２の主放電電極２ｂと第３の電極１５間に放電回路１１ｂからパルス電力を供給する。これにより、プラズマＰ２が生成され、生成されたプラズマＰ２により生ずる電界と磁界により、上記高温プラズマに起因して生ずる高速粒子を捕捉する。 （もっと読む）

【課題】改良された放射源をもつリソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】リソグラフィシステムが、放射を発生するように構成された放射源であって、放射源は、カソードおよびアノードを含み、カソードおよびアノードは、放電空間内に配置された燃料内に放電を生成してプラズマを発生するように構成され、放電空間は、使用中、プラズマによる放射放出を調節してプラズマによって画定される容積を制御するように構成された物質を含む、放射源と、パターニングデバイスを保持するように構成されたパターンサポートであって、パターニングデバイスは、放射にパターン形成してパターン付き放射ビームを形成する、パターンサポートと、基板を支持するように構成された基板サポートと、パターン付き放射ビームを基板上に投影するように構成された投影システムとを含む。 （もっと読む）

【課題】集光反射鏡の光反射面上に堆積する汚染物質を完全に除去することのできる集光反射鏡の前処理およびクリーニング方法並びに極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】放電ガスをプラズマ生成部２に供給し、高電圧パルス発生部１１から第１、第２の主放電電極２ａ、２ｂ間に高電圧パルス電圧を印加する。これにより高温プラズマが発生し波長１３．５ｎｍの極端紫外光が放射される。この極端紫外光は集光反射鏡４により集光されＥＵＶ光取出部５から出射する。高温プラズマの生成により生ずるデブリが集光反射鏡４の光反射面上に汚染物質層を形成するが、これを完全に除去するため、本発明においては汚染物質層が形成される前に、集光反射鏡の表面にクリーニングガス構成物質を付着させておく。これにより、クリーニングガス供給ノズル２５からクリーニングガスを流通させることで、汚染物質をほぼ完全に除去することができる。 （もっと読む）

【課題】露光装置の性能の低下、稼動率の低下を抑制して、基板を良好に露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、極端紫外域の露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光をパルス状に発光する光源装置と、露光光が進行するほぼ真空状態の第１空間を形成する第１部材と、露光光が通過するように第１部材の少なくとも一部に形成された第１開口と、発光と同期して第１開口を開閉する開閉機構とを備えている。 （もっと読む）

【課題】回転フォイルトラップがある状態での二次汚染の恐れを軽減すること。
【解決手段】デブリ防止システムが、放射源から放出されるデブリが放射源からの放射と共にリソグラフィ装置内へ、または装置の中で伝播することを防止するように構成されている。デブリ防止システムは回転軸の周りを回転可能な第１フォイルトラップ、および、第１フォイルトラップを少なくとも部分的に囲む第２フォイルトラップを含む。第２フォイルトラップは放射源を配置するための中心位置に対して光学的に開いている、かつ回転軸に垂直な方向に対して光学的に閉じている複数のフォイルを含む。 （もっと読む）