【課題】磁場トラップによってデブリ拡散が防止されたデブリの回収と残存ターゲットの回収とを簡易な構成で行うことができること。
【解決手段】極端紫外光光源装置１０は、ターゲット１７をノズル７から供給するターゲット供給部（５、６）と、ノズル７に対向する位置に配置され、プラズマの生成に寄与しなかったターゲットである残存ターゲットを回収するターゲット回収部（１４、１５）と、プラズマが生成されるプラズマ領域を通る磁界方向軸周辺に磁場領域を形成し該プラズマ領域から放出されるイオンを含む荷電粒子を該磁界方向へ収束する磁場生成部（１１ａ、１１ｂ）と、前記磁場により収束された荷電粒子を回収するために前記磁場領域の磁界方向軸両端側に設けられた荷電粒子回収部（１２ａ、１２ｂ）と、を備え、ノズル７が、真空チャンバ１内であって、磁場領域内で荷電粒子が収束される収束領域Ｅ２外に配置される。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式極端紫外光（ＥＵＶ）光源装置において長期の連続運転を可能にするため、高温に晒されるバルブを使わずに、ターゲット物質を連続して供給することができるターゲット供給システムを提供する。
【解決手段】高圧溶融槽２１と液滴発生器２２，２３とターゲット物質貯槽３０と移送機構３３を備えたターゲット供給システムにおいて、移送機構３３は、高圧溶融槽の溶融ターゲット物質２６が不足するとターゲット物質貯槽から粒状のターゲット物質３５を高圧溶融槽に移送し、高圧溶融槽が、粒状固体のターゲット物質を溶融して液滴状のターゲット１３として供給する。 （もっと読む）

少なくとも一部が線形軸に沿って整列したビーム経路に沿って進むレーザビームと、ＥＵＶ光放射プラズマを生成するために照射部位でレーザビームと相互作用する材料と、焦点を有し、焦点が線形軸上にあるように位置決めされ、ビーム経路に沿ってレーザ光を受け取る第１の反射器と、第１の反射器によって反射されたレーザ光を受け取って照射部位に向けてレーザ光を誘導する第２の反射器とを含むことができるＥＵＶ光源デバイスを本明細書に説明する。 （もっと読む）

【課題】高い変換効率を維持しつつ、長期間にわたって安定した信頼性の高い極端紫外光を生成することができる極端紫外光源装置を提供すること。
【解決手段】液体金属であるドロップレットＤにプリパルスＰ１を照射した後にメインパルスＰ２を照射してＥＵＶ光を生成する極端紫外光源装置において、プリパルスＰ１をドロップレットＤ１に照射しドロップレットＤ１の一部を残してプリパルスレーザ光照射側の該ドロップレットＤ１空間外の異なる空間にプリプラズマ１の空間を生成するプリパルスレーザと、プリプラズマ１の空間にメインパルスＰ２を照射してＥＵＶ光を生成するメインパルスレーザと、を備える。 （もっと読む）

【課題】ラップトップサイズの近接場の増幅を利用した高次高調波の生成装置を提供する。
【解決手段】フェムト秒レーザー発生器と、フェムト秒レーザー発生器から出力される光を伝達する光伝達手段と、光伝達手段を通じて伝達された光が通過するときに近接場の増幅を起し得るナノ開口を有する金属薄膜の微細パターンと、光伝達手段を通じて伝達された光が微細パターンを通過するとき、非活性ガスを供給させるガス供給部と、微細パターン及びガス供給部を真空雰囲気内で収容するための真空チャンバと、を備えるラップトップサイズの近接場の増幅を利用した高次高調波の生成装置である。これにより、外部の光増幅器なしに微細パターンを通じて近接場の増幅に入射されるフェムト秒レーザーの反復率を維持させつつ高次高調波の生成を達成することによって、ラップトップサイズに小型化することができる。 （もっと読む）

光学モジュールを用いて、ＥＵＶ放射線ビームを案内する。光学モジュールは、真空排気可能なチャンバ（３２）と、チャンバ（３２）内に収容した少なくとも１つのミラーとを備える。上記ミラーは、互いに補完し合ってミラー反射面全体を形成する反射面（３４）を有する複数の個別ミラー（２７）を有する。支持構造を、熱伝導部（３７）により個別ミラー（２７）それぞれのミラー本体（３５）にそれぞれ機械的に連結する。ミラー本体（３５）の少なくとも若干は、少なくとも１自由度での支持構造（３６）に対するミラー本体（３５）の所定の変位を得るための関連のアクチュエータ（５０）を有する。熱伝導部（３７）は、ミラー本体（３５）が吸収する少なくとも１ｋＷ／ｍ^２の熱パワー密度を支持構造（３６）に放散させるよう構成する。光学モジュールの一態様では、集積電子変位回路を、変位可能な個別ミラー（２７）のそれぞれに空間的に近接して関連付ける。この変更形態では、中央制御装置を、変位可能な個別ミラー（２７）の集積電子変位回路と信号接続する。その結果、個別ミラーに無視できない熱負荷がかかる場合でも高いＥＵＶ放射線スループットを確保する照明光学系を構成できる、光学モジュールが得られる。 （もっと読む）

【課題】耐用期間の長い、プラズマに基づく短波長放射線源の動作に関する方法およびその装置を提供して、緩衝ガスを使用することにより放射線生成の主なプロセスが著しく損なわれることなく、かつ空間的に狭く制限された方法で分圧を生成するために費用を大幅に追加する必要なく大量にデブリを削減することを可能とする。
【解決手段】緩衝ガス（４１）として水素ガスを真空室（１）に圧力下で導入して、１〜１００Ｐａ・ｍの範囲内の圧力−距離の積を実現する一方、緩衝ガス（４１；４４）内で放射プラズマ（２１）によって放射された放射線の幾何学的な放射経路を考慮するような、および真空室（１）が、準静的に圧力調整するために（４２；４７）および残留放射材料と緩衝ガス（４１）とを除去するために連続的に吸引される。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、高い熱負荷状態において、可飽和吸収体を安定して連続的に使用することができる。
【解決手段】可飽和吸収体（ＳＡ）装置３３は、自励発振光や寄生発振光あるいは戻り光のような微弱な光を吸収するために、レーザビームライン中に設けられる。ＳＡガスボンベ３３４（１）からのＳＡガスとバッファガスボンベ３３４（２）からのバッファガスとは混合されて、混合ガスとなる。混合ガスは、供給管路３３３（１）を介して、ＳＡガスセル３３０に供給され、レーザ光Ｌ１に含まれる微弱光を吸収する。混合ガスは、排出管路３３３（２）を介して排出され、熱交換器３３２に送られる。熱交換器３３２で冷却された混合ガスは、循環ポンプ３３１（１）により、再びＳＡガスセル３３０に送られる。 （もっと読む）

【課題】多数のホイルを備えたホイルトラップにおいて、多数のホイルを確実に支持でき、またホイルを放射状に並べることができるようにすること。
【解決手段】ホイルトラップは、ＥＵＶ光の光軸に沿って設けられた円柱部材１８と、該円柱部材１８から半径方向に放射状に配置された複数のホイル２０と、外側リング１９から構成されている。外側リング１９内周には、スリット２１が形成され、そのスリットにホイル２０が挿入され、ホイル２０の他端は、円柱部材１９の周側面に突き当てられる。円柱部材１８を配置し、ホイル２０を円柱部材１８の周側面に突き当てるようにしたので、ホイルの枚数が多くなっても、ホイルを放射状にそろえて並べることができる。なお、円柱部材１８の周側面にスリットを形成し、一部のホイルを挿入するように構成すればホイルトラップの組み立てが容易になる。 （もっと読む）

【課題】放電領域におけるプラズマ原料のガスの密度を適切な状態にすることが可能なＥＵＶ光源装置、並びに、ＥＵＶ発生方法を提供すること。
【解決手段】放電電極上の高温プラズマ原料２１に第１のエネルギービーム２３を照射して気化させる。気化した原料が対向する電極に到達し放電が開始するまでの間に、第２のエネルギービーム２４を再び高温プラズマ原料２１に照射する。放電により第２のエネルギービーム２４照射によって発生した密度の高い原料ガスが圧縮加熱されるため、ピンチの効率が高まり、高い変換効率のＥＵＶ光放射が得られる。第２のエネルギービーム２４を野照射のタイミングを適宜設定することにより、原料ガスの密度を適切な状態にすることができる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源装置のＥＵＶ出力を安定させるために、ターゲット物質の液滴の射出方向のズレを補正する。
【解決手段】ターゲット物質の液滴１０１を予め設定されているプラズマ発光点１０３に向けて出力する液滴生成装置１１０と、ターゲット物質の液滴１０１を帯電させる帯電装置１３０と、帯電されたターゲット物質の液滴１０１ａの進行方向を補正して、プラズマ発光点１０３へ向かうように軌道内に電場または磁場を形成する軌道補正装置１４０と、プラズマ発光点１０３において帯電されたターゲット物質にレーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザ光源１５０と、を備える極端紫外光源装置。 （もっと読む）

放射源（ＳＯ）は極端紫外線を生成するように構成されている。放射源（ＳＯ）は、燃料が放射ビーム（５）に接触されてプラズマを形成する位置に配置されたプラズマ形成部位（２）と、ガスが放射源（ＳＯ）を出ることを可能にするように構成された出口（１６）と、少なくとも部分的に出口（１６）の内部に配置された汚染トラップ（２３）とを含む。汚染トラップは、プラズマの形成によって生成されるデブリ粒子を捕捉（２３）するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】 汚染粒子によって与えられる損傷を軽減することである。
【解決手段】 放射源は、極端紫外線を生成するように構成される。放射源は、使用中に内部でプラズマが発生するチャンバと、プラズマから副生成物として形成され蒸着面へと放出される材料を蒸着させるように構成された蒸着面を含む。リソグラフィ装置の放射源内の又はプラズマ放射源から副生成物材料を除去する方法は、使用中にプラズマから蒸着面へと放出される材料を蒸着させることを含む。 （もっと読む）

【課題】集光反射鏡４を交換したりアパーチャー部材５を交換する際の作業を簡易に行うことのでき、コストを低減することが可能な極端紫外光光源装置を提供すること。
【解決手段】高温プラズマ用の原料に対し、エネルギービーム照射機５０からレーザービームが照射され、気化したＬｉまたはＳｎが放電電極２０ａと２０ｂとの間の放電領域に到達する。この状態で、制御部８から高電圧パルス発生部１１に指令が送信されと、高温プラズマが発生し、高温プラズマから放射されたＥＵＶ光は、集光反射鏡４に反射されることによってアパーチャー部材５の開口５ａに導入されＥＵＶ光出射部６から出射する。アパーチャー部材５は、集光反射鏡４に対して光学的に位置決めされた状態で、支持部材７により固定されユニット化されている。このため、集光反射鏡４のみを光学的に最適な場所に位置決めするだけで、アパーチャー部材５も最適な場所に位置決めされる。 （もっと読む）

【課題】 放電電極の周囲に残留する気化した原料ガスによる影響を低減するため、放電電極の周囲に残留する気化した原料ガスを除去すること。
【解決手段】 極端紫外光を放射するための原料と、前記原料の表面にエネルギービームを照射して前記原料を気化させるためのエネルギービーム照射手段と、前記気化した原料を、放電により加熱励起し高温プラズマを発生させるための一対の放電電極と、前記放電電極に高繰り返し高電圧を供給する高電圧供給手段と、を備える極端紫外光光源装置であって、前記放電電極の付近に残留する前記気化した原料を除去するための残留ガス除去手段を備える。 （もっと読む）

放射システムは、放射ビームを生成するように構成される。この放射システムは、放射およびデブリを放出するプラズマを生成するように構成された放射源（５０）と、集光された放射を放射ビーム放出開口（６０）に誘導する放射コレクタ（７０）とを含む。磁場ジェネレータ（２００）は、磁場強度の勾配を有する磁場を発生させてプラズマを放射コレクタ（７０）から離して誘導するように構成される。 （もっと読む）

【課題】クリーニングガスを集光鏡に導入するに際し、簡易な手段で、外側のミラーに対してよりも内側のミラーに対してクリーニングガスを多く供給できるようにすること。
【解決手段】 クリーニングガスを導入するガスノズル２１を、直管状のパイプで構成し、集光鏡３ａの複数のミラーを支持する支柱に沿って、集光鏡３ａの光出射口を横断するように設け、このパイプに複数のガス吹き出し口を形成する。そして、このガスノズル２１へのクリーニングガスの供給を、集光鏡３ａの光出射口の中心付近に当たる位置からおこない、パイプに設けたガス吹き出し口から、集光鏡の内部に向けて、ガスを吹き出す。これにより、集光鏡３ａの外側のミラーよりも内側のミラーに対してより多くの量のクリーニングガスを供給することができる。 （もっと読む）

【課題】放射ビームを用いて高品質で安定した放射出力を発生することができる放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、放射源の放射出力を生成するよう用いられる放射ビームを発生するビームジェネレータと、放射ビームをモニタするビームモニタを含む。リソグラフィ装置にこの放射源が含まれる。デバイス製造方法は、第１タイプの放射を第２タイプの放射ビームを用いて発生することと、第２タイプの放射の品質をモニタすることと、第１タイプのパターン付き放射ビームを基板上に投影することを含む。 （もっと読む）

【課題】燃料の小滴がレーザビームパルスを通り抜けるためにかかる時間を増加させる方法および／または装置を提供する。
【解決手段】放射源は、放射を生成するように構成されている。放射源は、プラズマ生成部位へと誘導される燃料の小滴の流れを生成するように構成された燃料小滴ジェネレータと、プラズマ生成部位へと誘導されるレーザビームを生成するように構成されたレーザであって、小滴の流れの動きの方向とレーザビームの方向との間の角度は９０℃より小さい、レーザと、放射ビームと小滴とが衝突した場合にプラズマ形成部位で形成されたプラズマによって生成される放射を集光するように構成されたコレクタとを含む。コレクタは、放射を実質的に放射源の光軸に沿って反射させるように構成されている。レーザビームは、コレクタに設けられたアパーチャを通ってプラズマ生成部位へと誘導される。 （もっと読む）

リソグラフィ装置（１）は、極端紫外線を生成するように構成された放射源（ＳＯ）を含み、放射源（ＳＯ）は、プラズマ（２２５）が生成されるチャンバ（２１０）と、プラズマ（２２５）によって放出された放射を反射するように構成された集光ミラー（２７０）と、デブリ軽減システム（２３０）とを含む。デブリ軽減システム（２３０）は、プラズマ（２２５）によって生成されたデブリを熱化するために選択される第１ガス流（２４０）をプラズマに向かって供給するガス供給システム（２３５）と、集光ミラー（２７０）に近接する位置に配置され、チャンバ（２１０）内に第２ガス流（２５０）を供給する複数のガスマニホルド（２４７）を含む。第２ガス流（２５０）は、熱化デブリが集光ミラー（２７０）上に堆積するのを防止するようにプラズマ（２２５）に向かって誘導される。 （もっと読む）