【課題】プラズマからＥＵＶ光を供給する極紫外線（ＥＵＶ）光発生器を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ光源プラズマ生成チャンバ光学要素表面をプラズマ形成から生じるデブリから保護するためのシステム及び方法。本発明の実施形態の１つの態様では、光学要素とプラズマ形成部位の間に位置決めされた少なくとも１つの中空管を含むシールドを開示する。管は、光を比較的小さなグレージング入射角での反射を通じて管の内腔に通過させながらデブリを捕捉するように配向される。本発明の実施形態の別の態様では、シールド上に堆積したデブリ材料の１つ又はそれよりも多くの種を除去するのに十分な温度まで加熱されるシールドを開示する。本発明の実施形態の更に別の態様では、シールドが光源プラズマチャンバからシールドが洗浄される洗浄チャンバまで移動されるシステムを開示する。 （もっと読む）

【課題】気体放電プラズマからＥＵＶ光を発生させる方法と装置の提供。
【解決手段】電極２間に位置付けられ、少なくともバッファガス７が収容された放電空間６内の発光材料３が、気化用ビーム５の高エネルギーパルス放射により照射されることによって気化され、電極間に発生するパルス放電電流によってＥＵＶ光を発生させる放電プラズマに変換される。チャネル生成用ビーム４が、少なくとも２つの部分的ビームで供給され、ビーム焦点が電極２間でパルス同期した状態で重畳されるように成形、集光され、放電空間６に向けられ、導電放電チャネルは、少なくとも放電空間内に存在するバッファガス７の電離によって重畳領域に沿って生成され、チャネル生成用ビーム４の高エネルギーパルス放射は、それぞれの場合においてパルス放射電流によって放電チャネルが生成された後に、放電電流パルスがその最大値に到達するような方法でトリガされる。 （もっと読む）

【課題】コレクタの損傷を低減できる極端紫外線放射装置の実現。
【解決手段】放射源は、放射を放出する放射エミッタ、放射を収集するコレクタ６と、放射源によって放出される汚染物を捕集する汚染物トラップ５とを含む。汚染物トラップは、実質的に放射状に延びる複数のフォイルと、コレクタによって収集される放射の外側円錐軌道外に位置する第１の磁気リングと、コレクタによって収集される放射の軌道内に位置する第２の磁気リングとを含む。これらの磁気リングは、フォイルに平行な成分を含む磁界を提供する。 （もっと読む）

【課題】伝達される物体フィールドを照明するための放射の質を改善するコレクタを提供する。
【解決手段】ＥＵＶ放射源からの放射を集光して伝達するためのＥＵＶコレクタ（１５）が、中心軸（２４）に対して回転対称に構成された、ＥＵＶ放射源の放射を反射するための少なくとも１つのコレクタミラー（２３）と、この少なくとも１つのコレクタミラー（２３）を冷却するための冷却装置（２６）とを備え、冷却装置（２６）が、コレクタミラー（２３）に対する進路を有する少なくとも１つの冷却要素（２７）を有し、この進路を中心軸（２４）に垂直な平面内に投影したものに、予め定めた好ましい方向（２９）との間の最大２０°の角度ｂがいずれの場合にも含まれるようにする。 （もっと読む）

【課題】ウィンドウのレーザ光による熱負荷による特性の悪化を改善させる。
【解決手段】ウィンドウユニットは、レーザ光を透過するウィンドウと、前記ウィンドウの外縁を保持し、内部に前記ウィンドウの外側または内側の周辺に液体を流す流路が設けられたホルダとが設けられたウィンドウホルダと、を備えていてもよい。流路には、たとえば冷却装置から供給された冷却媒体が流れてもよい。 （もっと読む）

【課題】より安価で、より単純で、より堅牢で、一般的に商業的に実現可能な光源集光モジュール（ＳＯＣＯＭＯ）を提供する。
【解決手段】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するためのＳＯＣＯＭＯと、入射端および出射端を有し、ＬＰＰに相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーとに関する。ＬＰＰは、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部によって供給されるＳｎワイヤを照射する。ＧＩＣミラーは、ＬＰＰに相対配置され、入射端でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端に隣接する中間焦点に集束する。中間焦点に供給され、さらに／または、下流のイルミネータに導かれるＥＵＶの量を増加させるために、少なくとも一つの漏斗部を有する放射集光強化装置を使用してもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマを生成するための光源集光モジュールを提供する。
【解決手段】ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するための光源集光モジュール（ＳＯＣＯＭＯ）１００と、入射端３および出射端５を有し、ＬＰＰ２４に相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーＭＧとに関する。ＬＰＰ２４は、光源部およびターゲット部を備えるＬＰＰターゲットシステムを使用して形成される。光源部からのパルスレーザ光線は、ターゲット部のＳｎ蒸気源からの蒸気Ｓｎを照射する。ＧＩＣミラーＭＧは、ＬＰＰ２４に相対配置され、入射端３でＥＵＶを受光し、受光したＥＵＶを、出射端５に隣接する中間焦点ＩＦに集束する。中間焦点ＩＦに供給されるＥＵＶの量を増加させるために、放射集光強化装置を使用してもよい。また、ＳＯＣＯＭＯを利用するＥＵＶリソグラフィシステムについても開示される。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶコレクタミラーのスパッタ量を正確に反映させることにより、ミラー交換の時期を適切に判断できるようにする。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、真空チャンバ内に配置され、表面に膜が形成されているセンサを有し、プラズマから発生したイオンを含む粒子が該センサ表面に形成された膜をスパッタすることにより生じる膜厚の変化をモニタして、膜厚の変化を表す検出信号を出力するスパッタ量検出器と、該スパッタ量検出器から出力された検出信号に基づいて、膜厚の変化量を算出する計算部と、該計算部によって算出された膜厚の変化量が所定の基準値に至った場合に、集光ミラーの交換時期又は修理時期を表す判定信号を出力する判定部とを含む。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるＬＰＰ方式のＥＵＶ光源とその発生方法を提供する。
【解決手段】所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェットにその流れと平行な磁場５を印加する磁場発生装置２０と、極超音速定常ガスジェットにレーザー光３を集光して照射するレーザー装置１６と、を備え、レーザー光の集光点２においてターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ放射源における高速イオンを削減すること。
【解決手段】放射源は、放電空間の付近の放射源における第１のスポット上に第１のエネルギーパルスを誘導して放電をトリガする主プラズマチャネルを作成する第１の活性化源を含む。放射源は更に、放電空間の付近の放射源における第２のスポット上に第２のエネルギーパルスを誘導して追加プラズマチャネルを作成する第２の活性化源を含む。同じ放電中に第２のエネルギーパルスを誘導することによって、主プラズマ電流のショートカットが実現し、これは生成される高速イオンの量を削減することができる。 （もっと読む）

【課題】ノズルから噴射されたドロップレットターゲットを加速する場合に、加速後のドロップレットターゲットの速度を一定に維持することができるターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】液滴状又は固体粒状のターゲット物質を噴射するターゲットノズル１と、該液滴状又は固体粒状のターゲット物質を帯電させる電荷供給装置３と、該電荷供給装置によって帯電させられたターゲット物質の帯電量を計測する帯電量モニタ４及び帯電量計測部７と、帯電量計測部７の計測結果に基づいて、上記電荷供給装置をフィードバック制御する帯電量制御部８と、帯電したターゲット物質を加速する加速器５とを含む。 （もっと読む）

【課題】エテンデュが小さく、高出力を取り出すことができ、デブリによる損傷の少ない光源装置を提供する。
【解決手段】この光源装置は、ターゲットとなる物質を供給するターゲット供給部と、ターゲットにパルスレーザビームを照射することによりプラズマを発生させるレーザ部と、プラズマから放出される極端紫外光を集光する集光光学系とを備え、レーザ部は、パルスレーザビームを所定の繰り返し周波数で発生する発振段と、パルスレーザビームを低次の横モードにするアダプティブ光学素子と、媒質として二酸化炭素ガスを含み、パルスレーザビームを増幅する少なくとも１つの増幅段とを備え、発振段と少なくとも１つの増幅段とは、ＭＯＰＡ方式で直列に接続され、アダプティブ光学素子は、パルスレーザビームの光路上に配置されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施形態は、アパーチャの付近におけるビーム位置合わせのリアルタイム測定を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラズマの形態であるＥＵＶ放射源は、ＥＵＶリソグラフィ装置内の放射源コレクタモジュールの出口アパーチャを通過するように仮想放射源点に合焦される。プラズマ位置は、モニタリング信号を用いて３つの方向、Ｘ、Ｙ、Ｚにおいて制御される。光音響効果を利用することによって、モニタリングは、出口アパーチャを囲むコーンの材料に結合された音響センサを用いて非侵入形式で達成される。放射ビームの様々な角度位置を、相対的な到着時間または位相に基づいて様々なセンサからの信号同士を区別することによって、および／または、信号の振幅／強度を比較することによって推定することができる。シーケンサ機能を用いてビーム位置に意図的なオフセットのシーケンスを導入することができる。 （もっと読む）

【課題】有効波長領域（１３．５ｎｍ近傍）のＥＵＶ光の発光源であるプラズマにプラズマ媒質を所望の時間、安定供給することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】中心電極１２とガイド電極１４の間に位置しその間を絶縁するリング状の絶縁体１６が、プラズマ媒体（例えばＬｉ）を主成分とする常温で固体の絶縁化合物（例えばＬｉＨ）からなる。中心電極１２とガイド電極１４間の面状放電２により、絶縁化合物（絶縁体１６）の表面を気化してプラズマ媒体を同軸状電極間に供給し、次いで、１対の同軸状電極間に管状放電４を形成してプラズマ３を軸方向に封じ込める。 （もっと読む）

【課題】エネルギー変換効率を改善する。
【解決手段】ターゲット物質にプリパルスレーザ光Ｌ１を照射することによって拡散ターゲットＰＰを生成し、メインパルスレーザ光Ｌ２を該拡散ターゲットＰＰに照射することによってプラズマ化し、当該プラズマＰＲから放射された極端紫外光Ｌ３を出力する極端紫外光を生成する装置１は、プリパルスレーザ光Ｌ１の偏光状態を制御する第１偏光制御部１０、または、メインパルスレーザ光Ｌ２の偏光状態を制御する第２偏光制御部６１０のいずれか一方の偏光制御部、または両方の偏光制御部を備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶシステム内で蓄積される汚染の量をモニタリングできる光センサ装置を提供する。
【解決手段】極端紫外線リソグラフィシステムにおける使用のための光センサ装置が開示される。装置は、センサ表面およびセンサ表面からデブリを除去する除去機構を備えた光るセンサを含む。したがって、ドーズおよび／または汚染測定は、リソグラフィシステムに対して都合よく行われ得る。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができ、アーク放電による中心電極先端部のエロージョンを低減してその寿命を大幅に延ばすことができ、かつプラズマ媒体の供給量を増加させてプラズマを高密度化できるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】対向配置された１対の同軸状電極１０と放電環境保持装置２０と電圧印加装置３０とを備える。各同軸状電極１０は、中心電極１２と、中心電極の対向する先端部を囲むガイド電極１４と、中心電極とガイド電極の間を絶縁する絶縁部材１６とからなる。中心電極１２は、先端部１１を含む導電性多孔質部分１２ａを有し、この導電性多孔質部分を通してその内部から先端部１１にプラズマ媒体６からなる液体金属を染み出すようになっている。 （もっと読む）

【課題】（１）ＥＵＶ放射のプラズマ光を長時間安定させ（２）放射立体角が大きく（３）プラズマ媒体を連続供給し（４）出力を高めかつ放電ジッターを低減する（５）プラズマ中の不純物を防止して変換効率を高めるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】中心電極の軸方向内端部が対向配置された１対の同軸状電極１０と、１対の同軸状電極内の温度及び圧力を保持する放電環境保持装置２０と、各同軸状電極に放電電圧を印加する電圧印加装置３０とを備える。絶縁部材１６は、中心電極１２の外面又はガイド電極１４の内面に密着し、軸線Ｚ−Ｚに対称に配置され、液体金属のプラズマ媒体を滲み出させる複数の溝を有している。溝を介して供給された液体金属のプラズマ媒体を放電開始ピンとする中心電極とガイド電極間の面状放電により、同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマを軸方向に封じ込める。 （もっと読む）

【課題】有効波長領域（１３．５ｎｍ近傍）のＥＵＶ光を発する励起準位の輻射冷却時間を実質的に短縮し、ＥＵＶ光の高出力化を達成できるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】１３．５ｎｍ近傍に発光ラインを持つプラズマ媒体６と、１３．５ｎｍ近傍に発光ラインを有しかつプラズマ媒体より輻射冷却時間が短い添加物７とを同軸状電極１１間に供給し、１対の同軸状電極間に管状放電２を形成してプラズマ８を軸方向に封じ込め、プラズマ８内において励起されたプラズマ媒体６のイオンと励起していない添加物７のイオンとの間で共鳴エネルギー移転を生じさせ、プラズマ媒体６と添加物７の両方から１３．５ｎｍ近傍のＥＵＶ光を発光させる。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光能力を強化したＥＵＶ集光器システムを提供する。
【解決手段】極端紫外光（ＥＵＶ）の集光器システムは、集光器ミラーと、照明器の孔部材に隣接して配置される放射線集光強化装置（ＲＣＥＤ）１００とを備える。集光器ミラーは、ＥＵＶ光源からのＥＵＶを孔部材２２に導く。ＲＣＥＤ１００は、通常は孔部材の孔２４を通過しないか最適な角度分布を有しないＥＵＶの一部の進行方向を変える。これにより、ＥＵＶの一部は孔２４を通過し、照明器の入力仕様に好適に改善された角度分布を有する。したがって、集光器ミラー単体で得られる利用可能なＥＵＶ量よりも多くのＥＵＶ量が照明器に供給され、ＲＣＥＤ１００を有する集光器システムを利用したＥＵＶリソグラフィシステムの動作が向上する。 （もっと読む）