【課題】 ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度を高める。
【解決手段】 液滴生成室１００と、該液滴生成室と開口部１０１ａを介して接続されているプラズマ発生室１１０と、プラズマ生成室内にターゲット物質を供給するノズル１０２と、ノズルから供給されるターゲット物質に基づいて、繰り返し滴下するターゲット物質の液滴１０８を生成するピエゾ素子１０３及びピエゾドライバ１０６と、生成されたターゲット物質の液滴１０８ａが、開口部を通過するのを妨げる液滴遮断ユニット１０７と、液滴遮断ユニットが所定のタイミングで動作するように制御する制御部１１５と、レーザ光を出射するレーザ光源１１１と、レーザ光源から出射したレーザ光を、液滴生成室において生成され、開口部を通過してプラズマ発生室に導入されたターゲット物質の液滴１０８ｂに照射させるレンズ１１２とを含む。 （もっと読む）

光を発生する装置は、プラズマ放電領域（１１２）を有し、イオン性媒体を含む室（１０４）を備える。この装置は、さらに、プラズマ放電領域（１１２）の一部を囲む磁気コア（１０８）も備える。この装置は、さらに、エネルギーの少なくとも１つのパルスを磁気コア（１０８）に供給し、プラズマ放電領域（１１２）内に形成されるプラズマに電力を送るためのパルス電力システム（１３６）も備える。プラズマは、局所的高輝度ゾーン（１４４）を有する。
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【課題】放電発生プラズマ（ＤＰＰ）放射線生成デバイスまたはソースの利点を、レーザ発生プラズマ（ＬＰＰ）ソースの利点の多くと組み合わせるＤＰＰ放射線生成デバイスまたはソースを提供すること。
【解決手段】放電に基づいて放射線ソースを生成するデバイスは、陰極および陽極を含む。陰極および陽極の材料を流体の状態で供給する。材料は、デバイスの使用中にプラズマのピンチを形成する。任意選択で、ノズルを使用して材料を供給することができる。陰極および／または陽極は平坦な表面を形成してよい。材料の軌道は細長くてよい。レーザを使用して、放電をさらに容易に引き起こすことができる。レーザは、陰極または陽極へ、または陽極と陰極の間に配置された別個の材料へと誘導することができる。 （もっと読む）

【課題】 供給する光を基準点に対して所定の位置に維持することを可能とする光源装置、当該光源装置を有し、優れた露光性能を実現する露光装置を提供する。
【解決手段】 プラズマを生成し、前記プラズマから放射される光を供給する光源装置であって、前記プラズマから放射される光の位置を一定に維持する維持手段を有することを特徴とする光源装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】レーザにより誘発されるプラズマを用いたＥＵＶ放射線の時間的に安定な生成のための装置を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのレーザ（１）がターゲット（３）に向けられ、レーザ（１）がレーザ（１）の出力密度のきわめて安定な空間分布を有する少なくとも１つの所定平面（１１；１４）を有し、この所定平面（１１；１４）が光学結像システム（２）によってターゲット（３）に結像され、所定平面（１１；１４）の光学画像（２２）がレーザ焦点（１３）ではなくプラズマの生成のために動作するように縮小されることにより実現される。 （もっと読む）

本発明は、感光性レジストに覆われた物体を検査する照射装置に関し、その照射装置は、物体への放射線の経路を横切るシステムのみならず、ＥＵＶ放射線源と、ＥＵＶ放射線源をフィルタリングする光学系と、物体を収容するチャンバとを備える。本発明は、上記の装置を操作する方法にも関する。本発明は、複雑な光学系を用いることなく安価な実験用放射線源を用いて、複数の照射領域への、少なくとも一部同時の、異なった線量の照射ができる限り速く得られることを目的とする。従って、本発明は、シンプルでコンパクトな光学系を備える装置を提供し、照射される物体の前面に閉口可能なダイアフラム開口部を配置し、放射線の経路に少なくとも１つの制御センサーを配置し、放射線量の測定を可能にする。
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リキッドジェット型Ｘ線発生装置１の光源チャンバー１０内には、ノズル１１やミラー１５が配置されている。光源チャンバー１０の外壁部には、フランジ部材２０が設けられている。このフランジ部材２０には、ノズル１１の配管１３基端側が取り付けられており、同部材２０を取り外すことにより、ノズル１１を光源チャンバー１０外に取り出すことができる。リキッドジェット型Ｘ線発生装置１において、最も交換頻度の高い素子はノズル１１であるが、ノズル１１を交換する際にはフランジ部材２０を取り外すだけでよく、ノズル１１よりも交換頻度の低いミラー１５等を取り外す必要がない。
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【課題】液体状のＳｎを使用することを可能にすることにより高い変換効率を得ることが可能であり、かつ、debrisの除去が容易であるＥＵＶ光源を提供する。
【解決手段】加熱されたタンク４内には、Ｓｎの原子数％が１５％以下の組成を有するＳｎ−Ｇａ系合金が収納されている。加圧ポンプで加圧されたＳｎ合金はノズル１へ導かれて、真空チャンバー７内に設けられたノズル１の先端から液体状のＳｎ合金を噴出する。ノズル１から噴出された液体状のＳｎ合金は、表面張力により球形の形状となり、ターゲット２となる。真空チャンバー７の外に配置されたＮｄ：ＹＡＧレーザ光源８から発生したレーザ光は、レンズ９で集光されて真空チャンバー７内へ導かれる。レーザを照射されたターゲット２は、プラズマ化してＥＵＶ光を含む光を輻射する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外線の集光を効果的に行うことができ、製造および運転コストを低減し得る装置を提供する。
【解決手段】本発明の極端紫外線発生装置は、多数のレーザ出力源、集光手段（１１，１１０）、真空空間形成手段、ターゲット（４）生成装置（２）、第１の集光装置（１０，１１０）とを有し、前記集光手段が、前記ターゲットの前記レーザビーム（１）が位置する半分側の空間に位置するとともに、前記集光手段の平均集光軸（６）に対して約６０°から９０°の角度（β）で傾斜して、配置され；前記第１の集光装置が、前記ターゲット（４）のレーザビーム（１）が位置する半分側の空間に前記平均集光軸（６）周りに対称に配置され、前記平均集光軸（６）を中心とするとともに前記ターゲット（４）に位置する頂点を有する円錐状空間内に位置し、前記頂点の半角（α）が前記平均集光軸（６）に対する前記集光レーザビーム（１）の傾斜角（β）より小さい、ことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光発生器を提供する。
【解決手段】特にプラズマ原料物質がＭＬＭ材料の１つ又はそれよりも多くと反応性であるプラズマ発生ＥＵＶ光源チャンバにおいて使用するための様々な２元層材料を用いるＭＬＭスタックと単一及び２元キャップ層を含むキャップ層とを含むプラズマ発生ＥＵＶ光源光学要素、例えば反射器を形成するための機器及び方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集積回路リソグラフィに必要とされる電力レベルにおけるそのような用途に必要な所要線量安定性及び他のパラメータを有するＥＵＶ光の生成に関する技術を提供する。
【解決手段】移動プラズマ開始ターゲットを送出するようになったターゲット送出システムと、望ましいプラズマ開始サイトを定める焦点を有するＥＵＶ光集光光学器械とを含むレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）極紫外線（ＥＵＶ）光源制御システムを含むことができるＥＵＶ光生成のための機器及び方法。レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）極紫外線（ＥＵＶ）光源制御システムは、ターゲット追跡及びフィードバックシステムを含み、これは、個々のプラズマ形成ターゲットを撮像してターゲットストリーム進路として撮像されたターゲットストリームを形成するには遅すぎるカメラの撮像速度からもたらされるターゲットストリーム進路の画像を出力として供給する少なくとも１つの撮像装置と、望ましいプラズマ開始サイトと交差する望ましいストリーム進路からのターゲットストリーム進路にほぼ垂直な少なくとも１つ軸線内でターゲットストリーム進路の位置の誤差を検出するストリーム進路誤差検出器とを含む。少なくとも１つのターゲット横断検出器は、ターゲット進路に照準し、ターゲット進路内の選択スポットを通るプラズマ形成ターゲットの経路を検出することができる。駆動レーザトリガ機構は、ターゲット横断検出器の出力を利用し、駆動レーザ出力パルスがターゲット進路に沿って望ましいプラズマ開始サイトへのほぼその最も近い接近時に選択プラズマ開始サイトでプラズマ開始ターゲットと交差するように駆動レーザトリガのタイミングを判断する。プラズマ開始検出器は、ターゲット進路に照準し、それぞれのターゲットに対するプラズマ開始サイトのターゲット通路に沿った位置を検出することができる。中間焦点照明器は、中間焦点に形成された開口を照らし、開口を少なくとも１つの撮像装置内で撮像することができる。この少なくとも１つの撮像装置は、少なくとも２つ撮像装置とすることができ、各々は、少なくとも２つの撮像装置のそれぞれのものの画像の分析に基づいて中間焦点の画像の縦中心軸からのターゲット進路の分離に関連する誤差信号を供給する。ターゲット送出フィードバック及び制御システムは、ターゲット送出ユニットと、少なくとも第１の撮像装置内の画像の分析から導出された第１の変位誤差信号に対応する軸線において及び少なくとも第２の撮像装置内の画像の分析から導出された第２の変位誤差信号に対応する軸線においてターゲット送出機構を変位させるターゲット送出変位制御機構とを含むことができる。 （もっと読む）

【課題】レーザ生成プラズマと、パルスレーザビームによる照射のために照射サイトに送出された固形粒子又は液滴又は液滴に埋め込まれた固形粒子の形態の個別のターゲットとを用いるＥＵＶ光の発生のためのシステムを提供する。
【解決手段】選択パルス繰返し数で望ましいターゲット点火サイトに集束されるレーザパルスを供給するパルスレーザと、レーザパルス繰返し数に調整された選択間隔で個別のターゲットを供給するターゲット形成システムと、ターゲット形成システムと望ましいターゲット点火サイトとの中間にあるターゲットステアリングシステムと、ターゲットステアリングシステムがターゲットを望ましいターゲット点火サイトに向けることを可能にする、ターゲット形成システムとターゲットステアリングシステムとの間のターゲットの移動に関する情報を提供するターゲット追跡システムとを含むことができるＥＵＶ光源機器及び方法。ターゲット追跡システムは、レーザ発射制御信号の作成を可能にする情報を提供することができ、かつ、ターゲットの投射送出経路上の点と交差するように向けられた視準光源を含んでそれぞれの点を通るターゲットの通過を検出するそれぞれ対向配置の光検出器を有する液滴検出器、又は座標軸に整列した複数の感光素子の線形アレイを含む検出器を含むことができ、光源からの光は、ターゲットの投射送出経路と交差し、そのうちの１つは、平面遮断検出装置を含むことができる。液滴検出器は、各々が異なる光周波数で作動する複数の液滴検出器、又は視野と視野を撮像するピクセルの２次元アレイとを有するカメラを含むことができる。機器及び方法は、点火時にターゲット点火サイトで又はその近くにプラズマ封じ込み場をもたらす静電プラズマ封じ込み機器を含むことができ、ターゲット追跡システムは、静電プラズマ封じ込み機器の制御を可能にする信号を提供する。機器及び方法は、低圧トラップを備えた中間壁を有してＥＵＶ光の通過を可能にして低圧トラップにわたる差圧を維持する容器を含むことができる。機器及び方法は、パルス駆動されてターゲット追跡システムからの出力を用いて制御することができるプラズマをターゲット点火サイトに閉じ込めるための磁場をターゲット点火サイトの近くに作り出す磁気プラズマ封じ込み機構を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】レーザビームによるターゲットの照射により開始されたプラズマによって生成されるＥＵＶ光源を提供する。
【解決手段】初期ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内ＥＵＶ光を放出する放出領域を有するプラズマを発生させるＥＵＶを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、プラズマの放出領域に向けてプラズマ内の放出材料を圧縮するために初期ターゲット照射パルス後にプラズマをプラズマ照射パルスで照射するレーザプラズマ照射パルス発生機構とを含むことができる、ＬＰＰのＥＵＶ光源においてプラズマ照射レーザ光パルスを有効かつ効率的に供給するための機器及び方法。プラズマ照射パルスは、関連のより低い臨海密度を有して放出材料の圧縮を達成するために初期ターゲット照射サイトから十分に分離されたプラズマ照射パルスの波長によって形成されたプラズマの領域におけるプラズマ内で発生する吸収をもたらすように、初期ターゲット照射パルスの波長よりも十分に長い波長を有するレーザパルスを含むことができ、かつ放出領域を圧縮することができる。レーザプラズマ照射パルスは、変換効率増大のために好都合に放出されるプラズマを閉じ込めるのに十分なプラズマの融除雲内の空中質量密度を生成することができる。プラズマ照射パルスに対する堆積領域は、好都合に放出されるプラズマの圧縮を保証するために初期ターゲット表面から十分に除去することができる。高変換効率レーザ生成プラズマ極紫外線（ＥＵＶ）光源は、ターゲット照射パルスでプラズマ開始ターゲットを照射して帯域内ＥＵＶ光を放出するプラズマを発生させるＥＵＶを形成するレーザ初期ターゲット照射パルス発生機構と、プラズマを実質的に取り囲んでプラズマの膨張を抑制するプラズマタンパーとを含むことができる。 （もっと読む）

リソグラフィ装置が開示される。この装置は、放射線ビームを供給する照明システムと、パターン付与構造体を支持する支持構造体とを含む。このパターン付与構造体は、放射線ビームの断面にパターンを与えるように構成される。この装置はまた、基板を支持する基板支持部と、パターン付与されたビームを基板の標的部分に投影する投影システムと、リソグラフィ装置の少なくとも一部分を使用する際に形成されるデブリ粒子を軽減させるデブリ軽減システムとを含む。このデブリ軽減システムは、磁場を印加し、それによって少なくとも荷電デブリ粒子が軽減されるように構成される。
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本発明は、所望波長範囲の放射波をある放出方向に発生させる方法に関する。本方法によれば、その波長が該所望範囲を含んでいる初期放射波を放射波供給源により作り出し、この初期放射波を、波長が所望範囲外の初期放射波のビームを実質的に除去するように濾波する。本発明の方法は、初期放射波のビームをその波長に応じて選択的に偏向させて、所望波長のビームを回収するように、初期放射波が通過するコントロール領域においてビームの屈折率の制御された分布を作り上げることにより濾波を行うことを特徴とする。本発明は関連する装置にも関する。
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具体的には、極紫外放射リソグラフィ（ＥＵＶ）又は測定学のために、電動式放電を用いて極紫外放射又は軟Ｘ線放射を生成する方法であって、生成されるべき放射線を放射するプラズマ（２２）を放電空間（１２）中の少なくとも２つの電極（１４，１６）間のガス状媒体内に点火するステップを含む。ガス状媒体は、金属溶融物（２４）から生成され、金属溶融物は、放電空間（１２）内の表面に塗布され、且つ、エネルギービーム、具体的には、レーザビーム（２０）によって、少なくとも部分的に蒸発させられる。
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簡単な構造で、十分な強度のＥＵＶを安定して発生させることができ、レーザプラズマ光源の代替となるＥＵＶ光源を提供する。１次ターゲットを有するＸ線管１と、そのＸ線管１から発生したＸ線２が照射される２次ターゲット４とを備え、その２次ターゲット４から、Ｂｅ−Ｋα線、Ｓｉ−Ｌ線およびＡｌ−Ｌ線の一群から選ばれた１つの蛍光Ｘ線５を発生させる。 （もっと読む）

プラズマ放射線源は、デブリの影響によって制限される光学素子の寿命が著しく長くなるように改良される。ガスカーテンを通して、真空室（１）中の源領域から進む放射線（５）が放射線（５）の平均的な伝搬方向の軸（Ｘ−Ｘ）に沿ってデブリ抑制のために所定の立体角で放射され、ガスカーテンは軸（Ｘ−Ｘ）上に配置される気体ジェット真空ポンプ（３）の推進ノズル（２）から放射状に向けられた超音速気体ジェット（７）として出る。ガスカーテンは、軸（Ｘ−Ｘ）に同軸に配置される環状の混合ノズル（８）に向けられ、ディフューザ（１０）によって真空室（１）の中から外に誘導される。これにより、最適の変換効率を有し、広範囲のデブリを含む源の配置構成を用いることが可能である。
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特には極紫外線及び／又は軟Ｘ線放射を生成するガス放電源において、ガス入りチャンバは、２つの電極と、ガスを出し入れする筐体装置との間に配置され、電極は、対称軸を定義付ける放射出口開口部を有する。提案された改良点は、２つの電極間の隔壁の配置にある。該隔壁は、差動排気段階として働き、対称軸上に位置決めされた少なくとも１つの開口部を有する。
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【課題】プラズマを生成するために使用される装置の電力を大きく増加させる必要なくよりよい経済的条件の下でおよそ１３．５ｎｍのスペクトル範囲でＥＵＶリソグラフィーへの使用を可能にする一方、装置を使用者の特定のニーズに合わせる高い柔軟性を提供する。
【解決手段】極紫外線（ＥＵＶ）又は軟Ｘ線放射を発生させる装置が、プラズマを生成するために１０^６Ｗ／ｃｍ^２を超える強度でターゲットにフォーカスされたレーザ放射を生成するためにレーザ源と、レーザ源で生成されたプラズマの経路の周りに位置した電極とを有する。電極は、レーザ生成プラズマ膨張時間の時定数より小さい固有の時定数を有する急放電をプラズマ中で生成するための手段と結合している。
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