Ｘ線発生装置及び露光装置
リキッドジェット型Ｘ線発生装置１の光源チャンバー１０内には、ノズル１１やミラー１５が配置されている。光源チャンバー１０の外壁部には、フランジ部材２０が設けられている。このフランジ部材２０には、ノズル１１の配管１３基端側が取り付けられており、同部材２０を取り外すことにより、ノズル１１を光源チャンバー１０外に取り出すことができる。リキッドジェット型Ｘ線発生装置１において、最も交換頻度の高い素子はノズル１１であるが、ノズル１１を交換する際にはフランジ部材２０を取り外すだけでよく、ノズル１１よりも交換頻度の低いミラー１５等を取り外す必要がない。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
本発明は、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線分析装置、並びに、Ｘ線露光装置等のＸ線機器に装備されるＸ線発生装置と、それを備える露光装置に関する。特には、真空チャンバーに付設された各素子の交換を楽に行うことができるＸ線発生装置及び露光装置に関する。
【背景技術】
リキッドジェット型Ｘ線発生装置を例に採って、従来の技術を説明する。
図４は、従来のリキッドジェット型Ｘ線発生装置の一例を示す断面図である。
図４のリキッドジェット型Ｘ線発生装置は、光源チャンバー１００を備えている。この光源チャンバー１００には、真空ポンプ１０２が付設されている。光源チャンバー１００内は、真空ポンプ１０２で排気されている。光源チャンバー１００内には、ノズル１０１が配置されている。このノズル１０１は、リキッドガスボンベ（図示されず）に繋がる配管１０３に接続されている。配管１０３と光源チャンバー１００内面間には、ノズル１０１の位置を決めるとともに配管１０３のズレを防止するための支持部材１０４が設けられている。
リキッドガスボンベ内には、キセノン（Ｘｅ）等のターゲットガスと水等の液体が混合充填されている。リキッドガスボンベ内のリキッドガスは、配管１０３を介してノズル１０１に送られ、ノズル１０１先端から光源チャンバー１００内に噴出される。この噴出されたリキッドガスが、プラズマを生成する際の標的材料となる。
光源チャンバー１００内部には、ミラー（第１ミラー）１０５がマウント１０６を介して取り付けられている。ミラー１０５は、この例ではすり鉢状の反射面１０５ａを有する楕円形ミラーである。ミラー１０５の反射面１０５ａには、一例でＭｏ／Ｓｉ製の多層膜がコートされている。プラズマから輻射されたＸ線のうち、波長１３．４ｎｍ付近のＸ線がミラー１０５の反射面１０５ａで反射し、Ｘ線光束となって後段の光学系に導かれる。
光源チャンバー１００の外壁部（図中右上側）には、フランジ部材１１０が取り付けられている。このフランジ部材１１０外面には、集光レンズ１０７を含む集光機構１０８が取り付けられている。この集光機構１０８の上流側（図中右側）には、レーザー光源１０９が配置されている。集光レンズ１０７は、レーザー光源１０９から放出されたレーザー光Ｌを、ノズル１０１の先に集光する。集光されたレーザー光Ｌがリキッドガスに照射されることで、プラズマＰが生成され、このプラズマＰからＸ線が輻射される。
なお、フランジ部材１１０外面に集光レンズ１０７・集光機構１０８を取り付けるのは、主に製作上容易であるという理由による。フランジ部材１１０は、ミラー１０５等の素子をチャンバー１００外に取り出す際の開口を塞ぐ部材を兼ねており、光源チャンバー１００の外面に取り付け・取り外し可能となっている。
光源チャンバー１００の下面には、Ｘ線光束を通過させるための開口１００ａが形成されている。光源チャンバー１００の内部において、開口１００ａを覆う位置には、Ｘ線透過フィルター１１１が配置されている。Ｘ線透過フィルター１１１は、ベリリウム（Ｂｅ）等からなる薄膜であり、プラズマからの可視・紫外光をカットする。光源チャンバー１００外において、Ｘ線透過フィルター１１１の直下には開口板１１３が配置されている。この開口板１１３は、中心にピンホール１１３ａを有する円盤である。ミラー１０５で反射したＸ線光束は、開口板１１３のピンホール１１３ａを通って後段の光学系に至る。この際、開口板１１３のピンホール１１３ａ周囲の箇所は、散乱したＸ線（洩れ光）を遮る。
前述のリキッドジェット型Ｘ線発生装置においては、リキッドガス（標的材料）等がプラズマ生成時に原子やイオン状の粒子となる。そして、この粒子がノズル１０１の先端に付着・堆積すると、リキッドガスが正常に噴出されなくなる。あるいは、この粒子が周囲に飛び散り、ミラー１０５の反射面１０５ａに付着・堆積すると、ミラー１０５の反射率を低下させる。さらに、飛び散った粒子は、Ｘ線透過フィルター１１１にも付着・堆積する。このため、Ｘ線発生装置の光源チャンバー１００内のノズル１０１やミラー１０５、Ｘ線透過フィルター１１１は、ある一定期間ごとに新たなものと交換する必要がある。
ノズル１０１、ミラー１０５、Ｘ線透過フィルター１１１の各素子を交換する際には、前述のフランジ部材１１０を光源チャンバー１００から取り外し、チャンバー壁を開放した状態にする。ここで、図４に示す光源チャンバー１００は、フランジ部材１１０が１つだけであるため、ノズル１０１、ミラー１０５、Ｘ線透過フィルター１１１のどの素子を交換する場合にも、このフランジ部材１１０を取り外す必要がある。一方、前述の通り、製作上の容易さから、フランジ部材１１０には集光レンズ１０７・集光機構１０８が取り付けられている。したがって、光源チャンバー１００内のいずれの素子を交換する場合にも、本来は交換する必要のない集光レンズ１０７・集光機構１０８を一旦取り外さなければならない。
図４に示すリキッドジェット型Ｘ線発生装置においては、ノズル１０１、ミラー１０５、Ｘ線透過フィルター１１１の順で交換頻度が高い。ところが、図４のような位置関係で素子が配置されていると、ノズル１０１を交換する際には先にミラー１０５を取り外さなければならない。このように、最も交換頻度の高いノズル１０１の交換作業のたびに、それよりも交換頻度の低いミラー１０５や集光レンズ１０７・集光機構１０８を取り外さなければならい。あるいは、Ｘ線透過フィルター１１１のみを交換する場合には、ノズル１０１やミラー１０５、集光レンズ１０７・集光機構１０８を全て取り外さなければならい。
このように、従来のＸ線発生装置においては、交換すべき素子を取り外すために、本来は交換の必要のない他の素子を度々取り外さなければならず、交換作業が煩雑で面倒であった。さらに、外す必要のない集光レンズ１０７・集光機構１０８を交換作業のたびに取り外すと、集光レンズ１０７・集光機構１０８のアライメントをやり直すだけではなく、後段の光学系のアライメントもやり直さなければいけなくなる可能性が高くなるという問題もある。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであって、真空チャンバーに付設された各素子の交換をより合理的に行うことができるＸ線発生装置及び露光装置を提供することを目的とする。
【発明の開示】
前記の課題を解決するため、本発明のＸ線発生装置は、真空チャンバー内において標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線発生装置であって、前記プラズマからのＸ線が最初に入射するミラー、Ｘ線透過フィルター等の素子を有し、それらの素子のうち、交換頻度の高いものについて、前記真空チャンバー外に取り出すための取出手段が前記真空チャンバーに設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、所望の素子を交換する際に、それよりも交換頻度の低い素子を度々取り外す必要がない。本来交換する必要のない素子を取り外さなくて済むので、素子の交換作業が簡単になる。さらに、交換不要な素子を取り外すことに伴う、装置のアライメントのズレを引き起こすこともない。
本発明のＸ線発生装置においては、前記素子が、少なくとも交換頻度の低い素子を取り出すことなく、交換頻度の高い順に取り出すことができるように前記真空チャンバー内に配置されているものとすることができる。
この場合、真空チャンバー内から交換頻度の低い素子を取り出すことなく、交換頻度の高い素子を取り出すことができるので、素子の交換作業がより簡単になる。なお、Ｘ線発生装置の光源のタイプ（ガス型、リキッドジェット型等）に応じて、設計自由度や制作上の容易性をできる限り損なうことなく、交換頻度の高い順に素子を取り出すことができるように配置することもできる。
本発明のＸ線発生装置のより具体的な態様においては、前記取出手段が、前記標的材料の供給ノズルの基端側が取り付けられた取出部材を備えるものとすることができる。
例えば、リキッドジェット型Ｘ線発生装置においては、供給ノズル、ミラー、Ｘ線透過フィルターの順で交換頻度が高いが、この態様によれば、真空チャンバーから取出部材を取り外すだけで、他の素子を取り外すことなく供給ノズルの取り外し作業を行なうことができる。
また、前記取出手段が、前記標的材料の供給ノズルを取り外すことなく前記ミラーを取り出し可能な取出部材を備えるものとすることができる。
この場合、供給ノズルを取り外すことなくミラーの取り外しを行なうことができる。そのため、ミラーの取り外しのたびに供給ノズルの取り外しや位置合わせを行なう必要がなく、プラズマ発生位置の調整（標的材料の噴射位置合わせ）等の手間が省ける。
さらに、前記Ｘ線透過フィルターが、前記真空チャンバーの外面側に取り付けられており、前記取出手段が、前記真空チャンバーの下流側に接続された露光チャンバーに配置された取出部材を備えるものとすることができる。
この場合、真空チャンバー内の素子を取り外すことなく、露光チャンバー側からＸ線透過フィルターの取り外しを行なうことができる。
真空チャンバー内において標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線発生装置であって、前記プラズマからのＸ線が最初に入射するミラー、Ｘ線透過フィルター等の素子を有し、それらの素子のうち、交換頻度の高いものにつき、前記真空チャンバー外に取り出すための専用の取り出し窓が前記真空チャンバーに設けられていることを特徴とする。
この発明においては、交換頻度の高い素子につき専用の取り出し窓が設けられているので、取り出しの不要な他の素子を動かさずに交換することができる。
本発明の露光装置は、前述のＸ線発生装置と、該Ｘ線発生装置から発生されたＸ線をマスクに当てる照明光学系と、該マスクから反射した光を感応基板上に投影結像させる投影光学系と、を具備することを特徴とする。
なお、本発明でいう素子とは、露光装置の光源系、照明系、投影系の構成要素として、性能上不可欠な交換素子を全て指すものとする。さらに、本発明でいう素子には、各素子を真空チャンバー等に取り付けるための部材（金具等）や、ミラー等を冷却するための冷却機構を構成する素子も含むものとする。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の一実施例に係る露光装置の全体構成を示す図である。
第２図は、本発明の第２の実施例に係る露光装置のＸ線発生装置を示す図である。
第３図は、本発明の第３の実施例に係る露光装置のＸ線発生装置を示す図である。
第４図は、従来のリキッドジェット型Ｘ線発生装置の一例を示す断面図である。
発明を実施するための形態
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の一実施例に係る露光装置の全体構成を示す図である。
なお、以下の説明ではレーザプラズマ光源を用いた露光装置を例に採って説明するが、本発明は放電プラズマ光源等を用いた露光装置にも適用可能である。
図１に示す露光装置の光学系の最上流側（図の上部）には、リキッドジェット型のＸ線発生装置１が設けられている。このＸ線発生装置１は、光源チャンバー１０を備えている。この光源チャンバー１０には、真空ポンプ１２が付設されている。光源チャンバー１０内は、真空ポンプ１２で排気されている。光源チャンバー１０内が真空ポンプ１２で減圧されることで、プラズマＰから輻射されたＸ線が減衰しないようになっている。
光源チャンバー１０内には、ノズル１１が配置されている。このノズル１１は、リキッドガスボンベ（図示されず）に繋がる配管１３に接続されている。配管１３と光源チャンバー１０内面間には、ノズル１１の位置を決めるとともに配管１３のズレを防止するための支持部材１４が設けられている。リキッドガスボンベ内には、キセノン（Ｘｅ）等のターゲットガスと水等の液体が混合充填されている。リキッドガスボンベ内のリキッドガスは、配管１３を介してノズル１１に送られ、ノズル１１先端から光源チャンバー１０内に噴出される。この噴出されたリキッドガスが、プラズマを生成する際の標的材料となる。
なお、本発明は、液体に限らず気体や固体も同様に用いることができる。錫等の固体ターゲットを用いる場合は、テープに固体材料を形成したり、固体材料そのものでテープを作り、徐々にレーザーの当たる位置を変えるテープ巻き取り型等も用いることができる。
光源チャンバー１０内部には、ミラー（第１ミラー）１５がマウント１６、スライド機構２５を介して取り付けられている。ミラー１５は、この例ではすり鉢状の反射面１５ａを有する楕円形ミラーである。ミラー１５の反射面１５ａには、一例でＭｏ／Ｓｉ製の多層膜がコートされている。プラズマから輻射されたＸ線のうち、波長１３．４ｎｍ付近のＸ線がミラー１５の反射面１５ａで反射し、Ｘ線光束となって後段の光学系（図１中下側）に導かれる。
光源チャンバー１０の外壁部（図１中右下側）には、フランジ部材（取出部材）２０が設けられている。このフランジ部材２０は、ミラー１５等の素子をチャンバー１０外に取り出す際の開口を塞ぐ部材であって、光源チャンバー１０の外面に取り付け・取り外し可能となっている。このフランジ部材２０には、前述のノズル１１の配管１３基端側が取り付けられており、同部材２０を取り外すことにより、ノズル１１を光源チャンバー１０外に取り出すことができる。
ノズル１１を取り出す際にミラー１５が邪魔な場合は、スライド機構２５を用いてミラー１５を図１中上側にスライドさせる。そして、ノズル１１の取り外し・交換が済んだ後に、ミラー１５を図１中下側にスライドさせて元の位置に戻す。あるいは、フランジ部２０からミラー１５も取り出す際には、ノズル１１を取り外した後にミラー１５を下げると、チャンバー１０外への搬出が容易となる。このようなスライド機構２５を設けることで、１つのフランジ部材２０からノズル１１、ミラー１５の順に取り出すことが可能となる。なお、図示はしないが、ミラー１５が正確に元の位置に戻るように、アライメント機構も追設するのが好ましい。
フランジ部材２０の上側の光源チャンバー１０外壁（図１中右上側）には、集光レンズ１７を含む集光機構１８が取り付けられている。この集光機構１８の図１中右側には、レーザー光源１９が配置されている。集光レンズ１７は、レーザー光源１９から放出されたレーザー光Ｌを、ノズル１１の先に集光する。集光されたレーザー光Ｌがリキッドガスに照射されることで、プラズマＰが生成され、このプラズマＰからＸ線が輻射される。
光源チャンバー１０の下面には、Ｘ線光束を通過させるための開口１０ａが形成されている。光源チャンバー１０の内部において、開口１０ａを覆う位置にはＸ線透過フィルター２１が配置されている。Ｘ線透過フィルター２１は、ベリリウム（Ｂｅ）等からなる薄膜であり、プラズマからの可視・紫外光をカットする。
ここで、前述の構成を有するＸ線発生装置１の総合的な作用について述べる。
レーザー光源１９から放出されたレーザー光Ｌは、集光レンズ１７を透過してノズル１１の直上に集光される。ノズル１１から噴出されたリキッドガスは、集光されたレーザー光Ｌのエネルギを受けて高温になり、プラズマＰを生成する。このプラズマ中のイオンが低ポテンシャル状態へ遷移する際に、Ｘ線を放出する。ミラー１５に入射したＸ線のうち、波長１３．４ｎｍ付近のＸ線がミラー反射面１５ａで反射してＸ線光束Ｅとなり、光源チャンバー１０の下流側から後段の光学系へと導かれる。
Ｘ線発生装置１をある程度の時間稼勧すると、プラズマＰから飛び散った粒子がノズル１１の噴出口やミラー１５の反射面１５ａに堆積する。こうなると、ノズルやミラーを新たなものと交換する必要がある。前述したように、リキッドジェット型Ｘ線発生装置において、最も交換頻度の高い素子はノズル１１である。本実施例のＸ線発生装置１によれば、ノズル１１を交換する際にはフランジ部材２０を取り外すだけでよく、ノズル１１よりも交換頻度の低いミラー１５やＸ線透過フィルター２１、あるいは、集光レンズ１７・集光機構１８を取り外す必要がない。このように、本来交換する必要のない素子は取り外さなくて済むので、ノズル１１の交換作業が簡単である。さらに、集光レンズ１７・集光機構１８等を取り外すことに伴う、装置のアライメントのズレを引き起こすこともない。
次いで、Ｘ線発生装置１を有する露光装置の全体構成について説明する。
図１に示すように、Ｘ線発生装置１の下方には、露光チャンバー４０が設置されている。露光チャンバー４０内には、照明光学系４６が配置されている。照明光学系４６は、コンデンサー系の反射鏡、フライアイ光学系の反射鏡等で構成されており、ミラー１５で反射したＸ線を円弧状に調整し、図１の左方に向かって照射する。
照明光学系４６の図１の左方には、Ｘ線反射鏡４２が配置されている。Ｘ線反射鏡４２は、図１の右側の反射面４２ａが凹型をした円形をしており、図示せぬ保持部材により垂直に保持されている。Ｘ線反射鏡４２の図１の右方には、光路折り曲げ反射鏡４１が斜めに配置されている。光路折り曲げ反射鏡４１の上方には、反射型マスク４３が、反射面が下になるように水平に配置されている。照明光学系４６から放出されたＸ線は、Ｘ線反射鏡４２により反射集光された後に、光路折り曲げ反射鏡４１を介して、反射型マスク４３の反射面に達する。
反射鏡４１、４２の基体は、反射面４２ａが高精度に加工された石英の基板からなる。この反射面４２ａには、Ｘ線発生装置のミラー１５の反射面と同様に、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が形成されている。なお、波長が１０〜１５ｎｍのＸ線を用いる場合には、ＲＵ（ルテニウム）、Ｒｈ（ロジウム）等の物質と、Ｓｉ、Ｂｅ（ベリリウム）、Ｂ４Ｃ（４ホウ化炭素）等の物質とを組み合わせた多層膜でもよい。
反射型マスク４３の反射面にも多層膜からなる反射膜が形成されている。この反射膜には、ウェハ４９に転写するパターンに応じたマスクパターンが形成されている。反射型マスク４３は、その上部に図示されたマスクステージ４５に固定されている。マスクステージ４５は、少なくともＹ方向に移動可能であり、光路折り曲げ反射鏡４１で反射されたＸ線を順次マスク４３上に照射する。
反射型マスク４３の下部には、順に投影光学系４７、ウェハ４９が配置されている。投影光学系４７は、複数の反射鏡等からなり、反射型マスク４３で反射されたＸ線を所定の縮小倍率（例えば１／４）に縮小し、ウェハ４９上に結像する。ウェハ４９は、ＸＹＺ方向に移動可能なウェハステージ４４に吸着等により固定されている。
露光動作を行う際には、照明光学系４６により反射型マスク４３の反射面にＸ線を照射する。その際、投影光学系４７に対して反射型マスク４３及びウェハ４９を投影光学系の縮小倍率により定まる所定の速度比で相対的に同期走査する。これにより、反射型マスク４３の回路パターンの全体をウェハ４９上の複数のショット領域の各々にステップアンドスキャン方式で転写する。なお、ウェハ４９のチップは例えば２５×２５ｍｍ角である。
以下、本発明に係るＸ線発生装置の他の実施例について述べる。
図２は、本発明の第２の実施例に係る露光装置のＸ線発生装置を示す図である。
図２に示すＸ線発生装置５０は、図１に示すＸ線発生装置１と比較して、主に次の２つの点で大きく異なる。
（１）図２のＸ線発生装置５０は、ガス型である。すなわち、ノズル１１に接続された配管１３が、ガスボンベ（図示されず）に繋がっている。ガスボンベ内には、クリプトン（Ｋｒ）等のターゲットガスが充填されている。ガスボンベ内のターゲットガスは、配管１３を介してノズル１１に送られ、ノズル１１先端から光源チャンバー１０内に噴出される。この噴出されたターゲットガスが、プラズマを生成する際の標的材料となる。
（２）光源チャンバー１０の上端面に、第２のフランジ部材５１が設けられている。このフランジ部材５１は、光源チャンバー１０の上端側の開口を塞ぐ部材（取出部材）であって、光源チャンバー１０に取り付け・取り外し可能となっている。
なお、図２において図１のＸ線発生装置１とほぼ同一の構成要素には、同一符号が付されている。
図２のガス型のＸ線発生装置５０においては、ミラー１５、ノズル１１、Ｘ線透過フィルター２１の順で交換頻度が高い。本実施例のＸ線発生装置５０によれば、フランジ部材５１を取り外して光源チャンバー１０の上端面を開放することで、最も交換頻度の高いミラー１６を取り外すことができる。その際には、ミラー１５よりも交換頻度の低いノズル１１やＸ線透過フィルター２１、あるいは、集光レンズ１７・集光機構１８を取り外す必要がない。そのため、ミラー１５の取り外し作業のたびにノズル１１の取り外しや再位置合わせを行なう必要がなく、プラズマ発生位置の調整（標的材料の噴射位置合わせ）等の手間を省くことができる。
なお、図２のようにフランジ部材５１を設ける場合は、前述したフランジ部材２０がなくとも、ミラー１５、ノズル１１、Ｘ線透過フィルター２１の順で光源チャンバー１０の上端側から取り外すことが可能である。そのため、装置の制作上の容易性等が損なわれる場合等は、フランジ部材２０を設けなくともよい。しかしながら、ノズル１１やＸ線透過フィルター２１の取り外しの利便性を考慮して、両フランジ部材５１、２０を併用する方が都合がよい。さらに、図２の実施例は、ガス型のＸ線発生装置であるとして説明したが、フランジ部材５１は前述したリキッドジェット型のＸ線発生装置に設置することもでき、この場合も取り外し作業を簡単にできる。
図３は、本発明の第３の実施例に係る露光装置のＸ線発生装置を示す図である。
図３に示すＸ線発生装置６０は、図２に示すＸ線発生装置５０と比較して、主に次の２つの点で大きく異なる。
（１）図３のＸ線発生装置６０においては、Ｘ線透過フィルター２１が光源チャンバー１０の外面側に取り付けられている。そして、このＸ線透過フィルター２１の直下に、開口板２３が配置されている。この開口板２３は、中心にピンホール２３ａを有する円盤である。ピンホール２３ａの直径は、一例で１μｍ程度である。ミラー１５で反射したＸ線光束は、開口板２３のピンホール２３ａを通って後段の光学系（図１参照）に至る。この際、開口板２３のピンホール２３ａ周囲の箇所は、散乱したＸ線（洩れ光）を遮る。なお、この開口板２３に相当するものは、図１の装置においても存在するが、図示は省略してある。
（２）光源チャンバー１０の下流側の露光チャンバー４０（図１参照）の側面に、第３のフランジ部材６１が設けられている。このフランジ部材６１は、露光チャンバー４０内部の照明光学系４６（図１参照）よりも上流側において、露光チャンバー４０に取り付け・取り外し可能に設けられている。
なお、図３において図１、図２のＸ線発生装置１、５０とほぼ同一の構成要素には、同一符号が付されている。
図３のＸ線発生装置６０においては、ノズル１１を取り外す際にはフランジ部材２０を、ミラー１５を取り外す際にはフランジ部材５１を、Ｘ線透過フィルター２１を取り外す際にはフランジ部材６１を、それぞれ取り外すことで交換作業を行なうことができる。本実施例のＸ線発生装置６０によれば、各素子の交換頻度にかかわらず、素子ごとに対応するフランジ部材を取り外し、専用の取り出し窓から搬出して交換することができる。その際には、交換対象ではない他の素子は取り外す必要がない。
なお、開口板２３は、基本的にはほとんどのＸ線光束がピンホール２３ａを通過するものであるから、性能はあまり劣化しない。しかしながら、散乱したＸ線（洩れ光）によりピンホール２３ａ周囲が照らされて劣化するため、交換は必要である。その場合にも、フランジ部材６１を取り外して、開口板２３の交換作業を行なうことができる。
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、真空チャンバーに付設された各素子の交換をより楽に行うことができるＸ線発生装置及び露光装置を提供できる。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【技術分野】
本発明は、Ｘ線顕微鏡、Ｘ線分析装置、並びに、Ｘ線露光装置等のＸ線機器に装備されるＸ線発生装置と、それを備える露光装置に関する。特には、真空チャンバーに付設された各素子の交換を楽に行うことができるＸ線発生装置及び露光装置に関する。
【背景技術】
リキッドジェット型Ｘ線発生装置を例に採って、従来の技術を説明する。
図４は、従来のリキッドジェット型Ｘ線発生装置の一例を示す断面図である。
図４のリキッドジェット型Ｘ線発生装置は、光源チャンバー１００を備えている。この光源チャンバー１００には、真空ポンプ１０２が付設されている。光源チャンバー１００内は、真空ポンプ１０２で排気されている。光源チャンバー１００内には、ノズル１０１が配置されている。このノズル１０１は、リキッドガスボンベ（図示されず）に繋がる配管１０３に接続されている。配管１０３と光源チャンバー１００内面間には、ノズル１０１の位置を決めるとともに配管１０３のズレを防止するための支持部材１０４が設けられている。
リキッドガスボンベ内には、キセノン（Ｘｅ）等のターゲットガスと水等の液体が混合充填されている。リキッドガスボンベ内のリキッドガスは、配管１０３を介してノズル１０１に送られ、ノズル１０１先端から光源チャンバー１００内に噴出される。この噴出されたリキッドガスが、プラズマを生成する際の標的材料となる。
光源チャンバー１００内部には、ミラー（第１ミラー）１０５がマウント１０６を介して取り付けられている。ミラー１０５は、この例ではすり鉢状の反射面１０５ａを有する楕円形ミラーである。ミラー１０５の反射面１０５ａには、一例でＭｏ／Ｓｉ製の多層膜がコートされている。プラズマから輻射されたＸ線のうち、波長１３．４ｎｍ付近のＸ線がミラー１０５の反射面１０５ａで反射し、Ｘ線光束となって後段の光学系に導かれる。
光源チャンバー１００の外壁部（図中右上側）には、フランジ部材１１０が取り付けられている。このフランジ部材１１０外面には、集光レンズ１０７を含む集光機構１０８が取り付けられている。この集光機構１０８の上流側（図中右側）には、レーザー光源１０９が配置されている。集光レンズ１０７は、レーザー光源１０９から放出されたレーザー光Ｌを、ノズル１０１の先に集光する。集光されたレーザー光Ｌがリキッドガスに照射されることで、プラズマＰが生成され、このプラズマＰからＸ線が輻射される。
なお、フランジ部材１１０外面に集光レンズ１０７・集光機構１０８を取り付けるのは、主に製作上容易であるという理由による。フランジ部材１１０は、ミラー１０５等の素子をチャンバー１００外に取り出す際の開口を塞ぐ部材を兼ねており、光源チャンバー１００の外面に取り付け・取り外し可能となっている。
光源チャンバー１００の下面には、Ｘ線光束を通過させるための開口１００ａが形成されている。光源チャンバー１００の内部において、開口１００ａを覆う位置には、Ｘ線透過フィルター１１１が配置されている。Ｘ線透過フィルター１１１は、ベリリウム（Ｂｅ）等からなる薄膜であり、プラズマからの可視・紫外光をカットする。光源チャンバー１００外において、Ｘ線透過フィルター１１１の直下には開口板１１３が配置されている。この開口板１１３は、中心にピンホール１１３ａを有する円盤である。ミラー１０５で反射したＸ線光束は、開口板１１３のピンホール１１３ａを通って後段の光学系に至る。この際、開口板１１３のピンホール１１３ａ周囲の箇所は、散乱したＸ線（洩れ光）を遮る。
前述のリキッドジェット型Ｘ線発生装置においては、リキッドガス（標的材料）等がプラズマ生成時に原子やイオン状の粒子となる。そして、この粒子がノズル１０１の先端に付着・堆積すると、リキッドガスが正常に噴出されなくなる。あるいは、この粒子が周囲に飛び散り、ミラー１０５の反射面１０５ａに付着・堆積すると、ミラー１０５の反射率を低下させる。さらに、飛び散った粒子は、Ｘ線透過フィルター１１１にも付着・堆積する。このため、Ｘ線発生装置の光源チャンバー１００内のノズル１０１やミラー１０５、Ｘ線透過フィルター１１１は、ある一定期間ごとに新たなものと交換する必要がある。
ノズル１０１、ミラー１０５、Ｘ線透過フィルター１１１の各素子を交換する際には、前述のフランジ部材１１０を光源チャンバー１００から取り外し、チャンバー壁を開放した状態にする。ここで、図４に示す光源チャンバー１００は、フランジ部材１１０が１つだけであるため、ノズル１０１、ミラー１０５、Ｘ線透過フィルター１１１のどの素子を交換する場合にも、このフランジ部材１１０を取り外す必要がある。一方、前述の通り、製作上の容易さから、フランジ部材１１０には集光レンズ１０７・集光機構１０８が取り付けられている。したがって、光源チャンバー１００内のいずれの素子を交換する場合にも、本来は交換する必要のない集光レンズ１０７・集光機構１０８を一旦取り外さなければならない。
図４に示すリキッドジェット型Ｘ線発生装置においては、ノズル１０１、ミラー１０５、Ｘ線透過フィルター１１１の順で交換頻度が高い。ところが、図４のような位置関係で素子が配置されていると、ノズル１０１を交換する際には先にミラー１０５を取り外さなければならない。このように、最も交換頻度の高いノズル１０１の交換作業のたびに、それよりも交換頻度の低いミラー１０５や集光レンズ１０７・集光機構１０８を取り外さなければならい。あるいは、Ｘ線透過フィルター１１１のみを交換する場合には、ノズル１０１やミラー１０５、集光レンズ１０７・集光機構１０８を全て取り外さなければならい。
このように、従来のＸ線発生装置においては、交換すべき素子を取り外すために、本来は交換の必要のない他の素子を度々取り外さなければならず、交換作業が煩雑で面倒であった。さらに、外す必要のない集光レンズ１０７・集光機構１０８を交換作業のたびに取り外すと、集光レンズ１０７・集光機構１０８のアライメントをやり直すだけではなく、後段の光学系のアライメントもやり直さなければいけなくなる可能性が高くなるという問題もある。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたものであって、真空チャンバーに付設された各素子の交換をより合理的に行うことができるＸ線発生装置及び露光装置を提供することを目的とする。
【発明の開示】
前記の課題を解決するため、本発明のＸ線発生装置は、真空チャンバー内において標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線発生装置であって、前記プラズマからのＸ線が最初に入射するミラー、Ｘ線透過フィルター等の素子を有し、それらの素子のうち、交換頻度の高いものについて、前記真空チャンバー外に取り出すための取出手段が前記真空チャンバーに設けられていることを特徴とする。
本発明によれば、所望の素子を交換する際に、それよりも交換頻度の低い素子を度々取り外す必要がない。本来交換する必要のない素子を取り外さなくて済むので、素子の交換作業が簡単になる。さらに、交換不要な素子を取り外すことに伴う、装置のアライメントのズレを引き起こすこともない。
本発明のＸ線発生装置においては、前記素子が、少なくとも交換頻度の低い素子を取り出すことなく、交換頻度の高い順に取り出すことができるように前記真空チャンバー内に配置されているものとすることができる。
この場合、真空チャンバー内から交換頻度の低い素子を取り出すことなく、交換頻度の高い素子を取り出すことができるので、素子の交換作業がより簡単になる。なお、Ｘ線発生装置の光源のタイプ（ガス型、リキッドジェット型等）に応じて、設計自由度や制作上の容易性をできる限り損なうことなく、交換頻度の高い順に素子を取り出すことができるように配置することもできる。
本発明のＸ線発生装置のより具体的な態様においては、前記取出手段が、前記標的材料の供給ノズルの基端側が取り付けられた取出部材を備えるものとすることができる。
例えば、リキッドジェット型Ｘ線発生装置においては、供給ノズル、ミラー、Ｘ線透過フィルターの順で交換頻度が高いが、この態様によれば、真空チャンバーから取出部材を取り外すだけで、他の素子を取り外すことなく供給ノズルの取り外し作業を行なうことができる。
また、前記取出手段が、前記標的材料の供給ノズルを取り外すことなく前記ミラーを取り出し可能な取出部材を備えるものとすることができる。
この場合、供給ノズルを取り外すことなくミラーの取り外しを行なうことができる。そのため、ミラーの取り外しのたびに供給ノズルの取り外しや位置合わせを行なう必要がなく、プラズマ発生位置の調整（標的材料の噴射位置合わせ）等の手間が省ける。
さらに、前記Ｘ線透過フィルターが、前記真空チャンバーの外面側に取り付けられており、前記取出手段が、前記真空チャンバーの下流側に接続された露光チャンバーに配置された取出部材を備えるものとすることができる。
この場合、真空チャンバー内の素子を取り外すことなく、露光チャンバー側からＸ線透過フィルターの取り外しを行なうことができる。
真空チャンバー内において標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線発生装置であって、前記プラズマからのＸ線が最初に入射するミラー、Ｘ線透過フィルター等の素子を有し、それらの素子のうち、交換頻度の高いものにつき、前記真空チャンバー外に取り出すための専用の取り出し窓が前記真空チャンバーに設けられていることを特徴とする。
この発明においては、交換頻度の高い素子につき専用の取り出し窓が設けられているので、取り出しの不要な他の素子を動かさずに交換することができる。
本発明の露光装置は、前述のＸ線発生装置と、該Ｘ線発生装置から発生されたＸ線をマスクに当てる照明光学系と、該マスクから反射した光を感応基板上に投影結像させる投影光学系と、を具備することを特徴とする。
なお、本発明でいう素子とは、露光装置の光源系、照明系、投影系の構成要素として、性能上不可欠な交換素子を全て指すものとする。さらに、本発明でいう素子には、各素子を真空チャンバー等に取り付けるための部材（金具等）や、ミラー等を冷却するための冷却機構を構成する素子も含むものとする。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明の一実施例に係る露光装置の全体構成を示す図である。
第２図は、本発明の第２の実施例に係る露光装置のＸ線発生装置を示す図である。
第３図は、本発明の第３の実施例に係る露光装置のＸ線発生装置を示す図である。
第４図は、従来のリキッドジェット型Ｘ線発生装置の一例を示す断面図である。
発明を実施するための形態
以下、図面を参照しつつ説明する。
図１は、本発明の一実施例に係る露光装置の全体構成を示す図である。
なお、以下の説明ではレーザプラズマ光源を用いた露光装置を例に採って説明するが、本発明は放電プラズマ光源等を用いた露光装置にも適用可能である。
図１に示す露光装置の光学系の最上流側（図の上部）には、リキッドジェット型のＸ線発生装置１が設けられている。このＸ線発生装置１は、光源チャンバー１０を備えている。この光源チャンバー１０には、真空ポンプ１２が付設されている。光源チャンバー１０内は、真空ポンプ１２で排気されている。光源チャンバー１０内が真空ポンプ１２で減圧されることで、プラズマＰから輻射されたＸ線が減衰しないようになっている。
光源チャンバー１０内には、ノズル１１が配置されている。このノズル１１は、リキッドガスボンベ（図示されず）に繋がる配管１３に接続されている。配管１３と光源チャンバー１０内面間には、ノズル１１の位置を決めるとともに配管１３のズレを防止するための支持部材１４が設けられている。リキッドガスボンベ内には、キセノン（Ｘｅ）等のターゲットガスと水等の液体が混合充填されている。リキッドガスボンベ内のリキッドガスは、配管１３を介してノズル１１に送られ、ノズル１１先端から光源チャンバー１０内に噴出される。この噴出されたリキッドガスが、プラズマを生成する際の標的材料となる。
なお、本発明は、液体に限らず気体や固体も同様に用いることができる。錫等の固体ターゲットを用いる場合は、テープに固体材料を形成したり、固体材料そのものでテープを作り、徐々にレーザーの当たる位置を変えるテープ巻き取り型等も用いることができる。
光源チャンバー１０内部には、ミラー（第１ミラー）１５がマウント１６、スライド機構２５を介して取り付けられている。ミラー１５は、この例ではすり鉢状の反射面１５ａを有する楕円形ミラーである。ミラー１５の反射面１５ａには、一例でＭｏ／Ｓｉ製の多層膜がコートされている。プラズマから輻射されたＸ線のうち、波長１３．４ｎｍ付近のＸ線がミラー１５の反射面１５ａで反射し、Ｘ線光束となって後段の光学系（図１中下側）に導かれる。
光源チャンバー１０の外壁部（図１中右下側）には、フランジ部材（取出部材）２０が設けられている。このフランジ部材２０は、ミラー１５等の素子をチャンバー１０外に取り出す際の開口を塞ぐ部材であって、光源チャンバー１０の外面に取り付け・取り外し可能となっている。このフランジ部材２０には、前述のノズル１１の配管１３基端側が取り付けられており、同部材２０を取り外すことにより、ノズル１１を光源チャンバー１０外に取り出すことができる。
ノズル１１を取り出す際にミラー１５が邪魔な場合は、スライド機構２５を用いてミラー１５を図１中上側にスライドさせる。そして、ノズル１１の取り外し・交換が済んだ後に、ミラー１５を図１中下側にスライドさせて元の位置に戻す。あるいは、フランジ部２０からミラー１５も取り出す際には、ノズル１１を取り外した後にミラー１５を下げると、チャンバー１０外への搬出が容易となる。このようなスライド機構２５を設けることで、１つのフランジ部材２０からノズル１１、ミラー１５の順に取り出すことが可能となる。なお、図示はしないが、ミラー１５が正確に元の位置に戻るように、アライメント機構も追設するのが好ましい。
フランジ部材２０の上側の光源チャンバー１０外壁（図１中右上側）には、集光レンズ１７を含む集光機構１８が取り付けられている。この集光機構１８の図１中右側には、レーザー光源１９が配置されている。集光レンズ１７は、レーザー光源１９から放出されたレーザー光Ｌを、ノズル１１の先に集光する。集光されたレーザー光Ｌがリキッドガスに照射されることで、プラズマＰが生成され、このプラズマＰからＸ線が輻射される。
光源チャンバー１０の下面には、Ｘ線光束を通過させるための開口１０ａが形成されている。光源チャンバー１０の内部において、開口１０ａを覆う位置にはＸ線透過フィルター２１が配置されている。Ｘ線透過フィルター２１は、ベリリウム（Ｂｅ）等からなる薄膜であり、プラズマからの可視・紫外光をカットする。
ここで、前述の構成を有するＸ線発生装置１の総合的な作用について述べる。
レーザー光源１９から放出されたレーザー光Ｌは、集光レンズ１７を透過してノズル１１の直上に集光される。ノズル１１から噴出されたリキッドガスは、集光されたレーザー光Ｌのエネルギを受けて高温になり、プラズマＰを生成する。このプラズマ中のイオンが低ポテンシャル状態へ遷移する際に、Ｘ線を放出する。ミラー１５に入射したＸ線のうち、波長１３．４ｎｍ付近のＸ線がミラー反射面１５ａで反射してＸ線光束Ｅとなり、光源チャンバー１０の下流側から後段の光学系へと導かれる。
Ｘ線発生装置１をある程度の時間稼勧すると、プラズマＰから飛び散った粒子がノズル１１の噴出口やミラー１５の反射面１５ａに堆積する。こうなると、ノズルやミラーを新たなものと交換する必要がある。前述したように、リキッドジェット型Ｘ線発生装置において、最も交換頻度の高い素子はノズル１１である。本実施例のＸ線発生装置１によれば、ノズル１１を交換する際にはフランジ部材２０を取り外すだけでよく、ノズル１１よりも交換頻度の低いミラー１５やＸ線透過フィルター２１、あるいは、集光レンズ１７・集光機構１８を取り外す必要がない。このように、本来交換する必要のない素子は取り外さなくて済むので、ノズル１１の交換作業が簡単である。さらに、集光レンズ１７・集光機構１８等を取り外すことに伴う、装置のアライメントのズレを引き起こすこともない。
次いで、Ｘ線発生装置１を有する露光装置の全体構成について説明する。
図１に示すように、Ｘ線発生装置１の下方には、露光チャンバー４０が設置されている。露光チャンバー４０内には、照明光学系４６が配置されている。照明光学系４６は、コンデンサー系の反射鏡、フライアイ光学系の反射鏡等で構成されており、ミラー１５で反射したＸ線を円弧状に調整し、図１の左方に向かって照射する。
照明光学系４６の図１の左方には、Ｘ線反射鏡４２が配置されている。Ｘ線反射鏡４２は、図１の右側の反射面４２ａが凹型をした円形をしており、図示せぬ保持部材により垂直に保持されている。Ｘ線反射鏡４２の図１の右方には、光路折り曲げ反射鏡４１が斜めに配置されている。光路折り曲げ反射鏡４１の上方には、反射型マスク４３が、反射面が下になるように水平に配置されている。照明光学系４６から放出されたＸ線は、Ｘ線反射鏡４２により反射集光された後に、光路折り曲げ反射鏡４１を介して、反射型マスク４３の反射面に達する。
反射鏡４１、４２の基体は、反射面４２ａが高精度に加工された石英の基板からなる。この反射面４２ａには、Ｘ線発生装置のミラー１５の反射面と同様に、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が形成されている。なお、波長が１０〜１５ｎｍのＸ線を用いる場合には、ＲＵ（ルテニウム）、Ｒｈ（ロジウム）等の物質と、Ｓｉ、Ｂｅ（ベリリウム）、Ｂ４Ｃ（４ホウ化炭素）等の物質とを組み合わせた多層膜でもよい。
反射型マスク４３の反射面にも多層膜からなる反射膜が形成されている。この反射膜には、ウェハ４９に転写するパターンに応じたマスクパターンが形成されている。反射型マスク４３は、その上部に図示されたマスクステージ４５に固定されている。マスクステージ４５は、少なくともＹ方向に移動可能であり、光路折り曲げ反射鏡４１で反射されたＸ線を順次マスク４３上に照射する。
反射型マスク４３の下部には、順に投影光学系４７、ウェハ４９が配置されている。投影光学系４７は、複数の反射鏡等からなり、反射型マスク４３で反射されたＸ線を所定の縮小倍率（例えば１／４）に縮小し、ウェハ４９上に結像する。ウェハ４９は、ＸＹＺ方向に移動可能なウェハステージ４４に吸着等により固定されている。
露光動作を行う際には、照明光学系４６により反射型マスク４３の反射面にＸ線を照射する。その際、投影光学系４７に対して反射型マスク４３及びウェハ４９を投影光学系の縮小倍率により定まる所定の速度比で相対的に同期走査する。これにより、反射型マスク４３の回路パターンの全体をウェハ４９上の複数のショット領域の各々にステップアンドスキャン方式で転写する。なお、ウェハ４９のチップは例えば２５×２５ｍｍ角である。
以下、本発明に係るＸ線発生装置の他の実施例について述べる。
図２は、本発明の第２の実施例に係る露光装置のＸ線発生装置を示す図である。
図２に示すＸ線発生装置５０は、図１に示すＸ線発生装置１と比較して、主に次の２つの点で大きく異なる。
（１）図２のＸ線発生装置５０は、ガス型である。すなわち、ノズル１１に接続された配管１３が、ガスボンベ（図示されず）に繋がっている。ガスボンベ内には、クリプトン（Ｋｒ）等のターゲットガスが充填されている。ガスボンベ内のターゲットガスは、配管１３を介してノズル１１に送られ、ノズル１１先端から光源チャンバー１０内に噴出される。この噴出されたターゲットガスが、プラズマを生成する際の標的材料となる。
（２）光源チャンバー１０の上端面に、第２のフランジ部材５１が設けられている。このフランジ部材５１は、光源チャンバー１０の上端側の開口を塞ぐ部材（取出部材）であって、光源チャンバー１０に取り付け・取り外し可能となっている。
なお、図２において図１のＸ線発生装置１とほぼ同一の構成要素には、同一符号が付されている。
図２のガス型のＸ線発生装置５０においては、ミラー１５、ノズル１１、Ｘ線透過フィルター２１の順で交換頻度が高い。本実施例のＸ線発生装置５０によれば、フランジ部材５１を取り外して光源チャンバー１０の上端面を開放することで、最も交換頻度の高いミラー１６を取り外すことができる。その際には、ミラー１５よりも交換頻度の低いノズル１１やＸ線透過フィルター２１、あるいは、集光レンズ１７・集光機構１８を取り外す必要がない。そのため、ミラー１５の取り外し作業のたびにノズル１１の取り外しや再位置合わせを行なう必要がなく、プラズマ発生位置の調整（標的材料の噴射位置合わせ）等の手間を省くことができる。
なお、図２のようにフランジ部材５１を設ける場合は、前述したフランジ部材２０がなくとも、ミラー１５、ノズル１１、Ｘ線透過フィルター２１の順で光源チャンバー１０の上端側から取り外すことが可能である。そのため、装置の制作上の容易性等が損なわれる場合等は、フランジ部材２０を設けなくともよい。しかしながら、ノズル１１やＸ線透過フィルター２１の取り外しの利便性を考慮して、両フランジ部材５１、２０を併用する方が都合がよい。さらに、図２の実施例は、ガス型のＸ線発生装置であるとして説明したが、フランジ部材５１は前述したリキッドジェット型のＸ線発生装置に設置することもでき、この場合も取り外し作業を簡単にできる。
図３は、本発明の第３の実施例に係る露光装置のＸ線発生装置を示す図である。
図３に示すＸ線発生装置６０は、図２に示すＸ線発生装置５０と比較して、主に次の２つの点で大きく異なる。
（１）図３のＸ線発生装置６０においては、Ｘ線透過フィルター２１が光源チャンバー１０の外面側に取り付けられている。そして、このＸ線透過フィルター２１の直下に、開口板２３が配置されている。この開口板２３は、中心にピンホール２３ａを有する円盤である。ピンホール２３ａの直径は、一例で１μｍ程度である。ミラー１５で反射したＸ線光束は、開口板２３のピンホール２３ａを通って後段の光学系（図１参照）に至る。この際、開口板２３のピンホール２３ａ周囲の箇所は、散乱したＸ線（洩れ光）を遮る。なお、この開口板２３に相当するものは、図１の装置においても存在するが、図示は省略してある。
（２）光源チャンバー１０の下流側の露光チャンバー４０（図１参照）の側面に、第３のフランジ部材６１が設けられている。このフランジ部材６１は、露光チャンバー４０内部の照明光学系４６（図１参照）よりも上流側において、露光チャンバー４０に取り付け・取り外し可能に設けられている。
なお、図３において図１、図２のＸ線発生装置１、５０とほぼ同一の構成要素には、同一符号が付されている。
図３のＸ線発生装置６０においては、ノズル１１を取り外す際にはフランジ部材２０を、ミラー１５を取り外す際にはフランジ部材５１を、Ｘ線透過フィルター２１を取り外す際にはフランジ部材６１を、それぞれ取り外すことで交換作業を行なうことができる。本実施例のＸ線発生装置６０によれば、各素子の交換頻度にかかわらず、素子ごとに対応するフランジ部材を取り外し、専用の取り出し窓から搬出して交換することができる。その際には、交換対象ではない他の素子は取り外す必要がない。
なお、開口板２３は、基本的にはほとんどのＸ線光束がピンホール２３ａを通過するものであるから、性能はあまり劣化しない。しかしながら、散乱したＸ線（洩れ光）によりピンホール２３ａ周囲が照らされて劣化するため、交換は必要である。その場合にも、フランジ部材６１を取り外して、開口板２３の交換作業を行なうことができる。
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、真空チャンバーに付設された各素子の交換をより楽に行うことができるＸ線発生装置及び露光装置を提供できる。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空チャンバー内において標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線発生装置であって、
前記プラズマからのＸ線が最初に入射するミラー、Ｘ線透過フィルター等の素子を有し、
それらの素子のうち、交換頻度の高いものについて、前記真空チャンバー外に取り出すための取出手段が前記真空チャンバーに設けられていることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
前記素子が、少なくとも交換頻度の低い素子を取り出すことなく、交換頻度の高い順に取り出すことができるように前記真空チャンバー内に配置されていることを特徴とする請求項１記載のＸ線発生装置。
【請求項３】
前記取出手段が、前記標的材料の供給ノズルの基端側が取り付けられた取出部材を備えることを特徴とする請求項１又は２記載のＸ線発生装置。
【請求項４】
前記取出手段が、前記標的材料の供給ノズルを取り外すことなく前記ミラーを取り出し可能な取出部材を備えることを特徴とする請求項１、２又は３記載のＸ線発生装置。
【請求項５】
真空チャンバー内において標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線発生装置であって、
前記プラズマからのＸ線が最初に入射するミラー、Ｘ線透過フィルター等の素子を有し、
それらの素子のうち、交換頻度の高いものにつき、前記真空チャンバー外に取り出すための専用の取り出し窓が前記真空チャンバーに設けられていることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項６】
請求項１〜５いずれか１項記載のＸ線発生装置と、
該Ｘ線発生装置から発生されたＸ線をマスクに当てる照明光学系と、
該マスクから反射した光を感応基板上に投影結像させる投影光学系と、
を具備することを特徴とする露光装置。
【請求項１】
真空チャンバー内において標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線発生装置であって、
前記プラズマからのＸ線が最初に入射するミラー、Ｘ線透過フィルター等の素子を有し、
それらの素子のうち、交換頻度の高いものについて、前記真空チャンバー外に取り出すための取出手段が前記真空チャンバーに設けられていることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項２】
前記素子が、少なくとも交換頻度の低い素子を取り出すことなく、交換頻度の高い順に取り出すことができるように前記真空チャンバー内に配置されていることを特徴とする請求項１記載のＸ線発生装置。
【請求項３】
前記取出手段が、前記標的材料の供給ノズルの基端側が取り付けられた取出部材を備えることを特徴とする請求項１又は２記載のＸ線発生装置。
【請求項４】
前記取出手段が、前記標的材料の供給ノズルを取り外すことなく前記ミラーを取り出し可能な取出部材を備えることを特徴とする請求項１、２又は３記載のＸ線発生装置。
【請求項５】
真空チャンバー内において標的材料をプラズマ化し、該プラズマからＸ線を輻射させるＸ線発生装置であって、
前記プラズマからのＸ線が最初に入射するミラー、Ｘ線透過フィルター等の素子を有し、
それらの素子のうち、交換頻度の高いものにつき、前記真空チャンバー外に取り出すための専用の取り出し窓が前記真空チャンバーに設けられていることを特徴とするＸ線発生装置。
【請求項６】
請求項１〜５いずれか１項記載のＸ線発生装置と、
該Ｘ線発生装置から発生されたＸ線をマスクに当てる照明光学系と、
該マスクから反射した光を感応基板上に投影結像させる投影光学系と、
を具備することを特徴とする露光装置。
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０３０４２３
【国際公開日】平成１６年４月８日（２００４．４．８）
【発行日】平成１８年１月２６日（２００６．１．２６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−５３９４５７（Ｐ２００４−５３９４５７）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００３／００９３９８
【国際出願日】平成１５年７月２４日（２００３．７．２４）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１６年４月８日（２００４．４．８）
【発行日】平成１８年１月２６日（２００６．１．２６）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００３／００９３９８
【国際出願日】平成１５年７月２４日（２００３．７．２４）
【出願人】（０００００４１１２）株式会社ニコン (12,601)
【Ｆターム（参考）】
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