【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めることができ、かつ熱負荷及び電極消耗を抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】所定の発光点１ａでプラズマ光８を周期的に発光する複数のプラズマ光源１０と、プラズマ光源の複数の発光点におけるプラズマ光を単一の集光点９に集光する集光装置４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質の帯電ターゲットを供給するターゲット供給装置の絶縁破壊を抑制する。
【解決手段】このターゲット供給装置は、ターゲット物質を内部に貯蔵するターゲット貯蔵部と、ターゲット貯蔵部に貯蔵されたターゲット物質を出力するための貫通孔が形成されたターゲット出力部と、ターゲット出力部に対向して配置され、ターゲット物質が通過する貫通孔が形成された電極であって、ターゲット出力部に対向する面の一部に電気絶縁材料がコートされた電極と、ターゲット物質と電極との間に電圧を印加する電圧生成器とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ式ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】チャンバ内にターゲット物質のドロップレットを供給するステップ（ａ）と、ドロップレットにプリパルスレーザ光を照射することによりドロップレットを拡散させて所望の拡散ターゲットを形成させるステップ（ｂ）と、拡散ターゲットの照射位置において、メインパルスレーザ光のレーザ光軸に垂直な断面の形状を、レーザ光軸の方向から見た拡散ターゲットの形状と実質的に一致させて、メインパルスレーザ光を、所望の拡散ターゲットに照射することによりプラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ（ｃ）と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみを露光機に供給することができる。
【解決手段】ＥＵＶ集光ミラー１３０の表面１３１には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝１３３が形成される。プラズマ２０１から放射された光２０２は、ＥＵＶ集光ミラー１３０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０３（ＥＵＶ回折光を含む）は、中間集光点ＩＦに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、ＩＦから外れた位置に進む。ＩＦには、開口部１５１を有するＳＰＦ用アパーチャ１５０が設けられている。従って、ＥＵＶ光のみが開口部１５１を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ１５０により遮光される。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの位置安定性を改善する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置から出力されるレーザ光をターゲット物質に照射してターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する。この装置は、（ｉ）電気伝導性を有する構造部材を含み、レーザ光を導入する貫通孔が形成されたチャンバ２と、（ii）液体ターゲット物質の帯電ターゲットを生成し、チャンバ２内部のプラズマ生成領域２５に向けて帯電ターゲットを供給するターゲット生成器２６であって、帯電ターゲットが通過する貫通孔が形成された電極と、電極を保持する電気絶縁部材と、少なくとも電気絶縁部材とプラズマ生成領域２５との間に配置され、帯電ターゲットが通過する貫通孔が形成された遮蔽部材とを含み、遮蔽部材が電気伝導性を有してチャンバ２の構造部材に電気的に接続されているターゲット生成器２６とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光光源装置の光出射口から露光機側に汚染物質が流出するのを防ぐこと。
【解決手段】高温プラズマＰから放射されたＥＵＶ光は、ＥＵＶ集光鏡６により集光点ｆに集められ、ＥＵＶ光出射口７から出射し、露光機３０に入射する。集光鏡６と光出射口７の間に、モータ９によりＥＵＶ光の光軸と交差するように回転する回転翼（プロペラ）８が配置され、その回転軸９ａは極端紫外光の光路外に配置される。極端紫外光が発光していないとき、回転翼８を集光鏡６と光出射口７の間を通過させる。極端紫外光が発光していないとき光出射口７が回転翼によって実質的に遮蔽され、また、光出射口に向かって進んできた汚染物質が回転翼と衝突し、その進行方向が曲げられることによって汚染物質の流出が抑制される。 （もっと読む）

【課題】安定してＥＵＶ光を生成する。
【解決手段】レーザ装置を備えた極端紫外光生成装置は、前記レーザ装置から出力されたレーザ光を導入するウィンドウを備えたチャンバと、前記チャンバ内部の所定位置付近にターゲットを出力するターゲット供給部と、前記所定位置付近に前記レーザ光を集光するレーザ集光光学系と、前記所定位置付近を通過したレーザ光の像を検出する検出器と、前記所定位置付近における前記ターゲットの通過位置を調整するターゲット位置調整装置と、前記所定位置付近における前記レーザ光の集光位置を調整するレーザ集光位置調整装置と、前記検出器で検出された像に基づいて、前記ターゲット位置調整装置と前記レーザ集光位置調整装置とを制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ放射源の集光ミラー上へのイオン、原子、分子及び粒状デブリなどの堆積率を減少させるための汚染バリアを有する放射源を提供する。
【解決手段】放射源は、燃料が放射ビームと接触してプラズマを形成するプラズマ形成部位を含む。ミラー付きコレクタは、第１焦点で生成されたＥＵＶ放射を集めて第２焦点に向かって反射させる。汚染バリアは、汚染バリアの周縁部が第２焦点においてミラーによって規定される立体角のうちの５０％より多くを閉塞しないように位置決めされ、それによって、集光ミラーによって反射したＥＵＶ放射は汚染バリアを通り抜けることによって過度に減衰されない。汚染バリアは、プラズマからのイオン、原子、分子又はナノ小滴などの燃料材料をトラップする働きをし、集光ミラー上への堆積を防ぐ。ガス抽出口は、集光ミラーに向かう燃料デブリ及び汚染の拡散を抑制するためにプラズマ形成部位付近に設けられてよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光の生成において変換効率を向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成方法は、チャンバ内にターゲット物質を供給するステップ（ａ）と、ターゲット物質にレーザビームを照射することにより、プラズマを生成して極端紫外光を生成するステップ（ｂ）と、を備える。レーザビームの空間的な光強度分布は、ビーム軸の中心から所定距離の位置における光強度よりも低い光強度を有する低強度領域が前記ビーム軸の中心から前記所定距離の範囲内に存在する空間的な光強度分布を有してもよい。 （もっと読む）

【課題】発生するプラズマ光の出力を大幅に高めた場合でも熱負荷によるダメージを抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源システムを提供する。
【解決手段】内部が真空排気される真空チャンバー２１内で、中心軸７を中心とする円周上に設置された複数の発光点１ａでプラズマ光８を周期的に発光する複数のプラズマ光源１０と、各発光点１ａにおけるプラズマ光８を中心軸７上に位置する集光点９に向けて反射するミラー回転体４０と、ミラー回転体４０を中心軸７まわりに回転駆動する回転駆動装置４８と、ミラー回転体４０の内部を冷却する冷却装置５０とを備える。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を安定させる。
【解決手段】レーザ装置は、外部装置と共に用いられるレーザ装置であって、パルスレーザ光を出力するマスターオシレータと、前記マスターオシレータに接続される第１の電源と、前記マスターオシレータから出力される前記パルスレーザ光の光路上に配置される少なくとも１つの増幅器と、前記少なくとも１つの増幅器に高周波電圧を印加する少なくとも１つの第２の電源と、前記マスターオシレータと前記少なくとも１つの増幅器との間の光路上に配置される少なくとも１つの光シャッタと、前記外部装置からの信号に基づいて、前記レーザ装置を制御するレーザコントローラと、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶリソグラフィに応用される斜入射集光器（ＧＩＣ）を熱管理するためのシステム、アセンブリ、方法を提供する。
【解決手段】ＧＩＣ冷却アセンブリ１５０は、密閉チャンバ１８０を形成するようにジャケット１６０に接合されたＧＩＣミラーシェル１１０を有する。オープンセル型熱伝導性材料（ＯＣＨＴ材料）２０２は、金属チャンバ内に配置され、ＧＩＣミラーシェル１１０、及びジャケットに熱接着及び機械接着される。ＥＵＶ源からのＥＵＶを受光して集束ＥＵＶを形成するように構成されるＧＩＣミラーシステムにおいてＧＩＣ冷却アセンブリ１５０を採用する場合、冷却媒体１７０が入出力プレナム間のＯＣＨＴ材料２０２を方位角方向に対称に流される。その結果、冷却性が実現される。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に滞留及び蓄積したデブリがチャンバを汚染して集光ミラー等の重要光学コンポーネントの性能を低下させることを防止し、長期間安定に極端紫外光を発生することが可能な極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に供給されるターゲットにレーザビームを照射することによりプラズマを生成するドライバレーザと、チャンバ内に設置され、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射する集光ミラーと、チャンバと連通し、排気装置と接続されてチャンバ内を一定の圧力に維持する排気経路と、排気経路に備えられ、プラズマから発生するデブリを捕集する捕集装置と、捕集されたデブリをチャンバ外に回収する回収装置とを具備する。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみを露光機に供給することができる。
【解決手段】ＥＵＶ集光ミラー１３０の表面１３１には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝１３３が形成される。プラズマ２０１から放射された光２０２は、ＥＵＶ集光ミラー１３０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０３（ＥＵＶ回折光を含む）は、中間集光点ＩＦに向けて進む。他の波長の光は、反射角度または回折角度が異なるため、ＩＦから外れた位置に進む。ＩＦには、開口部１５１を有するＳＰＦ用アパーチャ１５０が設けられている。従って、ＥＵＶ光のみが開口部１５１を通過して露光機に供給され、他の光はアパーチャ１５０により遮光される。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を得る。
【解決手段】レーザ装置３と共に用いられる光学システムは、少なくとも１つの焦点を有し、前記レーザ装置３から出力されるレーザ光を集光する集光光学系と、前記集光光学系と該集光光学系の少なくとも１つの焦点との間に配置されるビームスプリッタ１００と、前記ビームスプリッタ１００によって分岐されたレーザ光の光路上に配置される光センサ１１０と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】レーザ光の安定性を向上する。
【解決手段】光学装置は、レーザ光のビーム伝播経路上に配置された光学モジュールと、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記レーザ光のビーム伝播経路を調節するアクチュエータ部と、前記ビーム伝播経路上に配置され、前記ビーム伝播経路を検出する計測部と、 前記計測部によって検出された前記レーザ光のビーム伝播経路の検出結果に基づいて、前記アクチュエータ部を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に配置された光学要素の性能劣化を防止する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ装置と共に用いられ、外部装置に極端紫外光を供給するよう接続される極端紫外光生成装置であって、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも１つの入射口を有するチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内で前記ターゲット物質が前記レーザ光に照射される際に放出されて前記少なくとも１つの光学要素に付着した前記ターゲット物質のデブリをエッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部と、前記チャンバに接続される排気ポンプと、前記チャンバ内に配置される少なくとも１つの光学要素と、前記少なくとも１つの光学要素の温度を制御する少なくとも１つの温度調節機構と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも１つのレーザビーム生成装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも１つのレーザビーム生成装置から出力される少なくとも１つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、前記少なくとも１つのレーザビームを前記所定の領域で集光させるレーザ集光光学系と、前記少なくとも１つのレーザビームの前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正する光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ドロップレットターゲットの位置安定性を改善する。
【解決手段】ターゲット供給装置は、少なくとも液体ターゲット物質を内部に貯蔵するターゲット貯蔵部に相当するリザーバ４１と、前記液体ターゲット物質が通過するための貫通孔であるノズル４３が形成され、その貫通孔（ノズル４３）が前記ターゲット貯蔵部（リザーバ４１）の内部と連通し、且つ、少なくとも前記貫通孔（ノズル４３）の前記ターゲット貯蔵部と（リザーバ４１）は反対側且つその貫通孔周囲の領域のターゲット放出部表面が、前記液体ターゲット物質に対する接触角が９０度よりも大きい物質からなるターゲット放出部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】小型で、レーザ光の増幅を効率良く行うことができ、増幅されたレーザ光の集光性に優るドライバレーザを提供する。
【解決手段】このドライバレーザは、発振によりレーザ光を生成するレーザ発振器と、レーザ発振器によって生成されるレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも１つのスラブ型レーザ増幅器とを具備し、少なくとも１つのスラブ型レーザ増幅器が、第１のウィンドウ及び第２のウィンドウを有し、炭酸ガス（ＣＯ_２）を含む気体で充たされたチャンバと、チャンバ内に配置され、高周波電圧が印加されることにより形成される放電領域において気体を励起してレーザ光を増幅する一対の電極と、チャンバ内に配置され、第１のウィンドウから入射するレーザ光を多重反射することにより放電領域内を伝播させて第２のウィンドウから出射させる複数のミラーを有する光学系とを含む。 （もっと読む）