【課題】２つの同軸状電極内に発生した面状放電を同軸状電極間の管状放電に繋ぎ変える電流路の繋ぎ変えの安定性を高め、プラズマ光源の出力、安定性、信頼性を高めることができるプラズマ光源を提供する。
【解決手段】ガイド電極１４と真空チャンバー２２との間に絶縁板２６が挟持され、ガイド電極１４は真空チャンバー２２から絶縁されている。また１対のガイド電極１４の先端部を電気的に直接結合する連結導電体３２を備え、その中央部のみが接地されている。 （もっと読む）

【課題】２つの同軸状電極内に発生した面状放電を同軸状電極間の管状放電に繋ぎ変える電流路の繋ぎ変えの安定性を高め、プラズマ光源の出力、安定性、信頼性を高めることができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。
【解決手段】２つの同軸状電極a内の中心電極ｂとガイド電極ｃとの間に発生した面状放電２を同軸状電極間の管状放電４に繋ぎ変える「繋ぎ変え時点」が、同軸状電極aに対する放電電圧による放電電流のピーク時点より前に設定されている。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置において、ターゲットの大きさやターゲットの位置の安定性を向上させる。
【解決手段】この極端紫外光生成装置は、ターゲット物質を貯蔵するターゲット貯蔵部と、ターゲット物質を出力するノズル部と、ターゲット物質との間に直流電圧が印加されたときにターゲット物質のターゲットを生成する電極と、ターゲットを検出して検出信号を出力するターゲット検出器と、内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲット物質と電極との間に印加される直流電圧を調節する直流電圧調節器と、ターゲット貯蔵部に貯蔵されているターゲット物質に印加される圧力を調節する圧力調節器と、ターゲット検出器から出力される検出信号に基づいて、直流電圧調節器と圧力調節器との内の少なくとも１つを制御する制御装置とを備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】有効利用する波長において、ＥＵＶ光源、特に、ＥＵＶプラズマ光源の光源パワー及び光源位置を十分な精度を持って測定することができる測定手段を備えたＥＵＶ照明システムを提供する。
【解決手段】少なくとも一つのＥＵＶ（ｅｘｔｒｅｍｅ ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ）光源（３）と、特に、有効利用する波長の範囲で、ＥＵＶ光源（３）の、又はＥＵＶ光源（３）の中間像の一つの強度変動及び／又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置（１）とを備えたＥＵＶ照明システムにおいて、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）とＥＵＶ位置センサ（２．３）とを有し、開口絞り及びセンサ装置（１）は、開口絞り（２．１）がＥＵＶ光源（３）から、又はその中間像（７）の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲がＥＵＶ位置センサ（２．３）に当たるように配置される。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質の出力位置の安定性が向上し、チャンバ外の異物がチャンバ内に侵入することを抑制し得るとともに、チャンバ内のターゲット物質がチャンバ外に放出されることを抑制し得るノズルのクリーニング機構を提供すること。
【解決手段】ＥＵＶ光生成装置１のノズル７１２のクリーニング機構９は、ＥＵＶ光２５２の生成が行われるチャンバ２内にターゲット物質２７１を出力するためのノズル７１２を、チャンバ２内で物理的にクリーニングしてもよい。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの軌道を擾乱させることなく、ドロップレットターゲットをレーザ照射位置に高速に供給する機構と、プラズマから発生したイオン（帯電したデブリ）を磁場の作用によりトラップする機構とを両立させる。
【解決手段】極端紫外光源装置は、（ｉ）内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、（ii）チャンバ内にターゲット物質を噴射するターゲットノズルと、（iii）ターゲットノズルから噴射されるターゲット物質を帯電させる電荷供給装置と、（iv）電磁石、超伝導磁石、及び、永久磁石の内のいずれかを含み、チャンバ内にミラー磁場を形成する１組の磁石と、ターゲット物質の軌道において該ミラー磁場の磁束線が略直線状且つターゲット物質の進入方向に対して略平行となるように、補助的な磁場を形成する少なくとも１つの補助磁場形成装置とを含む磁場形成装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】安定したレーザ光を出力する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ光を出力するレーザ装置とともに用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ光を導入する導入口を備えるチャンバと、前記チャンバ内の所定領域にターゲット物質を供給するターゲット生成器と、前記レーザ光を前記所定領域に集光する集光光学系と、ガイド光を出力するガイド光出力装置と、前記ガイド光の光路の中心軸を前記レーザ光の光路の中心軸と一致させるとともに、前記ガイド光を前記ガイド光出力装置から前記所定領域を経由して前記集光光学系に入射させる光学系と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】アパーチャを通り抜ける調節された放射ビームの均一性を維持するための新しい技術を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射源装置からＥＵＶ放射ビームを受け、かつビームを調節してレチクルなどのパターニングデバイスのターゲット領域を照明するためのイルミネータを含む。レチクルは、パターン付き放射ビームを形成する。投影システムは、ＥＵＶリソグラフィによってパターンをパターニングデバイスから基板に転写する。センサは、ビームが特に非スキャン方向でレチクルに近づくにつれて調整されたビームにおける残留非対称性を検出するために設けられている。フィードバック制御信号は、検出された非対称性に応じて放射源のパラメータを調整するように生成される。フィードバックは、照明スリットの両端における２つのセンサによって測定された強度比率に基づいており、ＥＵＶ放出プラズマを生成するレーザパルスのタイミングを調整する。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光生成装置に用いた場合生成される極端紫外光の強度を安定化させる。
【解決手段】チャンバ装置は、少なくとも１つのレーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、前記少なくとも１つのレーザ装置から出力される少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記少なくとも１つのレーザ光を前記所定の領域で集光させるためのレーザ集光光学系と、前記少なくとも１つのレーザ光の前記所定の領域におけるビーム断面の光強度分布を補正するための光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】望ましくない放出物（例えば、粒子、赤外線、および可視光線）を最低限に抑えたプラズマ光源を実現する。
【解決手段】光源１００は、プラズマ放電領域１１２を有し、イオン性媒体を含む室１０４、プラズマ放電領域１１２の一部を囲む磁気コア１０８、エネルギーの少なくとも１つのパルスを磁気コア１０８に供給し、プラズマ放電領域内に形成されるプラズマに電力を送るためのパルス電力システム１３６を備える。プラズマは、局所的高輝度ゾーン１４４を有する。 （もっと読む）

【課題】安定した極端紫外光を得る。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、第１レーザ光と第２レーザ光との光軸を実質的に一致させるビーム調節器と、前記第１および第２レーザ光を導入するウィンドウを含むチャンバと、前記チャンバ内の所定位置付近にターゲット物質を供給するターゲット供給装置と、前記所定位置付近に前記第１レーザ光を集光し前記ターゲット物質に前記第１レーザ光を照射するレーザ光集光光学系と、前記第２レーザ光と、前記ターゲット物質から生成されたプラズマから放射された放射光とを検出する光検出ユニットと、前記レーザ光集光光学系が前記第１レーザ光を集光する位置を補正する集光位置補正機構と、前記ターゲット供給装置が前記ターゲット物質を供給する位置を補正するターゲット供給位置補正機構と、前記第２レーザ光と前記放射光との検出結果に基づいて、集光位置補正機構およびターゲット供給位置補正機構を制御するコントローラと、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】 より均一であるＥＵＶ放射を提供すること。
【解決手段】 燃料の小滴を相互作用点に送出するように構成された燃料小滴ジェネレータと、プラズマを生成するために燃料蒸発および励起放射を相互作用点に送出するように構成された光学系と、プラズマによって放たれるＥＵＶ放射を集光するように構成されたコレクタとを含むＥＵＶ放射を生成するように構成された放射源。光学系は、使用中において燃料蒸発および励起放射が相互作用点における燃料小滴の１つより多い側面に入射するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、レーザ光生成システムと、前記レーザ光生成システムから出力される少なくとも１つのレーザ光の光強度および出力タイミングの少なくともいずれか一方を制御するレーザ制御システムと、前記レーザ光生成システムから出力される前記少なくとも１つのレーザ光を内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光放射後に発生するデブリが光学要素に付着して性能劣化することを抑制する。
【解決手段】極端紫外光生成装置１は、レーザ光を内部に入射させるための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバ１１と、チャンバに設けられ、チャンバ内の所定の領域にターゲット物質Ｄを供給するためのターゲット供給部１４ｂと、チャンバに接続される排気ポンプ１２と、チャンバ内に配置される少なくとも１つの光学要素Ｍ１〜Ｍ３と、チャンバに設けられ、チャンバ内でターゲット物質がレーザ光に照射される際に放出されて、少なくとも１つの光学要素に付着したターゲット物質のデブリを、エッチングするために導入されるエッチングガスが通過するエッチングガス導入部１６ａ〜１６ｃと、少なくとも１つの光学要素の温度を制御するための、少なくとも１つの温度調節機構Ｃ２，Ｃ４，Ｃ５と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置のプラズマ発生室にターゲット物質を供給するターゲット物質供給装置において、ターゲット物質の温度を安定させる。
【解決手段】このターゲット物質供給装置は、外部から供給されるターゲット物質を冷却して液化するための液化室１０８と、液化室１０８において液化されたターゲット物質を噴出するためのノズル１０２と、液化室１０８内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１０９、冷却装置１１０、ヒータ１１１、温度センサ１１２、及び、温度制御部１１３と、ノズル１０２内においてターゲット物質の温度を制御するためのロッド１１４、冷却装置１１５、ヒータ１１６、温度センサ１１７、及び、温度制御部１１８とを含む。 （もっと読む）

【課題】露光精度を高めることができる投影光学系、露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】露光装置１０は、鏡筒１６の内部に保持された複数のミラー１７を備える投影装置１４を備えている。投影装置１４の鏡筒１６の外周部には、液相と固相との間で相転移する物性を有し、液相と固相とが共存する金属材料１９と、鏡筒１６の外周部に設けられて、金属材料１９を保持する金属保持部材１８とが設けられている。 （もっと読む）

【課題】短パルス化とマルチライン発振を同時に達成するＥＵＶ光源装置用ドライバーレーザを実現する。
【解決手段】このドライバーレーザは、（ｉ）連続発振を行うレーザ共振器の内部においてレーザ光を短パルス化して、短パルス化されたレーザ光をレーザ共振器の外部に出力する短パルス化手段と、レーザ共振器におけるレーザ光の発振スペクトルのエネルギーピーク値を示す発振スペクトル成分の強度を抑制する波長依存透過率を有する光学素子と、短パルス化手段を５０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの繰り返し周波数で活性化及び非活性化させる繰り返し手段とを有する短パルス・マルチライン発振ＣＯ_２レーザ発振器と、（ii）該短パルス・マルチライン発振ＣＯ_２レーザ発振器から出力される短パルス化されたレーザ光を入力し、該レーザ光を増幅して出力する少なくとも１つの増幅器とを具備する。 （もっと読む）

【課題】露光特性を向上させる。
【解決手段】陰極および陽極間に電圧を印加し、陰極と陽極との間において、所定の原子をプラズマ励起させることによりＥＵＶ光を生じさせ、このＥＵＶ光を、露光部に導き、露光部内において基板の上方に形成された感光膜を露光する工程を、冷却機構により、陰極１０３の先端部１０３ｂを構成する金属部の融点未満の温度に冷却しつつ行なう。例えば、陰極１０３は、支持部１０３ａと、先端部１０３ｂとを有し、冷却機構は、支持部内に冷却溶媒を循環させる機構である。また、支持部１０３ａは、銅よりなり、先端部１０３ｂを構成する金属部は、タングステンよりなり、冷却機構の支持部１０３ａ側の端部からタングステン端部までの距離（Ｄ１）を７ｍｍ以下とする。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光以外の他の光を取り除き、ＥＵＶ光のみをマスクに供給することができる露光装置を提供する。
【解決手段】ミラー５１０の表面には、Ｍｏ／Ｓｉの多層膜が設けられており、この多層膜にブレーズド溝５１３が形成される。ＥＵＶ光源装置１から入射する光２０３，３０１は、ミラー５１０に入射し、反射または回折する。ＥＵＶ反射光２０４（ＥＵＶ回折光を含む）と、他の波長の光３０１Ａ，３０１Ｂとは、反射角度または回折角度が異なるため、進行方向が異なる。アパーチャやダンパによって他の光３０１Ａ，３０１Ｂを除去することにより、純度の高いＥＵＶ光をマスク６００に照射することができる。 （もっと読む）

【課題】ドロップレットの位置を検出する。
【解決手段】ドロップレット生成及び検出装置は、帯電ドロップレットを出力するドロップレット生成器と、帯電ドロップレットの軌道の近傍に配置された磁気回路であって、導電体のコイルを含む磁気回路と、コイルに流れる電流を検出して検出信号を出力する電流検出器と、を含む少なくとも一つのドロップレットセンサと、検出信号に基づいて帯電ドロップレットを検出する信号処理回路と、を含んでもよい。 （もっと読む）