【課題】スループットを良好に維持できる光学素子、露光装置、及びこれらを用いたデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に各層の層厚の比率が一定になるように複数層積層され、極端紫外線及び軟Ｘ線の少なくとも一方を含む露光光を反射する反射領域を有し、当該反射領域で反射される前記露光光の入射角の分布に応じて前記反射領域内に前記層厚の分布が形成された多層膜とを備える。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に配置された光学素子等の部品に付着したデブリを排除することができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給部と、ターゲット物質にドライバ用パルスレーザ光を照射してプラズマを生成するドライバレーザ装置と、クリーニング用パルスレーザ光を射出するクリーニングレーザ装置と、チャンバ内に設置された部品にクリーニング用パルスレーザ光を照射することにより、該部品の表面に付着したデブリを除去するように、クリーニングレーザ装置から射出されるクリーニング用パルスレーザ光の照射位置を制御する制御部とを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明のＥＵＶ光源装置は、熱によって変化する、レーザ光の波面を適切に補正する。
【解決手段】レーザ発振器２０から出力されるレーザ光を増幅させるための増幅システム３０内に、少なくとも一つ以上の波面補正器３４と、センサ３６とを設ける。センサ３６は、レーザ光の角度（方向）や波面の曲率の変化を検出して出力する。波面補正コントローラ（WFC-C）５０は、センサ３６の計測結果に基づいて、波面補正器３４に信号を出力する。波面補正器３４は、波面補正コントローラ（WFC-C）５０からの指示に従って、レーザ光の波面を所定の波面に修正する。チャンバ１０内にレーザ光を供給する集光システム４０内にも、別の波面補正器及びセンサを設けることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、信頼性があり、繰り返し速度が高く、製造ラインと相性の良い高エネルギー光子源を提供する。
【解決手段】活性材料を含む非常に高温のプラズマを真空チャンバで生成する。この活性材料は、望ましい極紫外線（ＥＵＶ）範囲内に輝線を有する原子である。充電コンデンサと、パルス変換器を備えた磁気圧縮回路とを具備したパルス電源は、中間焦点でのＥＵＶ光を５ワットを超える率で生成できるだけのエネルギーと電位を有する電気的パルス提供する。出願人が設計した好適な実施形態では、中間焦点における帯域内ＥＵＶ光エネルギーは４５ワットで、更に１０５．８ワットまで拡大可能である。 （もっと読む）

電磁放射線の第１の波長を体積内のガスに合焦することによってプラズマを持続させる方法であり、第１の波長が第１のガス種によって実質的に吸収され且つ第１のサイズと第１の温度とを有するプラズマの第１の領域にエネルギーを送達する。電磁放射線の第２の波長は、プラズマの第１の領域に合焦され、第２の波長は、第１の波長とは異なり、且つ第２のガス種によって実質的に吸収され、且つ第１のサイズよりも小さい第２のサイズと第１の温度よりも高い第２の温度とを有するプラズマの第１の領域内のプラズマの第２の領域にエネルギーを送達する。
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【課題】振幅の減衰や波形の歪みを十分に抑制しながら、ピエゾ素子の振動を細孔板に伝達してターゲットのドロップレットを的確に生成するＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ光発生チャンバ２と、ターゲット物質供給部と、を具備するＥＵＶ光源装置であって、囲繞壁と、その囲繞壁の出口端に設けた微細孔を有する細孔板２３と、囲繞壁に繋がりピエゾ素子２５と対向する底面２２とを備えて、ターゲット物質を溶解した状態で収納し、ターゲット物質を微細孔から噴射してドロップレット２９にする細管２８において、ピエゾ素子２５が、底面２２に当接し底面を介して細管２８に振動を与えてドロップレット２９の形成を助勢する。 （もっと読む）

【課題】安定な光量を得る事が可能な極端紫外光光源装置及びその調整方法を提供する。
【解決手段】極端紫外光放射種が供給される材料ガス供給部６と極端紫外光を出射する光出射部１４とを有する本体１と、本体１内に設けられ、極端紫外光放射種を励起してプラズマを発生させる第１、第２の主放電電極７、８及び高電圧パルス発生部９と、本体１内に設けられ、プラズマから放射される極端紫外光を光出射部１４に集光するＥＵＶ集光鏡１０と、第１、第２の主放電電極７、８及び高電圧パルス発生部９とＥＵＶ集光鏡１０との間に設けられたホイルトラップ１１と、ホイルトラップ１１に接続され、ホイルトラップ１１の位置を調整する第１の位置合わせ機構１２と、光出射部１４より出射された極端紫外光から第１の位置合わせ機構１２を操作するため、プラズマの配光分布像を測定する測定部１５と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電極間に放電が生じた時の高温プラズマ原料の密度をできるだけ高い状態にし、効果的にＥＵＶ光を発生させることが可能なＥＵＶ光源装置を提供すること。
【解決手段】レーザ源２３ａからレーザを、回転電極１１に付着した溶融スズ１１ａに照射し、スズを気化させる。一方、パルス電力発生器８から、回転電極１１，１２に高電圧パルスを印加して放電を発生させ、高温プラズマを形成しＥＵＶ光を放射させる。ここで、レーザ２３の集光点は回転電極１１に付着した原料１１ａの表面よりも奥側になるように設定されている。すなわち、原料の表面はレーザ２３の集光点Ｐより入射側にずれた位置になるように配置されている。このため、エネルギービームによって発生させたプラズマを、従来よりも自由膨張が少ないものにすることができ、放電領域におけるプラズマ原料のガスの密度を高い状態に維持することができる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの無駄な消費を抑えることができるターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】ノズル３１から出力される液状の溶融ターゲット材である溶融錫３４を蓄えるタンク３０内のガス圧を圧力調整器４１が備えつけられたガスボンベ４０から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置１は、一端が前記タンク３０に接続され、他端が排気口Ｌａを形成するガス流路Ｌ２と、ガス流路Ｌ２上に設置したバルブ４３と、溶融錫３４をノズル３０から出力させない場合、バルブ４３を開にしてタンク３０内を減圧するコントローラ６０と、を備え、ＥＵＶ光を出力させない場合、ターゲット１３の供給を停止または供給速度を減速することで、溶融錫３４の消費を抑える。 （もっと読む）

【課題】イオン回収装置のイオン衝突面および／またはイオン衝突面に堆積した物質のスパッタリングによる再拡散を防止することができる極端紫外光光源装置を提供する。
【解決手段】ターゲットである溶融ＳｎのドロップレットＤにレーザ光を照射してプラズマを生成し該プラズマから極端紫外光を発生し、この極端紫外光の発生とともに生成されるイオンの流れ方向を磁場または電場によって制御する極端紫外光光源装置において、前記イオンを回収するイオン回収筒２０を設け、イオン回収筒２０のイオン衝突面Ｓａ，Ｓｂに、前記イオンによるスパッタ率が１原子／イオン未満となる金属であるＳｉを配置またはコートする。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを加圧する圧力の変動を１ｋＰａ未満に抑えて、極端紫外光を反射集光する位置の変動による露光ムラを起こさないターゲット供給装置を提供する。
【解決手段】ノズル３１から出力される液状のターゲット物質である溶融錫３４を蓄えるタンク３０内のガス圧を圧力調整器４１が備えつけられたガスボンベ４０から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置１は、前記ガスボンベ４０から供給されるガスを前記タンク３０へ導入するガス流路Ｌ１と、前記ガス流路Ｌ１上に配置されてガス流路Ｌ１を流れるガスの圧力を調整し、圧力調整器４１よりも高精度の圧力調整が可能な圧力コントローラ５１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光発生チャンバ内に設置されたレーザ光集光光学系の光学素子の劣化を確実に検出して、的確な劣化判定を行えるＥＵＶ光源装置を提供する。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、ＥＵＶ光発生チャンバ２と、ターゲット物質供給部と、ＥＵＶ光集光ミラー８と、ドライバーレーザ１２，１３と、ウインドウ６（１）（２）と、コリメートされたレーザ光を反射して集光するＥＵＶ光発生チャンバ内に配置された放物面鏡４３（１）（２）と、ＥＵＶ光の発生が行われないときに、レーザ光集光光学系によって集光された後にターゲット物質に照射されることなく発散したレーザ光のエネルギーを検出するエネルギー検出器３５（１）（２）と、エネルギー検出器によって検出されたレーザ光のエネルギーに基づいてウインドウ及び放物面鏡の劣化を判定する処理部８０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】実用的に十分な極端紫外光の出力を確保することのできるＥＵＶ光源装置を提供すること。
【解決手段】エネルギービーム照射機１１から第１のレーザービームを放電電極２ｂ上の原料Ｍの表面に照射し原料Ｍの表面に凹所を形成する。制御部６は、スイッチＳＷをＯＮし、パルス電力供給部３のコンデンサＣ２を充電し、放電電極２ａ，２ｂ間の電圧を立ち上げる。その後エネルギービーム照射機１１から第２のレーザービームを上記凹所に照射し、原料Ｍを気化させる。気化した原料が放電電極２ａに到達すると、放電電極２ａ，２ｂ間で放電が開始してプラズマが加熱され、高温プラズマから波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光が放射される。凹所に対してレーザビームを照射しているので、プラズマの空間的な広がりを小さくすることができ、ＥＵＶ光の出力を高いものとすることができる。 （もっと読む）

【課題】極端紫外光の放射強度分布の変化が、集光鏡の光反射率が低下したことに起因するか、発光点が移動して光軸がすれたことに起因するかを判別すること。
【解決手段】電極１１，１２間にパルス状の大電流を流し、高温プラズマ領域を形成し、波長１３．５ｎｍのＥＵＶ光を放射させる。このＥＵＶ光は、集光鏡２により集光され、アパーチャ４を介して露光機へ入射する。計測時には、計測ユニット１８を光路内へ移動させ、ＥＵＶとＥＵＶよりも長波長の光の放射強度分布を計測する。極端紫外光の放射強度分布のみが変化している場合は、放射強度分布変化の原因はスズが集光鏡の反射面に付着しためであるとして集光鏡２のクリーニングを行う。また、極端紫外光よりも長波長の光の放射強度分布も変化している場合は、放射強度分布変化の原因は光軸のずれが生じているためであるとして、放電部と集光鏡の位置合せ（アライメント）等を行なう。 （もっと読む）

リソグラフィ装置は放射源によって放出される放射から放射ビームを提供する放射システムを含む。放射システムは放射源から発散される材料を捕捉する汚染物質トラップ（８）を含む。回転汚染物質トラップは、共通の回転トラップ軸（Ａ）から半径方向（Ｒａ）に延在し、かつ放射システム内の放射ビームの伝搬中に放射源から発散される汚染物質材料を堆積させるように配置された多数の要素（１１）を含む。放射システムは、回転トラップ要素から汚染物質材料粒子を受ける汚染物質キャッチ（１２、２７、２８）をさらに含み、汚染物質キャッチは、放射システムの動作中、汚染物質材料粒子を保持するための構成を有する。 （もっと読む）

【課題】レーザビームの照射による初期プラズマの発生後、できるだけ速やかに電極間で放電を発生させて効率よく初期プラズマを加熱してＥＵＶ放射を発生させること。
【解決手段】リセット回路部７１は、可飽和リアクトルＳＲ３の２次巻線ＬＲ３に対して、可飽和リアクトルＳＲ３に流れる電流に基づき生ずる残留磁束と同方向に磁束が生ずるようにリセット電流を流す。スイッチＳＷをｏｎにし、磁気スイッチＳＲ１がｏｎとなると、コンデンサＣ０に蓄えられた電荷が移行してコンデンサＣ２に充電されるとともに、レーザが電極２ａに塗布されている高温プラズマ原料に照射される。これにより高温プラズマ原料は気化し対向する第２の電極２ｂに達する。可飽和リアクトルＳＲ３は、上記リセット電流により飽和してｏｎとなっており、コンデンサＣ２から回転電極２ａ，２ｂに直ちにパルス電力が印加され、電極２ａ，２ｂ間に大きな電流が流れ高温プラズマが発生する。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源装置において、ターゲットにレーザ光を照射することによって発生する高速なイオンデブリを効率良く回収する。
【解決手段】このＥＵＶ光源装置は、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、ターゲット物質を噴射してターゲット物質のドロップレットを生成する噴射ノズルを含むターゲット供給手段と、ドロップレットを帯電させる帯電手段と、帯電したドロップレットにレーザ光を照射することによってプラズマを生成するレーザと、プラズマから放射される極端紫外光を集光して射出するコレクタミラーと、プラズマの生成に寄与しなかったターゲット物質及びプラズマの生成時に発生したデブリを回収するターゲット物質回収装置と、ドロップレットにレーザ光が照射される位置の上流側及び下流側において電界を発生することにより、帯電したドロップレット及びイオンデブリを加速させる加速手段とを具備する。 （もっと読む）

【課題】繰り返し周波数を上げて平均出力の増大を図ることができる、レーザアシストＤＰＰ方式極端紫外光光源装置に適用するに好適なパルス電力供給手段を提供すること。
【解決手段】スイッチＳＷがオンとなり、第１の磁気スイッチＳＲ０が飽和してオン状態になると、第１のコンデンサＣ０から第２のコンデンサＣ１ヘエネルギーを移行させ、第２のコンデンサＣ１が充電される。電極１ａ，１ｂには、例えばＥＵＶ発生種である高温プラズマ原料が塗布されている。この原料に対して、レーザ装置（エネルギービーム照射手段）２からレーザビーム２ａを照射し、原料を気化させ、上記コンデンサＣ１に充電された電圧により放電を発生させ、気化された上記原料を加熱励起し高湿プラズマを発生させる。パルス電力供給手段にはトランスが設けられておらず、また、回路動作を遅延させる回路要素を減少させたので、繰り返し周波数を速くすることができる。 （もっと読む）

本発明は、電気的に動作された放電によって、光学放射、特にＥＵＶ放射又は軟Ｘ線を生成する方法及び装置に関する。プラズマ１５が、少なくとも２つの電極１、２間のガス媒体内で点火され、前記ガス媒体は、少なくとも部分的に液体材料６から生成され、液体材料６は、前記放電空間内で移動する１つ又は幾つかの表面に塗布されると共に、１つ又は複数のパルスエネルギービームによって少なくとも部分的に蒸発される。提案される方法及び装置において、少なくとも２つの連続的なパルス９、１８が、前記表面上への各放電の時間間隔内に供給される。この手段によって、収集可能変換効率は、各放電内の１つのみの単一のエネルギパルスの使用と比較して増大される。
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【課題】極端紫外光光源装置の集光点以降における角度分布特性が悪化して非対称になったことを検知できるようにすること。
【解決手段】レーザービームを照射して固体の原料Ｍを気化させ、放電電極２ａと２ｂの間にパルス電力供給部３からパルス電力を供給し、放電電極２ａ．２ｂ間で放電を発生させる。これにより高温プラズマが発生し、ＥＵＶ光が放射される。集光反射鏡６の光軸を中心とする円環上に、検知手段２０が配置され、検知手段２０内には、ピンホールを有する２つの絞り部材が配置され、ピンホールは、集光点Ｐと集光反射鏡６の光反射面６ａにおける任意の点とを結ぶ仮想線上に並ぶように配置される。このピンホールを通過した光は、受光素子に入射する。この受光素子で検知した照度データに基いて集光点Ｐに集光されたＥＵＶ光の角度分布変動を求めることができる。 （もっと読む）