【課題】電気放電を介するプラズマの発生のための方法及び装置であって、技術的に簡潔な手段の使用によって、前記電極のより高い平均負荷容量又は大幅に長い動作寿命を生じる方法及び装置を提供することにある
【解決手段】本発明は、少なくとも２つの電極を含む放電空間内の電気放電を介するプラズマの発生のための方法及び装置であって、前記電極の少なくとも一方は、蒸発スポットによる侵食影響領域が、少なくとも電流フローによって形成されるように、マトリックス材料又はキャリア材料から構成されている方法及び装置に関する。電気放電によるプラズマの前記発生のための方法又は装置を提供するために、放電動作中の犠牲材３８の沸点が前記キャリア材料３０の融点よりも低い犠牲材３８が、前記電流フローにおいて生じる電荷キャリアが前記犠牲材３８から主に生成されるように、少なくとも前記蒸発スポットに設けられることが提案される。 （もっと読む）

本発明は電極システムに関し、特にEUV光及び/又は軟X線を発生させるためのガス放電デバイスの電極システムに関する。電極システムは、主要構成要素としてMo若しくはW、又はMo若しくはWの合金を含む電極材から形成された少なくとも二つの電極1、同2を有する。当該電極材は、500 nm以下の平均サイズをもつ微粒子をもつ微細粒構造を有する。提案された電極システムがあると、大きな熱-機械抵抗と、大きな熱-化学抵抗とをもつ電極が実現される。これゆえ、液体Snを使用し且つ高温で作動する周知のEUV光源において当該電極システムを使うことができる。
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【課題】所望の放射の透過率を改善するスペクトル純度フィルタを提供する。
【解決手段】特に投影ビームとしてＥＵＶ放射を用いるリソグラフィ装置で用いるスペクトル純度フィルタは、基板に複数のアパーチャを含む。このアパーチャは、側面を有する壁により画定されている。側面は、基板の前面の法線に対して傾斜している。 （もっと読む）

ＥＵＶリソグラフィ装置（１００）は、放射を放出するプラズマ（２１０）を提供するために燃料を励起することによって極端紫外線が生成される放射源コレクタ装置（ＳＯ）を含む。放射源コレクタ装置（ＳＯ）は、チャンバ（３１０）の外部の案内路（３２０）と流体連結しているチャンバ（３１０）を含む。バッファガスを循環させるためのポンプ（ＢＰＳ）は、案内路（３２０）の一部であり、閉ループバッファガス流（２２２）を提供する。案内路（３０２）を通って流れるガスはガス分解器（ＴＤ１）を通り抜ける。ここで、燃料材料とバッファガス材料との化合物は分解され、それによって分解されたバッファガス材料を閉ループ流路（２２２）にフィードバックすることができる。 （もっと読む）

本発明は、デブリ抑制のためのホイルトラップ装置に関し、特にＥＵＶシステムでのホイルトラップ装置に関する。前記ホイル（４）は、前記ホイルトラップ装置の入口側から出口側へ伸びる複数の空間的に離れたホイルを含み、前記ホイル（４）が、前記入口側及び前記出口側の間に放射の直線通路を可能とするように構成されている。前記ホイル（４）が、少なくとも入口側端部が、少なくとも６０％のｓｐ^３混成炭素原子の部分を含むカーボン材料又はカーボンナノチューブの層（８、１１）で、コーティングされる。又は前記ホイル（４）は、前記組成のカーボン材料のバルクカーボン材料からなる。提案されるホイルトラップは、高い熱伝導性、Ｓｎ及び他の液体金属に対する高い熱化学反応抵抗性及び高い機械的剛性を与える。
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【課題】ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるＬＰＰ方式のＥＵＶ光源とその発生方法を提供する。
【解決手段】所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェット内の所定の集光点２に同一周波数のレーザー光３を交差させて集光し照射するレーザー装置１６とを備える。レーザー装置は、集光点における複数のレーザー光の干渉を調整する干渉調整装置２６を有し、集光点２においてレーザー光によりターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるＬＰＰ方式のＥＵＶ光源とその発生方法を提供する。
【解決手段】所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェットにレーザー光３を集光して照射するレーザー装置１６と、を備え、レーザー光の集光点２においてターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。 （もっと読む）

【課題】励起状態を経てターゲットをイオン化する場合でもターゲットの高いイオン化効率を実現する。
【解決手段】イオン化レーザ装置１は、ターゲットＴｓｎを励起させる第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２を出力する第１、第２レーザ１０２、２０２と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２の絶対波長を検出する第１、第２絶対波長検出器１１０、２１０と、第１、第２レーザ光ＬＳ１、ＬＳ２により励起したターゲットＴｓｎをイオン化する第３レーザ光ＬＳ３を出力する第３レーザ３０２と、第３レーザ光ＬＳ３の絶対波長を検出する第３絶対波長検出器３１０と、第１〜第３レーザ光ＬＳ１〜ＬＳ３の絶対波長に基づいて第１〜第３レーザ１０２〜３０２を制御するイオン化レーザコントローラ１０および第１〜第３コントローラ１０１〜３０１と、を備える。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質及びエネルギーの利用効率を大幅に高めることができ、かつデブリの発生とチャンバーの真空度悪化を抑制することができるＬＰＰ方式のＥＵＶ光源とその発生方法を提供する。
【解決手段】所定の真空環境に保持された真空チャンバー１２と、真空チャンバー内にターゲット物質の極超音速定常ガスジェット１を回収可能に形成するガスジェット装置１４と、極超音速定常ガスジェット内の所定の集光点２にレーザー光３を集光して照射するレーザー装置１６と、集光点を透過したレーザー光３を反射して再度同一の集光点に集光して照射する再集光装置２０と、を備え、集光点２においてレーザー光３によりターゲット物質を励起してプラズマを発生させ、そこから極端紫外光４を発光させる。 （もっと読む）

【課題】光電子やプラズマを発生させることなく光電界電離現象を利用し電子を放出させる電子発生技術を採用することにより、レーザー装置を小型化および低コスト化するとともに、電極の熱エネルギーによるダメージを軽減してデブリの発生を抑制することを可能にしたＸ線発生装置を提供する。
【解決手段】パルスレーザー光２を出射するレーザー光源１と、パルスレーザー光２が照射されることにより電子を放出する陰極４と、陰極４から放出した電子６が加速されて衝突することによりＸ線９を放出する陽極５と、 陰極４および陽極５を収容する真空容器７と、を備えるＸ線発生装置において、レーザー光源１は、パルス幅が１０^−１２秒以下のパルスレーザー光２を出射し、陰極４から光電界電離により電子を放出させることを特徴とするＸ線発生装置である。 （もっと読む）

リソグラフィ投影装置は、ＥＵＶ放射システムを備えている。このＥＵＶ放射システムは、放射源チャンバと、ターゲット材料を所定のプラズマ形成位置に供給するように構成された供給源と、ターゲット材料が所定のプラズマ形成位置に配置された場合、ターゲット材料に延在するビームパスを確立するように構成された３つ以上のミラーによって形成された光学システムと、ターゲット材料との相互作用のためにビームパスに沿ってレーザビームを提供してチャンバの中でＥＵＶ放射放出プラズマを生成するように構成されたレーザシステムとを含む。 （もっと読む）

【課題】高効率で安定してＥＵＶ光を発生させることができるＥＵＶ光源装置用ドライバレーザシステムを安価に提供する。
【解決手段】このドライバレーザシステムは、ＭＯＰＡ（master oscillator power amplifier）方式に従って構成されたレーザシステム３であって、単一のレーザ発振器３０１においてレーザ光を発生し、該レーザ光のパルス幅が所定の値まで短くなるようにレーザ光のパルス幅を制御して、並列して配置された複数の放電励起式ガスレーザ増幅系３０４（１）及び３０４（２）並びに３０５（１）及び３０５（２）において該レーザ光を増幅するレーザシステム３と、複数のレーザ増幅系からレーザ光が順次出射するようにレーザシステム３の動作タイミングを制御するレーザシステム制御装置４とを含む。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源装置において、光学素子及びその他の構成要素がデブリで汚染または損傷されることを抑制し、これらの長寿命化を実現する。
【解決手段】チャンバ内においてターゲット物質のプラズマを発生させることにより極端紫外光を発生する極端紫外光源装置１であって、ターゲット物質に第１レーザ光３４を照射することによりプリプラズマを発生させる第１レーザ部と、プリプラズマに第２レーザ光３５を照射することにより極端紫外光を発生するメインプラズマを発生させる第２レーザ部と、チャンバ内に磁場Ｂを発生させてプリプラズマ及びメインプラズマの内の少なくとも１つの状態を制御する磁場発生部と、を具備する。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ光源のチャンバ装置において、ターゲット噴射ノズルから噴射される液滴ターゲットの噴射方向が所定の噴射方向から傾いた場合でも、ターゲット噴射ノズルの位置又は角度を調整してＥＵＶ光の安定供給を維持することができるターゲット軌道計測及び制御装置を提供する。
【解決手段】この装置は、ターゲット噴射ノズルの位置と角度との内の少なくとも一方を調整するノズル調整機構と、ターゲット軌道を計測することにより、ターゲット軌道に関する軌道情報を取得するターゲット軌道計測部と、軌道情報によって表されるターゲット軌道と所定のターゲット軌道との間の角度偏差に関する値を求めるターゲット軌道角度検出部と、角度偏差に関する値に基づいて、液滴ターゲットが所定のレーザ光照射位置を通過するようにノズル調整機構を制御するノズル調整コントローラとを含む。 （もっと読む）

【課題】コレクタアセンブリの効率を改善し効果的な放射源を提供する。また、放射生成のために使用される励起パワーを減少させることができ、励起源の寿命を延ばすこと。さらに、ＥＵＶ放射に対する集光の効率を改善すること。
【解決手段】リソグラフィにおける使用のためのレーザ生成プラズマ極端紫外線源における使用のためのコレクタアセンブリは、コレクタ本体内に集光ミラーおよび窓を有するコレクタ本体を有する。窓は、励起ビーム、一般的には、赤外線レーザビームを透過し、それによってビームはプラズマを励起するために窓を通り抜けることができる。また、窓はその表面上にＥＵＶミラーを有しており、当該ＥＵＶミラーも励起ビームを透過するが、プラズマによって生成されたＥＵＶを集光ミラーの集光箇所へと反射することができる。窓は、集光効率を改善し、集光箇所におけるイメージの非均一性を減少させる。放射源、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法は、コレクタを使用することができる。 （もっと読む）

【課題】回転する電極の回転速度を速くすることなく、高い繰り返し周波数で、安定してスズを放電領域に供給し、ＥＵＶの安定した発光が可能な極端紫外光光源装置を提供する。
【解決手段】周辺部を対向して配置した第１および第２の円盤状の放電電極と、上記第１および第２の放電電極を、それぞれの円の中心を回転中心として回転させる電極回転手段と、上記放電電極にパルス電力を供給するパルス電力供給手段と、上記第１および第２の放電電極上に、極端紫外光を放射させるための液体または固体の原料を供給する原料供給手段と、上記放電電極上に供給された上記原料に対しエネルギービームを照射し、当該原料を気化させて上記一対の放電電極間で放電を開始させるエネルギービーム照射手段とを備えた極端紫外光光源装置において、エネルギービームを、上記第１の電極と第２の電極上の上記原料に対して、あらかじめ設定した周波数で交互に照射する。 （もっと読む）

【課題】ＬＰＰ ＥＵＶ光源の作動プロセス中に生成される微粒子及びデブリをより良好に制御すること。
【解決手段】集光ミラーと、ターゲット材料経路に沿って複数の液滴を排出するように位置合わせされた液滴出口を有する液滴生成システムと、第１の捕集部とを含み、第１の捕集部は、ターゲット材料経路と実質的に位置合わせされた第１の開放端部と、第１の捕集部の第２の端部の方向に向かう少なくとも１つの内表面とを含み、第２の端部は第１の開放端とは反対側にある、極紫外光チャンバ内で極紫外光を生成するシステム及び方法。 （もっと読む）

【課題】広いダイナミックレンジで、高速かつ高精度なレーザエネルギー制御を行う。
【解決手段】シングルまたはマルチ縦モードレーザ光を出力する再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡと、再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡの増幅ラインの範囲において、シングルまたはマルチ縦モードレーザ光が発振可能で該シングルまたはマルチ縦モードレーザ光を再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡに入力する半導体レーザ４であるマスタオシレータと、半導体レーザ４から出射されるシングルまたはマルチ縦モードレーザ光の波長が再生増幅器９、プリアンプＰＡおよびメインアンプＭＡの増幅ラインに一致するようにマスタオシレータを波長制御するとともに、シングルまたはマルチ縦モードレーザ光のパルス波形および／またはパルス出力タイミングを調整する波形制御を行う半導体レーザシステム８と、を備える。 （もっと読む）

極端紫外光源は、レーザ生成プラズマ（３）において極端紫外放射を生成することが可能な生成位置と、極端紫外線をコリメートする集光光学系（６）とを備える。加圧ガス流入が、生成位置で発生したデブリ（４）から集光光学系（６）を保護するために、生成位置と集光光学系（６）との間でガスカーテンを形成する。このガス流入は、集光光学系（６）の表面に沿うように送られる。したがって、集光光学系（６）をデブリ（４）から遮蔽することによって、集光光学系（６）の寿命が延びる。この遮蔽ガスをさらに用いて、集光光学系（６）を冷却することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の極端紫外光源装置は、溶融状態のターゲット物質に接触する面が、ターゲット物質によって侵食され、ターゲット物質と反応したり、削られたりするのを抑制する。
【解決手段】ターゲット発生部１２０は、ドロップレット状の溶融した錫をターゲット２０１として、チャンバ１０１内に噴射する。ノズル部１２１及びタンク部１２２の各面のうち、溶融状態の錫に接触する箇所には、錫に対する耐侵食性を有する保護膜が形成される。あるいは、溶融状態の錫に接触する部分は、耐侵食性及び耐熱性等を備える材料から形成される。 （もっと読む）