【課題】ほぼ均一な強度で所望のパルス幅を実現できるドライバレーザを用いて、効率的にＥＵＶ光を得ることができる極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、ターゲットにレーザビームを照射することにより極端紫外光を発生するレーザ生成プラズマ型極端紫外光源装置であって、極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内の所定の位置に液体又は固体の金属ターゲットを供給するターゲット供給手段と、互いに異なる遅延を伴う複数のパルスレーザビームを合成して強度が略均一の単一パルスレーザビーム又はパルス列レーザビームを生成し、ターゲット供給手段によって供給されるターゲットに該レーザビームを照射することによりプラズマを生成するレーザビーム生成部と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するコレクタミラーとを具備する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内に配置された要素の特性や性能が劣化することを抑制する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザシステムおよび前記レーザシステムから出力されるレーザ光を集光する集光光学系と共に用いられるチャンバ装置であって、前記レーザ光を内部へ導入するための入射口を有するチャンバと、前記チャンバに取り付けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給システムと、前記チャンバ内に配置され、前記チャンバ内で前記ターゲット物質に前記レーザ光が照射されて発生した帯電粒子を回収するための回収部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質又はプラズマによって反射されてドライバレーザに戻る反射光（戻り光）によるドライバレーザの故障を防止する極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源装置は、チャンバ内にターゲットを供給するターゲット供給部と、ドライバレーザから出射されるレーザ光をターゲットに集光することによってプラズマを発生させるレーザ集光光学系と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するＥＵＶ集光光学系と、所定の光路を通過したレーザ光の第１の直線偏光成分を円偏光成分に変換しながら反射し、集光されたレーザ光がターゲット又はプラズマによって反射されて生じた戻り光の円偏光成分を第２の直線偏光成分に変換しながら反射するリターダーと、レーザ光の光路に配置され、第１の直線偏光成分を反射して第２の直線偏光成分を吸収するコーティングミラーとを具備する。 （もっと読む）

【課題】ピンチプラズマのパルス生成器を提供する。
【解決手段】パルス放電型極紫外線（ＥＵＶ）光源のための磁気的にシールドされた効率的なプラズマ生成構造であって、定常磁場に平行な軸に取り付けられる２つの対向する凸電極１０、２０を含む。電極間に配置されるリミッタ開口は、磁場線と共に、電極間をつなぐ中空プラズマシリンダ９０を画定する。高パルスの電圧および電流は、プラズマシリンダ９０およびその内部磁場を圧縮し、同時に各側面から電極チップ間の空間に向けて活動ガスを進めるような磁気絶縁層を形成する。プラズマは次いで径方向に３次元圧縮するように崩壊し、デバイスの軸上に、極紫外線の放出を伴う高密度プラズマを形成する。 （もっと読む）

【課題】放射線源から照明器へ放射線が進む領域内でのガスの個別の提供が、その領域内のデブリ粒子の抑制に関連してはるかに少ない放射線源装置を提供すること。
【解決手段】本発明のリソグラフィ装置は、放射線を発生するための放射線源と、放射線を調整するための照明システムと、調整された放射線にパターンを付与するためのパターン付与デバイスと、パターンが付与された放射線を基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを含む。照明システムは、放射線の発生によって解放されるデブリ粒子を抑制するためのデブリ抑制システムと、放射線を収集するための光学システムとを含む。デブリ抑制システムは、放射線源から光学システムへ放射線が進む経路内で、デブリ粒子を直接蒸発させるように、デブリ粒子を直接荷電するように、またはデブリ粒子からプラズマを直接発生させるように、あるいはそれらの任意の組合せを行うように配置される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生ＥＵＶ光源発生器の環境において又は特に液体噴出ターゲット液滴発生器のターゲット液滴発生における圧電材料の利用に関連することができる問題に対処する。
【解決手段】磁歪材料又は電歪材料を含むターゲット液滴形成機構と出力オリフィスで終端する液体プラズマ源材料通路と液滴形成噴出流又は選択経路に沿って通路を出る個々の液滴に電荷を印加する帯電機構と出力オリフィスとプラズマ開始部位の中間にあって液滴を選択経路から定期的に偏向させる液滴偏向器と入力開口部と出力オリフィスとを有する液体ターゲット材料供給通路を含む液体ターゲット材料供給機構と液体ターゲット材料内で外乱力を発生させる外乱起電力発生機構と出力オリフィスを有する液体ターゲット供給液滴形成機構と及び／又は出力オリフィスの周辺の湿潤障壁とを含むことができるＥＵＶプラズマ形成ターゲット供給システム及び方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】エネルギー変換効率を向上する。
【解決手段】レーザ装置は、一方の主面側に入射した第１レーザ光の一部を第１反射光として反射するとともに残りの一部を第１透過光として透過し、且つ、他方の主面に入射した第２レーザ光の一部を第２透過光として透過するとともに残りの一部を第２反射光として反射するミラーと、前記第１透過光と前記第２反射光との光軸、もしくは、前記第１反射光と前記第２透過光との光軸が略一致するように、前記ミラーへ前記第１および第２レーザ光を入射させる光学系と、前記第１透過光または前記第１反射光のビームパラメータを計測する第１計測部と、前記第２反射光または前記第２透過光のビームパラメータを計測する第２計測部と、前記第１計測部の計測結果に基づいて前記第１レーザ光を調整する第１調整部と、前記第２計測部の計測結果に基づいて前記第２レーザ光を調整する第２調整部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】パルス周期に対して不十分なプラズマの放出期間が改善されたガス放電発生プラズマベースの放射線源によって、短波長放射線を発生する。
【解決手段】エミッタが、真空チャンバ１に配置された２つの電極２間のパルス状電流によってイオン化および圧縮され、放出プラズマ３を形成する。プラズマ３は、パルス状電流のパルス繰り返し周期が、プラズマ３の寿命より短く調整され、パルス状電流の高周波数シーケンスによって、プラズマ３が、放出圧縮プラズマ３１の高エネルギ状態と緩和プラズマ３２の低エネルギ状態との間で周期的に交替しながら維持される。圧縮プラズマ３１を発生するための緩和プラズマ３２の励起用に、パルス繰り返し周期と等しいパルス幅を備えた５０ｋＨｚ〜４ＭＨｚのパルス繰り返し周波数ｆがパルス状電流用に用いられ、励起エネルギが、緩和プラズマ３２に結合される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光生成装置のＣＥを向上させる。
【解決手段】極端紫外光源装置は、レーザビーム生成システムと、前記レーザビーム生成システムから出力される少なくとも１つのレーザビームの光強度および出力タイミングの少なくともいずれか一方を制御するレーザ制御システムと、前記レーザビーム生成システムから出力される前記少なくとも１つのレーザビームを内部に導入するための少なくとも１つの入射口が設けられたチャンバ１と、前記チャンバ１に設けられ、前記チャンバ１内の所定の領域にターゲット物質を供給するターゲット供給部２と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】照射可能領域を拡大する。
【解決手段】光学装置は、入射する第１のレーザ光をビーム断面が円環状の第２のレーザ光に変換する第１のビーム整形部と、前記第２のレーザ光を第１の所定の位置に集光して、ベッセルビームを形成させる第１の集光光学素子と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内において構成部品の位置又は傾きを調整するための姿勢制御機構を最適化する。
【解決手段】極端紫外光を生成するチャンバ装置は、壁部に第１の貫通孔が設けられ、内部でＥＵＶ光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内に配置されるＥＵＶ集光ミラーと、チャンバ外に配置され、ＥＵＶ集光ミラーの姿勢を制御する姿勢制御機構と、第１の貫通孔を介してＥＵＶ集光ミラーと姿勢制御機構とを接続する支持部と、第１の貫通孔を覆うように設けられ、少なくとも１つの第２の貫通孔を有するフランジと、少なくとも１つの第２の貫通孔の周囲に固定された一端と、支持部に固定された他端とを有し、支持部の側面の少なくとも一部を囲んでチャンバ内の密閉を維持する伸縮管と、を備えても良い。 （もっと読む）

【課題】レーザ光を効率的に増幅する。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置は、レーザ装置と、前記レーザ装置から出力されたレーザ光を入力して所定のターゲット物質に集光し、該レーザ光の集光によって励起した前記所定のターゲット物質から放射した極端紫外光を集光しつつ出力するチャンバと、を備える。レーザ装置は、スラブ型増幅装置と、前記光を出力するマスタオシレータと、前記スラブ型増幅装置から出力された光を増幅する増幅器と、を備える。スラブ型増幅装置は、自由空間軸と導波軸とを有する第１スラブ型増幅器と、前記第１スラブ型増幅器の入力段に配置され、該第１スラブ型増幅器に入力する光の偏光方向および断面形状の少なくとも一方を変換する第１ビーム調節部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 光軸を画定する放射ビームを生成するための放射システムが提供される。
【解決手段】 放射システムは、ＥＵＶ放射を生成するためのプラズマ生成放電源を含む。放電源は、電圧差を提供する１対の電極と、電極間にプラズマ内の放電を提供するために１対の電極間にプラズマを発生させるためのシステムとを含む。また、放射システムは、電極からのデブリを捕捉するためのデブリ捕捉シールドを含む。デブリ捕捉シールドは光軸に対して所定の球面角で提供された見通し線から電極を遮蔽し、見通し線内の電極間の中央領域に開口を提供するように構成され配置されている。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光を生成する部品の位置合わせ精度を向上する。
【解決手段】フレームと、極端紫外光の生成が内部で行われるチャンバと、チャンバの内部にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、フレームとチャンバとをフレキシブルに接続するための第１の接続部材と、ターゲット供給部をフレームに固定するための機構と、ターゲット供給部をチャンバにフレキシブルに接続するための第２の接続部材と、を備えてもよい。チャンバには貫通孔が形成されてもよく、第２の接続部材は、チャンバの貫通孔の周囲と、ターゲット供給部とをフレキシブルに接続し、チャンバを密閉するためのフレキシブル管であってもよい。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマに基づいた極紫外（ＥＵＶ）放射線発生のソース位置を安定させるための方法および装置を提供する。
【解決手段】本発明は、放電プラズマに基づいたＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための方法および装置に関する。ソース位置の位置変化を放射線ソースの動作中に単純な方法で補償できるようにする、ＥＵＶ放射線の発生中にソース位置を安定させるための新規な可能性を見い出すという目的は、第１のビーム整列ユニット（７）、第２のビーム整列ユニット（４）、およびビーム集束ユニット（５）が、蒸発ビーム（３）に配置され、かつ第１〜第３の測定装置（８、９、１０）に接続され、かつ基準値に対する蒸発ビーム（３）の方向偏差および発散偏差を取得および補償するために調整可能であるという点で、本発明によって達成される。 （もっと読む）

【課題】ターゲット物質又はプラズマによって反射されてドライバレーザに戻る反射光（戻り光）によるドライバレーザの故障を防止する極端紫外光源装置を提供する。
【解決手段】この極端紫外光源は、チャンバ内にターゲットを供給するターゲット供給部と、レーザ光を出射するドライバレーザと、レーザ光をターゲットに集光することによってプラズマを発生させるレーザ集光光学系と、プラズマから放射される極端紫外光を集光して出射するＥＵＶ集光光学系と、集光されたレーザ光がターゲット又はプラズマによって反射されてドライバレーザに入射する戻り光の量を低減する空間フィルタと、空間フィルタを通過する戻り光を検出する戻り光検出器と、レーザ集光光学系に含まれている光学素子の位置を調節する位置調節機構と、戻り光検出器によって検出される戻り光の量に基づいて位置調節機構を制御する制御部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】中間集光点以降における照度分布測定を、露光装置側に照度分布を測定する手段を設けることなく、極端紫外光光源装置単体でも行うことができるようにすること。
【解決手段】ＥＵＶ光源装置において、集光鏡６と中間集光点ｆの間に、中間集光点ｆに集光するＥＵＶ光だけを抽出する多孔板２０１と蛍光板２０２と折り返しミラー２０３と受光検出器２０５を設ける。多孔板２０１には、中間集光点ｆに向かう光のみが通過するように配置された多数の貫通孔が設けられており、受光検出器２０５には中間集光点ｆに集光する光のみが受光される。受光検出器２０５で検出した点状の照度分布は画像処理部１０で補間処理され、中間集光点ｆに集光する光の照度分布が復元される。これにより、集光点ｆに集光するＥＵＶ光の照度分布の悪化を知ることができ、また、ＥＵＶ光の照度分布が良くなるように、集光鏡６を移動させ照度分布を改善することができる。 （もっと読む）

【課題】真空容器内のＥＵＶ光源の異常を、大気解放することなく早期に発見する。
【解決手段】大気圧以下の減圧下でプラズマを発生し、プラズマから放射されるＥＵＶ光を取り出すＥＵＶ光源と、ＥＵＶ光源からのＥＵＶ光を、所望の半導体パターンが形成されたマスクに導く第１の光学系と、マスクからの反射光又はマスクの透過光を試料上に導く第２の光学系と、を備え半導体露光装置において、光源のアコースティックエミッションを検出する検出部１８０を設け、検出部１８０の出力から光源の異常を検出する。 （もっと読む）

【課題】ドロップレットをプラズマ生成領域に到達させることができるチャンバ装置を提供する。
【解決手段】チャンバ装置は、レーザ装置と共に用いられるチャンバ装置であって、レーザ光を内部に導入するための入射口が設けられたチャンバと、前記チャンバに絶縁体を介して設けられ、前記チャンバ内の所定の領域にターゲット物質を供給するためのターゲット供給部と、前記チャンバ装置に接続される電位制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】光学系に使用されるミラーの熱変形は、抑えることが望ましい。
【解決手段】光反射面を有する反射膜１１と、反射膜を支持するミラー基部１２とを備えた平面ミラー１でのミラー基部に、当該ミラー基部の外表面の少なくとも１箇所に開口するとともに、当該ミラー基部での反射膜の背面側の少なくとも１箇所に開口する第１流路Ｐ１と、少なくとも一部が反射膜の背面側に位置し、第１流路側から当該ミラー基部の側端側にかけて放射状に延在する複数の第２流路Ｐ２と、複数の第２流路の各々に接続されるバッファタンク部ＰＢと、バッファタンク部に一端が接続され、他端が前記ミラー基部の外表面に開口する第３流路Ｐ３とを含む流路ＦＰを設ける。 （もっと読む）