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Fターム[4C092BD13]の内容

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Fターム[4C092BD13]に分類される特許

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【課題】放電チャンネルの位置を画定可能とし、放電チャンネルにおける高温プラズマ原料の密度を適宜設定できるようにし、また、ロングパルス化を可能するとすること。
【解決手段】高温プラズマ原料21に第1のエネルギービーム23を照射して気化させる。気化した原料が放電領域に到達したとき、電極11,12間にパルス電力を印加するとともに第2のエネルギービーム24を照射する。これにより、プラズマが加熱励起されてEUV放射が行われる。放射されたEUV放射はEUV集光鏡2により集光され取り出される。第1、第2のレーザビーム23,24を照射しているので、高温プラズマ原料の空間密度分布を所定の分布に設定するとともに、放電チャンネルの位置を画定することが可能となる。また、放電経路にイオン密度が極端紫外光放射条件におけるイオン密度にほぼ等しい原料ガスを供給することで、EUV放射のロングパルス化が可能となる。 (もっと読む)


【課題】従来の製品より小形でありながら、しかも高エネルギーでより小径なスポットのX線を発射することが可能なX線源を得る。
【解決手段】X線源は、電子線を発射する電子線源と、この電子線源から発射された電子線を高周波電場で加速する加速管と、この加速管で加速された高エネルギの電子を衝突させてX線を放出するターゲットとを有する。加速管はターゲットに向けて発射される電子線のスポット径を1mm以下とし、ターゲットはX線案内孔を有するコリメータを備え、このコリメータのX線案内孔の孔径を0.6mm以下としている。より具体的には、電子線源から加速管に向けて発射される電子線のスポット径を1mm以下とし、加速管でこの電子線を加速し、前記のターゲットに衝突させる。 (もっと読む)


【課題】極端紫外光発生部から放出されるデブリが集光光学手段に到達しないように容器内のガスの流れを制御し得るようにすること。
【解決手段】集光鏡2の光射出側から光入射側へのガス流が形成されるように、集光鏡2の光射出側に第2ガス供給ユニット16b、第2ガス排気ユニット9bを配置し、第2ガス供給ユニット16bから供給されるガスを集光鏡2の内側を通って第1ガス排気ユニット9aから排気させる。そのため、例えば、容器(チャンバ10)の内壁を内側に突き出させ、ガスがすべて集光鏡2の内側を通過するように構成する。また、ホイルトラップ3と集光鏡2を一体化し、集光鏡2の内側を流れたガスがホイルトラップ3の内側のみを通過するようにしてもよい。また、上記ガスとして、付着堆積したデブリを除去するクリーニング効果のあるクリーニングガス、あるいはその混合ガスを用いてもよい。 (もっと読む)


【課題】コレクタミラーの冷却機構と回転機構とを両立させることにより、コレクタミラーの寿命を伸長させる。
【解決手段】極端紫外光を反射する反射面が形成されており、プラズマから放射された極端紫外光を反射して所定の方向に導くコレクタミラー10と、該コレクタミラーの背面側に配置された冷却媒体用流路23と、該冷却媒体用流路に冷却媒体を導入する配管21と、冷却媒体用流路から冷却媒体を導出する配管22とを含む冷却装置20と、コレクタミラーを円周方向に回転させる回転装置30と、コレクタミラーの反射面における損耗量に関連付けられた値に基づいて、回転装置によってコレクタミラーを回転させるタイミングと回転角度とを決定する制御装置100とを有する。 (もっと読む)


【課題】LPP型EUV光源装置において、コレクタミラーのメンテナンスのコストを低減する。
【解決手段】ターゲット物質にレーザビームを照射して該ターゲット物質をプラズマ化することにより極端紫外光を生成する極端紫外光源装置において、極端紫外光を集光する際に用いられるコレクタミラー10であって、極端紫外光を反射する反射面が複数の領域に分割されており、複数の領域の内の一部の領域を含む交換用ミラー12と、複数の領域の内の他の領域を含むコレクタミラー本体11とを有し、交換用ミラー12がコレクタミラー本体11に対して取り外し可能となっている。 (もっと読む)


電子を放射するための陰極とダイナミック陽極とを含んでいるX線管を含んでいるX線結像システムを提供する。ダイナミック陽極は陰極から電子を受取り、非静止のX線ビームを発生する。ダイナミック陽極は非静止ビームを発生するために、X線ビームがオブジェクト上の第1の位置で誘導されている第1の位置と、X線ビームがオブジェクト上の第2の位置で誘導されている第2の位置との間で回転する。 (もっと読む)


【課題】出射側開口端から被検査体までの作動距離を長くすることができ、表面に凹凸がある被検査体の分析、蛍光X線分析、X線回折分析を被検査体の大きさに拘わらず行うことができるX線集束素子及び該X線集束素子を備えるX線照射装置を提供する。
【解決手段】X線遮蔽部材23は、入射側開口端の口径(キャピラリ20の外径)と略同径の環状部材232からX線遮蔽部材23を支持する3本の支持部材233をX線遮蔽部材23の中心に向かって設け、環状部材232をキャピラリ20に固定している。環状部材232、支持部材233、X線遮蔽部材23は、タンタル、タングステン、モリブデンなどのX線を遮蔽する金属を用いて一体成形により形成する。X線遮蔽部材23の軸方向寸法(厚さ)は、X線を遮蔽するのに十分な寸法に設定する。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも一つのEUV(extreme ultraviolet)光源(3)と、特に、有効利用する波長の範囲で、前記EUV光源(3)の、又は前記EUV光源(3)の中間像の一つの強度変動及び/又は位置変化を測定する開口絞り及びセンサ装置(1)とを備えたEUV照明システムにおいて、前記開口絞り及びセンサ装置(1)は、開口絞り(2.1)とEUV位置センサ(2.3)とを有し、前記開口絞り及びセンサ装置(1)は、前記開口絞り(2.1)が前記EUV光源(3)から、又はその中間像(7)の一つから発せられる照射の所定の立体角範囲が前記EUV位置センサ(2.3)に当たるように配置される、EUV照明システムに関する。 (もっと読む)


【課題】 診断用X線としての単色硬X線と治療用X線としての特性X線を切換えて発生することができる診断・治療用X線切換え発生装置を提供する。
【解決手段】 パルス電子ビーム1を加速して所定の直線軌道2を通過させる電子ビーム発生装置10と、パルスレーザー光3を発生するレーザー発生装置20と、パルスレーザー光3を直線軌道2上にパルス電子ビーム1に対向して導入するレーザー光導入装置30と、パルス電子ビーム1の衝突により特性X線5を発生する金属ターゲット42を直線軌道上の衝突位置2aと軌道外の退避位置との間で移動可能なターゲット移動装置40とを備える。金属ターゲット42の衝突面は、衝突点2aと空間的に同一位置に位置する。金属ターゲットの退避位置でパルス電子ビーム1とパルスレーザー光3の衝突で単色硬X線4を発生し、金属ターゲット42の衝突位置でパルス電子ビーム1と金属ターゲット42の衝突により同一の光源位置2aから特性X線5を発生する。 (もっと読む)


【課題】 高輝度化及び小型化できるX線発生器を提供する。
【解決手段】 電子を発生する電子発生手段(カーボンナノチューブ20、引き出し電極24)及び支持部材14に支持されたX線ターゲット12を真空管18内に備え、前記電子発生手段から前記X線ターゲット12へ電子を照射することにより生じるX線を所定位置へ導く管状のX線ガイド手段(X線ガイドチューブ)30を真空管18外に備えるX線発生器において、真空管18に設けた凹部28にX線ガイド手段30を挿入した構成とする。 (もっと読む)


【課題】 X線のノイズを低減させて、かつ正規のX線が制限されることなくX線を発生させることができるX線発生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 陰極11からの電子ビームBのターゲット12への衝突によりX線を発生させるX線管1において、ターゲット12の陰極11側とは反対側のX線発生側には、ターゲット12に近接して遮蔽アパーチャ19を配設しており、この遮蔽アパーチャ19はX線通過孔19aを有している。X線検出器2の有効面積Sに相当したX線有効照射領域Tを少なくとも通すようにX線通過孔19aを形成している。このように形成することで、X線のノイズを低減させて、かつ正規のX線が制限されることなくX線を発生させることができる。 (もっと読む)


本発明は、所望波長範囲の放射波をある放出方向に発生させる方法に関する。本方法によれば、その波長が該所望範囲を含んでいる初期放射波を放射波供給源により作り出し、この初期放射波を、波長が所望範囲外の初期放射波のビームを実質的に除去するように濾波する。本発明の方法は、初期放射波のビームをその波長に応じて選択的に偏向させて、所望波長のビームを回収するように、初期放射波が通過するコントロール領域においてビームの屈折率の制御された分布を作り上げることにより濾波を行うことを特徴とする。本発明は関連する装置にも関する。
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x線源アセンブリは、アセンブリに供給される電力レベルに基づいて電子が入射するスポットを有するアノードと、スポットで生成される発散X線を受け取り、アセンブリから出力X線を送るように結合された光学系とを含む。X線源アセンブリの動作中に出力X線の強度を動的に維持する制御系であって、アセンブリに供給される電力レベルを変更することにより、X線源アセンブリの少なくとも1つの動作条件が変化しても出力強度を維持する制御系が提供される。制御系は、例えばアセンブリに関連する電源を制御することにより、アセンブリに供給される電力レベルを変化させる少なくとも1つのアクチュエータを含むことができる。制御系は、出力強度を維持するためにアノードの温度および/または位置も変更することができる。

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CT撮像システムは、X線コーンビームを検査領域(14)に挿入するX線管(12、212)を含む。このX線管(12、212)は、ターゲットの外部表面領域を持つ回転する円柱状陽極(30、230、330、430)を含む。この円柱状陽極(30、230、330、430)は長軸方向に並べられた円柱軸(32)の周りを回転する。電子は、この円柱状陽極(30、230、330、430)の前記ターゲットの外部表面領域上にある選択した焦点に向かい加速される。電子又は電磁気デフレクタは、前記円柱状検査領域の前記ターゲットの外部表面領域にわたって前記選択した焦点を前後に掃引する。前記撮像システムはさらに、円柱軸に平行な回転軸の周りにある検査領域の周りをX線管に回転させる回転ガントリ(22)及び前記X線が前記検査領域(14)を通過した後のX線を検出するように構成されるX線検出器を有する。
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