【課題】複数の半導体製造装置から排出される排ガスを処理する装置や工程を簡略化する。
【解決手段】排ガス処理装置１０は、複数の半導体製造装置２０から排出される排ガスを処理する排ガス処理装置１０であって、複数の半導体製造装置２０から排出されるそれぞれの排ガスを集めて混合し収容するガス収容部４０と、ガス収容部４０で混合された混合ガスを希釈ガスで希釈する希釈部５０と、混合ガスを除害する除害部５２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】脱臭効率を向上でき目詰まりを抑制できるガス処理装置および担体充填体を提供する。
【解決手段】このガス処理装置１０は、菌液を収容する処理槽１１と、処理槽内の菌液を配管１２を通して循環させる循環駆動部１３と、処理対象のガスと処理槽からの菌液とを混合するように配管に配置された混合部１４と、ガス処理のための微生物を保持する多数の微生物担体を配管内に固定して充填した担体充填部１５と、を備え、担体充填部は、混合部の下流側に設けられ、混合部からの混合物が供給される。 （もっと読む）

【課題】排ガスから水分を除去するために必要なエネルギーを削減でき、二酸化炭素を効率良く回収することができる排ガスからの二酸化炭素回収システムを提供すること。
【解決手段】二酸化炭素回収システム１０は、二酸化炭素を回収するサブリメータ３５と、ラインＬ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４と、ラインＬ１０ａ，Ｌ１０ｂ，Ｌ１１，Ｌ１２と、熱交換器１３，１５と、コンデンサ１６と、排ガスが含む水分を更に除去するドライヤ２０，２４と、を備える。ドライヤ２０，２４は、排ガスの水分を吸着すると共に、加熱されることにより吸着した水分を放出して再生する水分吸着剤（活性アルミナ）を有し、水分吸着剤を加熱して再生させるために、熱交換器１３を経た排ガスをドライヤ２０，２４に供給するラインＬ１３と、ドライヤ２０，２４を経た排ガスをラインＬ１２に戻すラインＬ１４と、を備える。 （もっと読む）

【課題】排ガスから回収された固体二酸化炭素の液化に必要なエネルギーを削減でき、システム全体のエネルギー効率を高めることができる排ガスからの二酸化炭素回収システムを提供すること。
【解決手段】二酸化炭素回収システム１０は、ドライアイス及び液体二酸化炭素を貯蔵可能に構成された一対の二酸化炭素貯蔵液化タンク４１，４４と、サブリメータ３５からドライアイスを導入するラインＬ５，Ｌ７と、液体二酸化炭素を排出するラインＬ６，Ｌ８と、ラインＬ５，Ｌ６，Ｌ７，Ｌ８を開閉するバルブ４２，４３，４５，４６と、二酸化炭素貯蔵液化タンク４１，４４の内部状態を監視するドライアイス量検出センサ６２、温度センサ６３及び圧力センサ６４と、これらの監視結果に基づいてバルブ４２，４３，４５，４６を開閉制御する制御装置６０と、を備える。 （もっと読む）

高濃度ＮＯ₂ガスを用いて滅菌対象物を滅菌した使用済みの排ガスを排出する排気システムであって、オゾン発生装置と、該オゾン発生装置で生成したオゾンおよび排ガス中のＮＯ₂を吸着するとともに双方の化学反応による無水硝酸の生成、或いは硝酸の生成を促進してこれらを保持するガス処理手段と、排ガスを排出する排気装置とを備えたことを特徴とする排気システムを提供する。この排気システムは、通常のレベルを超える濃度の高濃度ＮＯ₂を、効果的かつ確実に浄化できる。
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【課題】プローブの大型化や他の装置の耐久圧化を回避し、設備コストの大幅な増大を伴うことなく、塩素バイパスでの塩素除去効率を向上させる。
【解決手段】セメントキルン３１の窯尻からプレヒータの最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を抽気するとともに、抽気した燃焼ガスを低温ガスにより冷却するプローブ２と、プローブ２で抽気した抽気ガスＧ１に含まれる粗粉Ｄ１を分離する分級機としてのサイクロン３４と、サイクロン３４から排出された排ガスＧ２を冷却する冷却器３５と、微粉Ｄ２を含む排ガスＧ２を固気分離するバグフィルタ３７とを備えた塩素バイパスシステム１であって、プローブ２と冷却器３５の間にブーストファン３を設けた塩素バイパスシステム１。 （もっと読む）

【課題】煙道ガス処理で使用するための蒸気を供給すること。
【解決手段】発電プラント（１０）において蒸気タービン（１６）の低圧セクション（１４）から煙道ガス加工ユニット（１８、１９）に蒸気を供給するように蒸気タービン（１６）を構成するためのシステム及び方法。本発明の一態様では、燃料を燃焼し、液体水を蒸気に蒸発させて燃焼排出ガスを放出するボイラーと、ボイラーから放出される燃焼排出ガスを加工する処理ユニットと、ボイラーから蒸気を受け取り、シャフト、中圧セクション及び低圧セクションを有し、且つ低圧セクションから分離ユニットに蒸気を提供するよう構成された蒸気タービンと、蒸気タービンのシャフトに結合され且つ蒸気タービンによって駆動されて電気を発生する負荷とを有する発電プラントが提供される。 （もっと読む）

【課題】高濃度のＨＦを含有する高温ガスの冷却装置において、装置部材のＨＦ腐食を緩和するパーフルオロコンパウンドの分解処理装置及びそれを用いた処理方法を提供する。
【解決手段】被処理ガス中のパーフロオロコンパウンドを分解する分解装置と、前記パーフルオロコンパウンドを分解した後のガスを湿式方法により冷却する冷却装置と、前記パーフルオロコンパウンドを分解した後に生成するＨＦを含む酸性ガスを除去する酸性ガス除去装置と、を具備するパーフルオロコンパウンドの分解処理装置において、前記冷却装置において、ＨＦ中和剤を添加する。 （もっと読む）

【課題】酸素燃焼排ガスのように水分濃度が高い場合においても、脱硫装置の大きさを変えることなく、空気燃焼時と同等のＳＯ₂除去率を達成することが可能な排ガス処理装置を提供すること。
【解決手段】排ガス中の硫黄酸化物を吸収液を排ガス中に噴霧することで除去する脱硫装置５の内部の吸収液中に吸収液冷却装置２３を配置し、脱硫吸収液を５０℃以下にし、脱硫装置５の前流側又は後流側の排ガスの一部を循環ライン８を経由してボイラ１の燃焼部に循環して燃料の燃焼用に利用する酸素燃焼用石炭焚ボイラの排ガス処理装置である。 （もっと読む）

流体流から酸性ガスを除去するための吸収剤は、Ａ）第三級アミン基及び／又は立体障害した第二級アミン基のみを有する、少なくとも１の環式アミン化合物、及びＢ）少なくとも１の立体障害していない第二級アミン基を有する、少なくとも１の環式アミン化合物の溶液を含む。この吸収剤は、例えば、Ａ）１−ヒドロキシエチルピペリジン及び／又はトリエチレンジアミン及びＢ）ピペラジンの水溶液を含む。この吸収剤は、特に、煙道ガスからの二酸化炭素の分離のために適しており、かつ、次の基準を満たす：（ｉ）低いＣＯ₂分圧での十分な収容能；（ｉｉ）低いＣＯ₂分圧での十分に迅速な吸収率；（ｉｉｉ）酸素に対する安定性：（ｉｖ）溶媒損失の減少のための低い蒸気圧：及び（ｖ）吸収剤の再生のための低いエネルギー要求。
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【課題】ＣｌＦ₃とＦ₂を含む混合ガスを湿式スクラバーによって除害処理する際、難分解性物質のＣｌＯ₃Ｆの発生を抑制することができる除害方法を提供すること。
【解決手段】ＣｌＦ₃とＦ₂を含む混合ガスを湿式スクラバーによって、除害処理する前段階において、加熱反応部を設け、混合ガスにハロゲンガスを添加することによって、未反応のフッ素ガスをハロゲンガスと反応させ、未反応のフッ素ガスを大幅に低減させることを利用する。 （もっと読む）

【課題】セメントキルンから排出される燃焼排ガスから水銀を効率よく除去する。
【解決手段】プレヒータ５から排出されたセメントキルン２の排ガスＧ２に含まれるダストを集塵する集塵装置６と、セメントキルン２の窯尻部３又はプレヒータ５より抽気され、集塵装置６で集塵されたダストＤ１を加熱するための抽気ガスＧ３、又は集塵装置６で集塵されたダストＤ１を抽気ガスＧ３で加熱した後のガスＧ４に、塩素又は塩素化合物を添加する添加装置１７と、前記加熱によって揮発した水銀を回収する水銀回収装置１３とを備えるセメントキルン排ガスの処理装置１。集塵装置６で集塵されたダストＤ１中の粒子凝集体を分散させる分散装置９を備え、分散装置９によって粒子凝集体が分散したダストＤ２を抽気ガスＧ３によって加熱することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ミルの磨耗トラブルを解消し、石炭の無駄な消費を抑制すると共に、燃焼効率が低下するのを防止し、安定して石炭が供給可能な異物除去装置及び石炭中の異物除去方法を提供する。
【解決手段】第一の異物除去装置１０は、パイライト１１、石炭１２からなる石炭原料１３を供給し、パイライト１１を粗選別し、除去する選別手段１４と、粗選別した石炭原料１３中のパイライト含有量を判定し、パイライト含有量が２５％未満の石炭主体原料Ａと、パイライト含有量が２５％以上、１００％未満のパイライト含有石炭原料Ｂと、パイライト１１とに分別する第１の判定手段１５Ａと、パイライト含有石炭原料Ｂ中のパイライト含有量を判定し、パイライト含有量が２５％以上、５０％未満の第１のパイライト含有石炭ｂ１と、パイライト含有量が５０％以上、１００％未満の第２のパイライト含有石炭ｂ２とに分別する第２の判定手段１６Ａとを具備する。 （もっと読む）

【課題】排水に油分が含有されていても電気分解による浄化を従来よりも上手く行うことができる排水処理方法を提供しようとするもの。
【解決手段】水とプロトン性の両親媒性溶媒と非プロトン性の両親媒性溶媒と疎水性有機成分とを相溶させて電気分解することにより疎水性有機成分を浄化するようにした。前記疎水性有機成分としてＶＯＣガスを浄化することとし、前記ＶＯＣガスを水とプロトン性の両親媒性溶媒と非プロトン性の両親媒性溶媒からなる液滴で捕捉して電気分解するようにしてもよい。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置から排出される排ガス中に酸素や水分が含まれている場合に、排ガス処理装置に酸素や水分が流入することを抑制しながら排ガスを処理することができる排ガス処理システムを提供する。
【解決手段】 半導体製造装置８０から排出される排ガス中から酸素と水分の少なくとも一方を除去する除去装置３０と、除去装置３０通過後の排ガスを処理する排ガス処理装置２０を備える半導体製造装置８０の排ガス処理システム１０。 （もっと読む）

【課題】ＰＦＣ含有ガスを効率よく分解処理し、ＰＦＣ分解処理剤の交換回数をより低減させたガス処理装置を提供すること。
【解決手段】ガス処理装置１は、ＰＦＣ（パーフルオロ化合物）を含むガスを処理するガス処理装置１であって、ＰＦＣを含むガス中に含まれるＨ_２Ｏを低減させる水分除去装置１０と、水分除去装置１０でＨ_２Ｏが低減されたＰＦＣを含むガスを導入し、ＰＦＣを分解処理するＡｌ_２Ｏ_３とＣａＯの複合酸化物を含む分解処理剤が充填されたＰＦＣ処理装置２０を備える。 （もっと読む）

【課題】ガス精製プロセスにおいて，消費エネルギーの少ない酸性物質の除去方法および除去装置を提供する。
【解決手段】二酸化炭素と硫化水素を含む被処理ガス２１を第一吸収塔１へ導き，この中の吸収液と接触させて二酸化炭素と硫化水素を除去し，続いて被処理ガス２１を第二吸収塔２へ導き，この中の吸収液と接触させて残存している二酸化炭素と硫化水素を除去する。第一，第二吸収塔１，２で二酸化炭素と硫化水素を吸収した吸収液２５は，これらの吸収塔１，２よりも低い圧力に維持されたフラッシュタンク４へ導かれ，二酸化炭素と硫化水素の一部を放出し，一部は冷却されて第二吸収塔２へ導かれ，残部は再生塔５へ導かれて加熱されて残存する二酸化炭素と硫化水素を放出する。再生塔５に導かれた吸収液の一部は冷却されて第一吸収塔１へ導かれ，残部は冷却されて第二吸収塔２へ塔頂部に近い位置から導かれ，再び第二吸収塔２内の被処理ガスと接触させる。 （もっと読む）

【課題】アンモニア溶液の中で二酸化炭素を吸収することによって気体流から二酸化炭素を除去する改良された手段を提供する。
【解決手段】排ガス流から二酸化炭素を除去する方法は、以下のステップを備える。（ａ）二酸化炭素（１０２）を含む排ガス流をアンモニア（１０３）を含む第１の吸収用の液体と接触させる（１０１）ステップ。それにより、排ガス流中の二酸化炭素が除去され尽くす。（ｂ）ステップａで二酸化炭素（１０５）が除去され尽くした排ガス流を第２の吸収用の液体（１０７）と接触させる（１０６）ステップ。それにより、排ガス流からアンモニアを上述の第２の吸収用の液体に吸収させ、二酸化炭素およびアンモニア（１０９）が除去され尽くした排ガス流が生成される。（ｃ）第２の吸収用の液体からアンモニアを分離する（１１０）ステップ。それにより、アンモニア（１１４）を含む気体流が生成される。（ｄ）ステップｃで分離されたアンモニアを含む上述の気体流を第３の吸収用の液体（１１５）と接触させる（１１３）ステップ。それにより、アンモニアは上述の第３の吸収用の液体の中に吸収される。排ガス流から二酸化炭素を除去するためのシステムにおいて、当該システムは、二酸化炭素を吸収する装置群、アンモニアを吸収する装置群、および再吸収の装置群を備える。 （もっと読む）

吸収器、再生器、スクラバ、リボイラ、熱交換器またはこれらの組合せのうちの少なくとも１つから選択されるガス洗浄プロセス用プロセス容器を提供する。
プロセス容器は、セメント質材料から形成された上壁、下壁および少なくとも３つの側壁を有する。このプロセス容器はさらに、使用時に流体がプロセス容器に流入する入口ポートおよび、流体がプロセス容器から流出する出口ポートを有し、これらの入口ポートおよび出口ポートは、容器の上壁、下壁または側壁のうちの少なくとも１つに形成されている。この容器の側壁は多角形の断面を画定する。
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流体の分離のためのガス処理設備が提供される。この設備は、直列に置かれた並流接触装置を含む。各並流接触装置は、炭化水素ガスまたは窒素などの非吸収性ガスを含むガス流を受け入れる。ガス流は、また、酸性ガスまたは他の汚染物質も含む。各並流接触装置は、また、液体溶媒流を受け入れる。次いで、並流接触装置は、それぞれ、スイートニングされたガス流およびガス処理溶液を放出する。１つの処理方向において、接触装置は、段階的にスイートニングされるガス流を送り出すように配置構成される。反対の処理方向において、接触装置は、段階的によりリッチなガス処理溶液を送り出すように配置構成される。一態様において、設備は、第１の並流接触装置、第２の並流接触装置、および最後の並流接触装置を少なくとも含む。しかし、２以上の任意の数の並流接触装置が用いられ得る。ガス流を分離するための方法およびプロセスもまた提供される。 （もっと読む）